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高真空磁控溅射离子镀膜设备

843

规格/型号：暂无

品牌：欧特真空

应用领域：冶金

产地：辽宁 - 沈阳

厂家/供应商：沈阳欧特真空科技有限公司

咨询电话:：13998100263（请说明信息源自“北方有色网”）

更新时间：2025-02-17

级别：待认证

高真空磁控溅射离子镀膜设备说明介绍

高真空磁控溅射离子镀膜设备

高真空磁控溅射离子镀膜设备是一种在现代冶金和材料科学领域中不可或缺的先进工具。该设备通过在高真空环境下进行磁控溅射或多弧离子镀膜，能够制备出高质量的薄膜材料，广泛应用于各种工业和科研领域。设备的主要功能包括高真空获取与测量、样品或工件的精确放置与运动控制、磁控靶或多弧源的灵活选择以及辅助镀膜工艺的集成。

一、设备主要功能及组成

1. 设备主要由高真空获得与测量系统、样品台或工件转架系统、磁控靶或多弧源系统、辅助镀膜工艺系统及电气控制系统等五部分组成。

2. 高真空机组采用分子泵机组或离子泵机组。

3. 样品台或工件转架系统可根据工艺需要灵活定制所需功能。

4. 多种磁控靶及多弧源可选，全部模块化设计，标准接口法兰。

5. 辅助镀膜工艺系统可根据需要灵活搭配。

6. 可选配膜厚控制仪，进行在线测量和监控。

7. 电气控制系统具有多种报警功能，能及时提示故障情况，保障设备安全运行。

二、主要技术参数

1．真空室尺寸：Ø450、Ø540、Ø650、Ø750、Ø1000、Ø1200（定制）

2．极限真空度：≤6.7×10-5Pa（分子泵机组）/ ≤5.0×10-6Pa（离子泵机组）

3．漏率：≤10-7 Pa•L/s