CVD(G)系列高温真空气氛管式炉专门设计用于高温CVD工艺。如ZnO纳米结构的可控生长、氮化硅渡膜、陶瓷基片导电率测试、陶瓷电容器(MLCC)气氛烧结等等。 窑炉采用氧化铝纤维制品隔热、保温,优质硅钼棒加热,优质99刚玉管炉膛,气体采用浮子流量计流量计控制。进口单回路智能温度控制仪控制,有效的实现温度的控制。设备具有温度均匀、控制稳定、升温速度快、节能、使用温度高、寿命长等特点,是理想的科研设备。
技术参数
l 设备名称:高温真空气氛管式炉
l 设备型号: CVD(G)-06/50/1
l 最高温度: 1650℃
l 工作温度: RT~1600℃
l 加热区长度:500mm 恒温区:300mm
l 炉管实际尺寸: Φ60(外径)×1250mm (具体尺寸以设计图纸为准)
l 炉管材质: 优质99刚玉管
l 炉膛材料: 氧化铝、高铝和硅酸铝纤维制品
l 控制温区个数: 1个,B分度热偶
l 控温精度:±1℃,日本进口智能温度控制仪,PID参数自整定超温、欠偶、断偶报警保护。
l 加热元件: 优质U型硅钼棒
l 气体种类及流量范围:氮气:0.2~2L/min 氧气 :0.2~2L/min
l 真空系统:配备机械泵,冷态极限真空度15Pa
l 最大加热功率: 10Kw
l 空炉保温功率: 约4Kw
l 外形尺寸约为:1250×750×1650(L×W×H)
l 建议升温速率: 3℃~5℃/min
l 输入动力电源: 三相电源,50HZ ,380V±10%;12KW
l 炉体表面温升: ≤35℃
CVD(G)-06/50/1高温真空气氛管式炉炉管总长约1.25米加热区长度为500mm。加热元件采用优质U型硅钼棒加热,最大加热功率10kw。两端保温区长各200mm,配有机械泵,可以在冷态条件下预抽真空
设备结构