辽宁有色金属冶金设备

大型立式真空高压固溶时效成套设备（直管、盘管） 296     

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主要用于电力能源领域、航空航天领域镍基高温合金管及马氏体不锈钢管等产品的退火、正火、回火及时效处理等;也用于奥氏体不锈钢管、铁镍基耐蚀合金管及高温合金管等管棒材的固溶处理，能够实现真空高压气淬、真空回火、真空退火及消除应力等热处理工艺。

真空超高温超高压炉（气压） 299     

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真空超高温超高压炉主要用于粉末成型、预织成型工件的脱脂，也可用于高温加压烧结、浸渗增强、晶体转化生长、化合反应等工艺，采用电阻加热。

真空超高温超高压炉(机械加压） 310     

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真空超高温超高压炉(机械加压）主要用于在一定温度、压力下，两个和两个以上表面之间的原子级扩散连接，产品应用于能源、航天、航空等领域。

专用脱脂烧结炉（注射成型MIM） 206     

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专用脱脂烧结炉（注射成型MIM）主要用于铁基、不锈钢、钛合金、合金钢和高速钢等材料的注射成型制品的脱脂和烧结。

真空烧结炉（氧化铝粉） 209     

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真空烧结炉（氧化铝粉）主要用于氧化铝粉、特种陶瓷、高纯氧化铝块、超纯氧化铝饼在保护气氛下的连续烧成 。

真空高温烧结炉（碳碳、碳碳-碳陶复合材料） 246     

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真空高温烧结炉（碳碳、碳碳-碳陶复合材料）主要用于碳/碳复合材料、碳/碳-碳/陶复合材料的高温石墨化、高温提纯处理。

真空高温烧结炉（碳化硅、氮化硅） 220     

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真空高温烧结炉（碳化硅、氮化硅）主要用于SiC陶瓷制品的反应烧结、无压烧结、重结晶烧结、热等静压烧结，也可用于氮化硅等其他陶瓷制品的烧结。

真空高温烧结炉（石墨提纯） 214     

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真空高温烧结炉（石墨提纯）主要用于石墨制品等的高温石墨化、高温提纯处理。

真空钨网炉/连续生产线 （电力能源燃料芯块） 208     

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真空钨网炉/连续生产线 主要用于电力能源燃料芯块及燃料小球、燃料大球的烧结处理。

真空烧结炉（碳纳米管） 213     

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真空烧结炉（碳纳米管）主要用于制备大型纳米碳材料，如碳纳米管粉、碳纳米管薄膜和定向碳纳米管制备。

真空烧结炉（电池负极） 218     

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设备结构紧凑、升温速度快、密封性能好、炉膛温度均匀性高，拥有高性能的烧结效果、现代化的外型设计和简单便捷的操作功能。

真空高频感应钎焊炉 217     

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主要用于航空发动机带直通接头、三通接头、马鞍座接头及弯头等机构导管组件的惰性气体保护感应钎焊。

真空热压炉（扩散焊） 294     

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主要用于在一定温度、压力下，两个和两个以上表面之间的原子级扩散连接，产品应用于核能、航天、航空等领域。

真空铝钎焊炉 223     

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铝及铝合金叶轮、散热器、波导器件、汽车冷凝器等产品的真空钎焊处理，广泛应用于汽车、电子、国防、航天、航空领域。

真空水淬炉 305     

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真空水淬炉主要用于45#钢及铝型材等的真空水淬处理。

真空高温钎焊炉 243     

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主要用于不锈钢、铜合金、高温合金、钛合金、硬质合金、金属陶瓷等材料的真空钎焊，适用钎料为镍基、铜、银基等。

真空自耗电极电弧炉 435     

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产品应用：采用压制或感应炉熔炼的原料锭棒为电极，在真空或保护气氛下通过电弧高温熔炼或重熔该电极原料的真空冶金精炼设备。用于钛及钛合金、锆等活泼金属材料重熔提纯。技术参数：型号HVAR/M(生产型)HVAR/S(实验型)HVAR/C(连铸型)

SIT MOSFET高频感应加热设备 354     

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SIT MOSFET高频感应加热设备采用先进的半导体技术，工作频率范围为50-300kHz，额定功率30-200kW，冷却方式为水冷。这种设备利用高频电磁感应原理，通过在金属工件中产生涡流实现快速加热，具有加热速度快、效率高、能耗低的特点。

1600℃高温箱式实验热处理炉 337     

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SSJ-Ⅱ型1600℃高温箱式实验热处理炉是一种在冶金领域中应用广泛的设备，它能够在最高使用温度1600℃的条件下进行工作。该设备采用硅钼棒作为发热元器件，具有快速的温控速率，能在室温至1600℃的条件下在60分钟内达到所需温度，同时保持温控精度在±2℃。这种精确的温度控制能力对于进行高温烧结、金属退火、化工、冶金、陶瓷等多个领域的实验和生产至关重要。

1300℃箱式实验热处理炉 338     

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SSJ-13A型1300℃箱式实验热处理炉是一种为冶金领域设计的高效热处理设备。该炉能够满足最高使用温度1300℃的需求，采用硅碳棒作为发热元器件，确保了设备在高温下的稳定性和可靠性。温控速率在室温至1300℃的条件下不超过40分钟，而温控精度达到±2℃，这使得该设备能够精确控制加热过程，满足不同材料和工艺的需求。此外，该设备的额定功率为8kw，工作电压为380V，这些参数使得设备在工业应用中具有较高的能效比和操作便利性。

