HT-RLF是一款小型真空热电弧熔炼炉,用于熔炼小量高温难融金属(2000°)。双钨电极最大可引入200A电流,一根电极连接不锈钢坩埚,一根电极插入石墨坩埚内,这通过一个低压直流电源加热,石英管外围由电阻炉辅助加热,保证坩埚的温度均匀性。法兰上端带有2次加料系统,可在真空熔炼过程中进行二次加料。 此炉用于钕等稀有金属合金少量样品的制备。
升降式真空炉不同于普通真空炉,采用底部开门,方便材料放置,主要用于各种金属材料及合金材料、高速钢、冷热作模具钢、不锈钢、弹性合金、高温合金、软磁性材料、不锈钢材料、钛合金、硬质合金等的真空退火、时效工艺,同时立式真空炉也适用于工具钢、模具钢等合金钢的回火工艺等。
1700℃高温箱式真空炉以钼丝或硅钼棒为加热元件,采用双层壳体结构和PID30段程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用软质和硬质碳纤维材料,能快速升降温。采用外壳整体密封,盖板和炉门密封均采用高温硅胶O型圈,炉门处装有水冷系统。该炉必须在真空下烧结,该炉采用2X-30机械泵(配电磁放气阀)及K-200油扩散泵,同时设有冷阱及机组,该炉具有体积小、温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、价格优惠、节能等优点,是高校、科研院所、工矿企业做真空烧结用的理想产品。
卧式真空气氛炉是用于各类材料在洁净环境下的样品制备。产品采用环形电热丝在高纯石英真空腔体外均匀加热,热效率高、升温速度快、温度均匀性好。保护气氛内部均匀循环,前进后出,密封部位均采用耐高温密封圈,水冷不锈钢密封系统,安全可靠。设备具有完整的自动化触屏操作性能,并具有过温、断偶及低水压报警功能。
1、配置人机界面,支持一键启动。2.配置双工位,可实现一次两个样品制备。3.可多环境应用,更换铂金坩埚可实现X荧光光谱前期测试样品的熔炼制备,用常规坩埚可用于金属材料的铸铁重熔和白口化制备4.配置20条以上工艺配方可实现工艺的在线存储和调用。
本产品主要供生产企业在高真空或保护气氛条件下对金、银、铜等希贵金属材料混合金属材料等进行熔炼、挥发蒸馏分离提纯之用。
本产品为周期作业式,专门用于材料的真空还原退火,热处理,钎焊之用,也可用于金属冶金材料的 脱脂、脱蜡处理之用。带快速冷却装置,可以让炉膛温度3小时内从高温区降到100度以下,方便客户装卸料,提高生产效率。
真空磁悬浮熔炼方法,是近些年来飞速发展的一种熔炼方法,主要用来制取高熔点、高纯度和极活泼的金属,在冶金和高尖端材料制备等许多重要领域得到了广泛的应用,显示出良好的应用前景。
真空磁悬浮熔炼炉主要用来制取高熔点、高纯度和极活泼的金属,在冶金和高尖端材料制备等许多重要领域得到了广泛的应用,显示出良好的应用前景。
真空感应悬浮熔炼炉主要用来制取高熔点、高纯度和极活泼的金属及其合金,采用分瓣水冷坩埚,材料无污染。
钽管焊接微型非自耗真空电弧炉主要用于熔炼高熔点金属/合金,以及真空吸铸法制备非晶材料。适用于高校及科研院所进行真空冶炼新材料的科研与小批量制备。也可用于金属管封堵焊接。本设备采用桌面式结构,占地空间小。
带吸铸真空电弧熔炼炉 纽扣炉主要用于熔炼高熔点金属/合金,以及真空吸铸法制备大块非晶材料。适用于高校及科研院所进行真空冶炼新材料的科研与小批量制备。本设备采用桌面式结构,占地空间小。
用于熔炼高熔点金属/合金,以及真空吸铸法制备大块非晶材料。适用于高校、科研院所进行真空冶金新材料的科研与小批量制备。
带浇铸铸造功能真空电弧炉 熔炼炉 纽扣炉是我公司根据科研单位实验要求精心研发的产品主要用于熔炼高熔点金属/合金,应用于高熔点难熔金属、金属合金等,适用于高校及科研院所进行真空冶炼新材料的科研与小批量制备。本设备采用桌面式全不锈钢设计,带浇铸铸造功能可实现棒料,拉伸料的铸造成型。
用于熔炼高熔点金属/合金,矿渣金属矿石,固废冶炼废渣等物料的熔炼,以及材料的提纯等适用范围广,弧芯的温度高达1万℃,电弧外焰温度为4000℃。
真空电弧熔炼甩带一体机是将高真空电弧熔炼、高真空甩带、高真空感应熔炼浇铸和高真空喷铸集成到一台设备,共用一套高真空系统和一套水冷系统,设备占地面积小,操作简单方便。
带手套箱密封真空甩带炉主要有五部分组成,即:铜旋淬系统、手套箱系统、冷却系统、机架与电气控制系统。系统主要由感应熔炼真空室、炉门、单辊旋淬装置、感应熔炼机构、、工作气路、系统抽气、真空测量及电气控制系统、安装机台等各部分组成。
真空钼丝烧结炉是用钼丝或者钼片作发热体的高温、高真空电阻炉。工作温度可达1600℃。本系列产品广泛应用于无机材料(如陶瓷密封件、碳化硅、氧化锆、氧化锌、二氧化铝等)、及金属材料(如硬质合金)在真空或保护气氛中烧结制备,也可用于稀土元素及其氧化物的提纯处理及蓝宝石退火处理。同时也适用于大专院校、科研单位进行中试批量生产使用。
本系列真空炉为周期作业式,采用石墨管或石墨棒(为发热元件,适用于金属材料,无机非金属材料,在真空或保护气氛下进行烧结适用,也可用于光学材料的烧结提纯适用。