高真空热蒸发镀膜设备是一种利用电阻加热或电子束加热使材料蒸发,并在高真空环境下沉积到基片表面形成薄膜的 物理气相沉积(PVD) 设备。该系统广泛应用于光学薄膜、电子器件、装饰镀膜等领域。
高真空多功能真空镀膜机是一种集成了多种镀膜技术(如热蒸发、电子束蒸发、磁控溅射、离子镀等)的先进设备,能够在高真空环境下实现不同类型的薄膜沉积,满足科研与工业中对复杂薄膜的需求。
高真空多源热蒸发设备是一种基于电阻加热原理的物理气相沉积(PVD)设备,通过多个独立可控蒸发源(通常2-14个),在高真空环境(10⁻⁴~10⁻⁶ Pa)下实现:单质/合金薄膜的共蒸,多层复合结构沉积,梯度成分材料制备。
14源电阻式热蒸发设备是一种超多材料共蒸系统,通过高真空环境(10⁻⁴~10⁻⁶ Pa)和电阻加热蒸发,实现复杂组分薄膜的精确制备。
高真空六源热蒸发设备是一种基于电阻加热蒸发原理的镀膜设备,配备6个独立蒸发源,可在高真空(10⁻⁴~10⁻⁶ Pa)环境下实现多材料共蒸或顺序沉积,适用于复杂组分薄膜的制备。
团簇式高真空多功能镀膜设备是一种模块化、多腔室集成的先进镀膜系统,可在高真空或超高真空(10⁻⁴~10⁻⁷ Pa)环境下实现多种镀膜工艺的连续处理,避免样品暴露大气,提高镀膜质量和效率。
1、真空室腔体:1套。外形:304优质不锈钢D形前后开门真空室腔体1套,后门采用铰链式方门,方便清洗真空腔体,真空室内部调试,维修以及取放物品,前门采用横拉方门,真空室内部尺寸D350*480mm,前后门各配DN100视窗1套; 底部:有机源接口4套,JTFB-600风冷复合分子泵接口1套,CF25照明接口2套以及美国MCVAC水冷膜厚探头接口2套;
真空室腔体:1套;外形:304优质不锈钢D形前后开门(后门采用铰链式方门,方便清洗真空腔体,真空室内部调试,维修以及取放物品,前门采用横拉方门)真空室腔体1套(真空室内部尺寸D400*480mm),前后门各配DN100视窗1套; 底部:金属蒸发源接口8套, JTFB-600风冷复合分子泵接口1套,CF25照明接口2套以及美国MCVAC水冷膜厚探头接口2套; 顶部:样品台接口1套,电动挡板接口1套,KF16气动角阀接口1套;
该设备是一台超高温超高真空蒸馏炉,主要利用不同成分在相同温度下蒸汽压及冷凝温度不同的原理,用于高熔点稀有或稀土金属熔炼及蒸馏提纯。
镀膜设备以蒸发源为主体,适用于实验室制备金属单质、氧化物等,也可用作教学及生产线前期工艺试验等,整套设备操作简便,综合功能多,扩展空间大,适合及满足大专院校的教学与科研工作。
VIM-HC真空悬浮熔铸炉是在真空条件下将所熔炼的金属或非金属固体炉料,置于感应线圈所形成的高频或中频交变电场中,并利用通水冷却的金属坩埚作为磁场的“聚能器”,使能源磁场能量集中于坩埚容积空间,进而在炉料的表层附近形成强大的涡电流,一方面释放出焦耳热使炉料溶化,另一方面形成洛仑兹力场使熔体悬浮(或半悬浮)和搅拌。由于磁悬浮的作用,使熔体与坩埚内壁脱离接触,这样熔体与坩埚壁之间的散热行为由传导散热改变为辐射散热,从而导致散热速度聚减。使熔体可达到很高的温度,(1500℃—2500℃)宜于熔炼高熔点金属或其合金。
凝壳炉铸造用石墨型壳、陶瓷型壳真空下除气处理及金属材料的淬火后的回火及各种材料、零件真空下的脱脂除气。
主要用于石油、石化领域洁净不锈钢及航空、电力能源领域等薄壁不锈钢管的退火、时效处理;也用于奥氏体不锈钢管、铁镍基耐蚀合金管及高温合金管等管棒材的固溶处理。
主要用于电力能源领域、航空航天领域镍基高温合金管及马氏体不锈钢管等产品的退火、及时效处理等;也用于奥氏体不锈钢管、铁镍基耐蚀合金管及高温合金管等管棒材的固溶处理。