200kg真空感应熔炼炉 322     

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200kg真空感应熔炼炉是一种先进的冶金设备，它在真空条件下利用中频感应加热原理进行金属的熔化。这种设备广泛用于金属和合金的冶炼、铸造和重熔等工艺。该设备采用旋转锭模托板，一炉可浇铸多个锭子，适用于银基、镍基合金、特殊不锈钢等在真空或保护气氛下进行熔化、精炼。

高频等离子设备 332     

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高频等离子感应加热设备是一种利用真空管式高频振荡器在输出工作线圈上产生较强的高频、高压电磁场的设备。这种设备使定向流经工作线圈内的氩气、氧气、氮气、压缩空气迅速电离点燃后形成高温等离子火炬，亦称射频等离子炬，其核心温度可达20000℃。在冶金领域，高频等离子设备广泛应用于耐高温石英玻璃沉积、制备难熔金属纳米粉体，氧化物、氮化物、碳化物等纳米粉体及上述粉末的球化处理，同时也应用于多晶硅的区熔、拉伸等工艺。设备功率范围从8KW到200KW，频率则在1MHZ到6MHZ之间。

水冷铜坩埚熔铸设备 264     

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水冷铜坩埚熔铸设备是一种高功率冶金设备，专为钛铝金属间化合物的真空熔化和铸造设计。该设备配备300KW的IGBT电源，利用先进的真空自耗及凝壳熔炼技术，能够制备出大尺寸、无缺陷、无裂痕的钛铝基金属间化合物，且冷却速度可控。通过铸锭电磁冷坩埚结晶器的使用，该设备能够调控铸锭的冷却速度，从而获得成分均匀、无明显裂纹和晶粒细小的优质钛铝金属间化合物基合金方形铸锭，显著提升材料的性能。

IGBT电源 485     

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IGBT电源是一种高性能的感应加热设备，广泛应用于冶金及热处理领域。其工作频率范围为10-50kHz（超音频）和1-10kHz（中频），额定功率30-300kW，采用水冷方式确保高效稳定运行。该设备能够实现较深层淬火、钎焊、透热等工艺，适用于各类金属工件的热处理及熔炼，为冶金加工提供高效、节能、精准的加热解决方案。

电弧等离子体金属纳米粉制备系统（实验型） 352     

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在冶金实验领域，精准、高效的纳米金属粉体制备是探索新材料性能与工艺的关键。实验型电弧等离子体金属纳米粉制备系统为冶金研究提供了理想的解决方案。该设备能够制备纳米级金属粉体，涵盖稀土材料在内的绝大多数金属，且对原材料形貌尺寸无限制，突破了传统冶金实验方法的局限。其由高真空获得与测量系统、粉体制备系统、粉体收集系统及电气控制系统组成，高真空机组采用复合分子泵及机械泵，制备室极限真空度可达≤5.0×10⁻³Pa，收集室极限真空度≤8.0×10⁻³Pa，为冶金实验中的粉体生成提供稳定的真空环境，确保粉体的纯度和质量。

电弧等离子体金属纳米粉制备系统（生产型） 337     

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在冶金行业，纳米金属粉体材料的应用前景广阔，而电弧等离子体金属纳米粉制备系统正是为满足这一需求而诞生的先进生产型设备。该设备以卓越的冶金工艺为基础，能够高效批量制备纳米级金属粉体材料，涵盖稀土材料在内的绝大多数金属，且对原材料形貌尺寸无限制，展现出传统冶金制备方法难以企及的优越性。其高真空获得与测量系统、粉体制备系统等六大组成部分协同运作，其中高真空机组采用复合分子泵、罗茨泵、机械泵组合，为冶金过程中的粉体生成提供稳定的真空环境，确保粉体质量与性能。

冷水机 240     

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LC350型冷水机是一款专为工业应用设计的循环冷水机，包括冶金领域。该设备以其高效能和稳定性能，适用于各种需要精确温度控制的环境，如金属热处理、焊接、切割以及其他需要冷却的工艺过程。在冶金行业中，LC350型冷水机可用于控制和维持生产过程中所需的恒定水温，从而确保产品质量和生产效率。

高真空热压炉 342     

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高真空热压炉是冶金领域中一种关键的粉末冶金设备，专门用于粉体材料的热压成型。这种设备通过在高真空环境下对粉末材料施加高温和高压，实现材料的致密化和成型，广泛应用于制造高性能的金属、陶瓷和复合材料等。高真空热压炉的工作原理和精确控制能力使其成为制备先进材料的重要工具，尤其在需要材料具有高强度、高硬度和优异耐磨性的应用中。

放电等离子烧结系统（SPS） 352     

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放电等离子烧结系统（SPS）是一种高效的材料制备技术，它通过在较低温度下实现快速烧结，为致密材料的制备提供了一种新颖的方法。这种系统在材料科学领域，尤其是在纳米技术、非晶材料、复合材料和梯度材料的制备中，展现出了巨大的应用潜力。SPS技术的应用不仅限于传统材料的加工，还有可能开发出性能更加优良的新材料。

高真空磁控溅射离子镀膜设备 339     

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高真空磁控溅射离子镀膜设备是一种在现代冶金和材料科学领域中不可或缺的先进工具。该设备通过在高真空环境下进行磁控溅射或多弧离子镀膜，能够制备出高质量的薄膜材料，广泛应用于各种工业和科研领域。设备的主要功能包括高真空获取与测量、样品或工件的精确放置与运动控制、磁控靶或多弧源的灵活选择以及辅助镀膜工艺的集成。