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真空气氛管式炉

真空气氛管式炉

849
规格/型号:CVD(G)-06/50/1
品牌:暂无
应用领域:暂无
产地:安徽 - 合肥
咨询电话::暂无(请说明信息源自“中冶有色技术网”)
更新时间:2024-06-24
级别:已认证

真空气氛管式炉说明介绍

简介 CVD(G)系列高温真空气氛管式炉专门设计用于高温CVD工艺。如ZnO纳米结构的可控生长、氮化硅渡膜、陶瓷基片导电率测试、陶瓷电容器(MLCC)气氛烧结等等。 窑炉采用氧化铝纤维制品隔热、保温,优质硅钼棒加热,优质99刚玉管炉膛,气体采用浮子流量计流量计控制。进口单回路智能温度控制仪控制,有效的实现温度的控制。设备具有温度均匀、控制稳定、升温速度快、节能、使用温度高、寿命长等特点,是理想的科研设备。 工作原理

CVD(G)系列高温真空气氛管式炉专门设计用于高温CVD工艺。如ZnO纳米结构的可控生长、氮化硅渡膜、陶瓷基片导电率测试、陶瓷电容器(MLCC)气氛烧结等等。 窑炉采用氧化铝纤维制品隔热、保温,优质硅钼棒加热,优质99刚玉管炉膛,气体采用浮子流量计流量计控制。进口单回路智能温度控制仪控制,有效的实现温度的控制。设备具有温度均匀、控制稳定、升温速度快、节能、使用温度高、寿命长等特点,是理想的科研设备。

技术参数

l 设备名称:高温真空气氛管式炉

l 设备型号: CVD(G)-06/50/1

l 最高温度: 1650℃      

l 工作温度: RT~1600℃

l 加热区长度:500mm   恒温区:300mm

l 炉管实际尺寸:  Φ60(外径)×1250mm (具体尺寸以设计图纸为准)

l 炉管材质: 优质99刚玉管

l 炉膛材料:  氧化铝、高铝和硅酸铝纤维制品

l 控制温区个数:  1个,B分度热偶

l 控温精度:±1℃,日本进口智能温度控制仪,PID参数自整定超温、欠偶、断偶报警保护。

l 加热元件: 优质U型硅钼棒

l 气体种类及流量范围:氮气:0.2~2L/min  氧气 :0.2~2L/min

l 真空系统:配备机械泵,冷态极限真空度15Pa

l 最大加热功率: 10Kw         

l 空炉保温功率: 约4Kw

l 外形尺寸约为:1250×750×1650(L×W×H)

l 建议升温速率: 3℃~5℃/min

l 输入动力电源: 三相电源,50HZ ,380V±10%;12KW

l 炉体表面温升: ≤35℃

选型原则

CVD(G)-06/50/1高温真空气氛管式炉炉管总长约1.25米加热区长度为500mm。加热元件采用优质U型硅钼棒加热,最大加热功率10kw。两端保温区长各200mm,配有机械泵,可以在冷态条件下预抽真空

设备结构


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企业认证:
  
所属领域:
冶金,材料,环保,检测
企业性质:
生产型
经营范围:
高温炉,管式炉,箱式炉,马弗炉,真空炉,网带炉,推板炉,碳纤维生产线,碳纳米管生产线,石墨烯膨化炉,井式炉,钟罩炉等
联系电话:
18715035310
详细地址:
合肥市高新区香樟大道209号
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