有色金属真空冶金设备

真空高压气淬炉-立式 145     

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用途 ：适用于高速钢、工模具钢、不锈钢的淬火，不锈钢、钛合金的固溶处理，磁性材料的真空热处理。

真空水淬炉 215     

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适用于钛合金、铍青铜、精密合金和不锈钢的固溶、时效和退火，高速钢、工模具钢、合金结构钢的真空退火、高温回火。特别适用于钛合金标准件的固溶处理。

真空回火炉 117     

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高速钢、工模具钢、合金结构钢、不锈钢及其他材料的真空回火，有色金属退火和时效处理

真空高压气淬炉-卧式 155     

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卧式真空高压气淬炉是一种先进的热处理设备，主要用于高合金钢、工具钢、钛合金等材料的真空加热和高压气体淬火。

卧式三室油淬炉 135     

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卧式三室油淬炉是一种用于金属材料(如合金钢、工具钢、铝合金等)热处理加工的专用设备，采用三室分离设计(加热室、淬火室、冷却/回火室)，实现连续式热处理生产。

真空退火炉-卧式 155     

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用途：高温合金、难熔金属、磁性材料、有色金属、不锈钢的光亮退火、真空钎焊和真空烧结电工磁性材料、有色金属的退火及时效等

高真空多功能真空镀膜机 159     

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高真空多功能真空镀膜机是一种集成了多种镀膜技术(如热蒸发、电子束蒸发、磁控溅射、离子镀等)的先进设备，能够在高真空环境下实现不同类型的薄膜沉积，满足科研与工业中对复杂薄膜的需求。

真空热蒸发镀膜系统 160     

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真空热蒸发镀膜系统是一种常见的物理气相沉积(PVD)技术，通过加热蒸发材料使其在真空环境中气化，随后凝结在基片表面形成薄膜。

多功能蒸镀设备 166     

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多功能蒸镀设备（Multi-functional Deposition System）是集成了多种PVD技术（如热蒸发、电子束蒸发、磁控溅射等）的复合型镀膜设备，通常具备：模块化真空腔体设计，多类型蒸发源/溅射靶兼容，基片多自由度运动系统，实时膜厚监测能力，辅助离子源/加热装置。

高真空多源热蒸发设备 164     

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高真空多源热蒸发设备是一种基于电阻加热原理的物理气相沉积(PVD)设备，通过多个独立可控蒸发源(通常2-14个)，在高真空环境(10⁻⁴~10⁻⁶ Pa)下实现：单质/合金薄膜的共蒸，多层复合结构沉积，梯度成分材料制备。

14源电阻式热蒸发设备 148     

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14源电阻式热蒸发设备是一种超多材料共蒸系统，通过高真空环境（10⁻⁴~10⁻⁶ Pa）和电阻加热蒸发，实现复杂组分薄膜的精确制备。

三源热蒸发设备 165     

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三源热蒸发设备是一种基于电阻加热蒸发的镀膜系统，配备3个独立蒸发源，可在高真空（10⁻⁴~10⁻⁶ Pa）环境下沉积金属或化合物薄膜。

高真空金属镀膜仪 147     

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高真空金属镀膜仪是一种利用物理气相沉积（PVD）技术在真空环境中沉积金属薄膜的设备，广泛应用于科研、电子、光学及精密制造领域。其核心特点是高真空环境（10⁻⁴~10⁻⁶ Pa）和金属蒸发/溅射镀膜技术，可制备高纯度、高均匀性的金属薄膜（如Au、Ag、Al、Cu等）。

高真空六源热蒸发设备 165     

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高真空六源热蒸发设备是一种基于电阻加热蒸发原理的镀膜设备，配备6个独立蒸发源，可在高真空（10⁻⁴~10⁻⁶ Pa）环境下实现多材料共蒸或顺序沉积，适用于复杂组分薄膜的制备。

团簇式高真空多功能镀膜设备 166     

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团簇式高真空多功能镀膜设备是一种模块化、多腔室集成的先进镀膜系统，可在高真空或超高真空（10⁻⁴~10⁻⁷ Pa）环境下实现多种镀膜工艺的连续处理，避免样品暴露大气，提高镀膜质量和效率。

单室四源高真空电阻式镀膜设备 166     

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1、真空室腔体:1套。外形：304优质不锈钢D形前后开门真空室腔体1套，后门采用铰链式方门，方便清洗真空腔体，真空室内部调试，维修以及取放物品，前门采用横拉方门，真空室内部尺寸D350*480mm，前后门各配DN100视窗1套; 底部：有机源接口4套，JTFB-600风冷复合分子泵接口1套，CF25照明接口2套以及美国MCVAC水冷膜厚探头接口2套;

单室八源电阻式镀膜设备 167     

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真空室腔体:1套；外形：304优质不锈钢D形前后开门(后门采用铰链式方门，方便清洗真空腔体，真空室内部调试，维修以及取放物品，前门采用横拉方门)真空室腔体1套(真空室内部尺寸D400*480mm)，前后门各配DN100视窗1套; 底部：金属蒸发源接口8套， JTFB-600风冷复合分子泵接口1套，CF25照明接口2套以及美国MCVAC水冷膜厚探头接口2套; 顶部：样品台接口1套，电动挡板接口1套，KF16气动角阀接口1套;

超高温超高真空蒸馏炉 165     

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该设备是一台超高温超高真空蒸馏炉，主要利用不同成分在相同温度下蒸汽压及冷凝温度不同的原理，用于高熔点稀有或稀土金属熔炼及蒸馏提纯。

双室高真空镀膜设备 166     

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一、电子束水冷样品台组件1件： 1、旋转：57CM23步进电机，1件光电限位开关（前后两点）； 2、升降：57CM23步进电机，配速比1:5减速器，升降2点接触限位开关，触摸屏上显示电子束高点400mm，低点300mm，金属源高点340mm，低点240mm，另取1点，可随意定位； 3、样品台挡板：24V减速电机，2件限位开关。

单室高真空电阻式镀膜设备 165     

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镀膜设备以蒸发源为主体，适用于实验室制备金属单质、氧化物等，也可用作教学及生产线前期工艺试验等，整套设备操作简便，综合功能多，扩展空间大，适合及满足大专院校的教学与科研工作。

非自耗真空电弧炉 360     

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非自耗真空电弧炉主要供大专院校或科研机构在真空或保护气氛下对少量(数十克至上百克)贵金属或合金材料进行熔化处理。通过电弧放电的方式加热并融化金属原料，使之成为合金。

真空定向凝固炉 185     

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VIM 系列真空定向凝固炉是将金属原料在真空状态或保护气氛中进行熔化凝固成型，利用设置的保温与冷却系统形成热梯度，浇铸工件通过精密的下拉机构来实现定向凝固的过程，制备出单晶等工件。

真空连铸炉 189     

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真空连铸炉是在真空条件下利用中频感应加热原理进行熔化金属或金属合金；通过特制的一套引锭机构拉铸金属及合金通过结晶器冷却成型（板材、板材、管材）的现代化成型设备。

真空氢化炉 186     

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本炉是在真空状态、加热和充入氢气条件下使物料在反应器皿中发生氢化反应。本设备包括反应罐、加热系统、真空系统、进气系统、控制系统、安全防护系统。

真空区熔提纯炉 189     

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真空区熔炉主要分水平区熔和立式区熔二种。主要应用于金属或合金在真空状态或保护气氛下的区熔提纯和精炼。

真空悬浮熔铸炉 185     

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VIM-HC真空悬浮熔铸炉是在真空条件下将所熔炼的金属或非金属固体炉料，置于感应线圈所形成的高频或中频交变电场中，并利用通水冷却的金属坩埚作为磁场的“聚能器”，使能源磁场能量集中于坩埚容积空间，进而在炉料的表层附近形成强大的涡电流，一方面释放出焦耳热使炉料溶化，另一方面形成洛仑兹力场使熔体悬浮(或半悬浮)和搅拌。由于磁悬浮的作用，使熔体与坩埚内壁脱离接触，这样熔体与坩埚壁之间的散热行为由传导散热改变为辐射散热，从而导致散热速度聚减。使熔体可达到很高的温度，(1500℃—2500℃)宜于熔炼高熔点金属或其合金。

真空压力铸造炉 131     

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真空感应熔炼压力铸造炉主要用于各类高温合金、铁基、镍基合金及某些有色金属及其合金在真空状态或惰性气体保护下，利用中频感应加热的原理进行熔化并充以正压特定气体的条件下进行浇铸成型。最高可以充正压达1.0MPa实现加压凝固。

空速凝甩带炉 187     

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VGI系列真空速凝甩带炉是将金属或合金材料在真空或保护气氛中进行熔化、脱气、合金化及精炼;并通过坩埚浇铸至中间包再流粘到快淬水冷辊上，经急速冷却形成薄片，并在储罐内进行二次冷却，使其成为合格的微晶薄片。

真空氮化炉 183     

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真空氮化炉、简称氮化炉，渗氮炉，用于金属材料工件表面氮化，氮碳共渗，尤其适合有狭缝，深孔，盲孔工件的氮化处理。

钕铁硼烧结炉 185     

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该烧结炉是新近的专利产品，它是专用于高性能NbFeB生产线上的烧结和热处理设备。本品是一款可与国外产品相媲美的先进的连续真空烧结炉，它适用于NbFeB生产工艺的高要求，具有诸多的技术优势。