辽宁有色金属设备

电磁高频振网筛 392     

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电磁高频振网筛

高频电磁脉冲水选机 408     

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高频电磁脉冲水选机

单缸液压图锥破碎机 395     

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单缸液压图锥破碎机

西蒙斯圆锥式破碎机 408     

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西蒙斯圆锥式破碎机

高频便携式x射线探伤机 374     

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JY-200D高频便携式X射线探伤机是一款高效、轻便的现场检测设备，工作频率为40kHz，采用单相220伏电压输入，输出功率达500W。机身设计小巧轻便，便于携带，检测速度快，0.8毫米焦点使图像更加清晰，能够满足各类现场检测要求。

超小型x射线探伤机 186     

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LCXXQ-1605超小型X射线探伤机是一款体积小、重量轻、高穿透力且携带方便的检测设备。该设备优化了散热结构，显著提升了散热效率，并通过表面绝缘氧化处理增强了使用安全性。其特制的高压包及铁芯与管桶配套使用，确保了产品的高性能。新式的端环及减震柱设计合理、人性化，减震效果显著。内置窗口设计保护窗口免受外力撞击，同时配备安全锁防止误启动高压，保障操作者安全。

(锥靶)超小型X射线探伤机 287     

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XXGH-2505（锥靶）超小型X射线探伤机是一款便携式检测设备，具有专利管桶设计，体积小、重量轻，携带方便。其特制的高压包及铁芯与管桶配套使用，确保产品性能稳定。新式的端环及减震柱设计合理、人性化，减震效果显著。内置窗口设计保护窗口不受外力撞击，同时配备安全锁防止误启动高压，保障操作者安全。设备提供两种外观设计，满足不同客户需求。主要技术参数包括：输出电压150~250KV连续可调，管电流5mA，焦点尺寸1.0x2.5mm，射线辐射角度360°x30°，底片黑度D>1.5，最大穿透力31mm（A3钢），发生器重量20Kg，尺寸为230x230x640mm。

(锥靶)小型X射线探伤机 271     

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XXGH-3005（锥靶）小型X射线探伤机是一款便携式检测设备，具有专利管桶设计，体积小、重量轻，携带方便。其特制的高压包及铁芯与管桶配套使用，确保产品性能稳定。新式的端环及减震柱设计合理、人性化，减震效果显著。内置窗口设计保护窗口不受外力撞击，同时配备安全锁防止误启动高压，保障操作者安全。设备提供两种外观设计，满足不同客户需求。主要技术参数包括：输出电压170~300KV连续可调，管电流5mA，焦点尺寸1.0x2.5mm，射线辐射角度360°x30°，底片黑度D>1.5，最大穿透力40mm（A3钢），发生器重量31Kg，尺寸为300x300x700mm。

X射线探伤机 279     

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XXGHZ3505型X射线探伤机是一款高性能的检测设备，具备高压包及铁芯与管桶配套使用的特点，确保产品性能稳定。新式的端环及减震柱设计合理、人性化，减震效果显著，并配备安全锁防止误启动高压，保障操作者安全。设备提供两种外观设计，满足不同客户需求。主要技术参数包括：输出电压180~350KV连续可调，管电流5mA，焦点尺寸1.5x3.5mm，射线辐射角度360°x30°，底片黑度D>1.5，最大穿透力48mm（A3钢），发生器重量42Kg，尺寸为330330700mm。

阵列式等离子体增强化学气相沉积系统（PECVD） 276     

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阵列式PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)是一种高效、大面积的化学气相沉积设备，通过等离子体激活反应气体，在低温下实现高质量薄膜的快速沉积。

高真空双室多功能镀膜设备 214     

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高真空双室多功能镀膜设备是一种集成了多种PVD(物理气相沉积)技术的先进镀膜系统，通过双腔室设计实现高效率、无污染、多工艺组合的薄膜制备。

脉冲激光镀膜设备 277     

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脉冲激光镀膜设备(PLD)是一种利用高能脉冲激光轰击靶材，使材料气化并在基片上沉积成膜的物理气相沉积(PVD)技术。

单室热蒸发镀膜设备 216     

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单室热蒸发镀膜设备是一种采用物理气相沉积(PVD)技术的薄膜制备设备，主要通过电阻加热方式使镀膜材料蒸发并在基片表面沉积成膜。

双室热蒸发镀膜设备 169     

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双室热蒸发镀膜设备是一种采用物理气相沉积（PVD）技术的精密镀膜系统，通过独立双腔室设计实现高效连续的薄膜制备。该设备主要应用于光学薄膜、电子器件、功能涂层等领域。

电阻式蒸发镀膜设备 198     

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电阻式蒸发镀膜设备是一种利用电阻加热原理使镀膜材料蒸发，并在真空环境中沉积到基片表面形成薄膜的物理气相沉积(PVD)设备。

高真空热蒸发镀膜设备 199     

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高真空热蒸发镀膜设备是一种利用电阻加热或电子束加热使材料蒸发，并在高真空环境下沉积到基片表面形成薄膜的 物理气相沉积(PVD) 设备。该系统广泛应用于光学薄膜、电子器件、装饰镀膜等领域。

高真空多功能真空镀膜机 203     

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高真空多功能真空镀膜机是一种集成了多种镀膜技术(如热蒸发、电子束蒸发、磁控溅射、离子镀等)的先进设备，能够在高真空环境下实现不同类型的薄膜沉积，满足科研与工业中对复杂薄膜的需求。

真空热蒸发镀膜系统 210     

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真空热蒸发镀膜系统是一种常见的物理气相沉积(PVD)技术，通过加热蒸发材料使其在真空环境中气化，随后凝结在基片表面形成薄膜。

离线单检-铸件检测系统 284     

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福视 D 系列离线式检测系统是针对不同规格、尺寸的铸件（铝、钢、树脂等）和中小型焊接件（气瓶、高压电气壳体等）质量控制需求，总结多年应用经验，而细分开发的系列化检测系统。

X射线工业CT检测系统 385     

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锐新精视系列 CT 检测系统是针对不同规格、尺寸的铸件（铝、钢、树脂等）和中小型焊接件 高端质量控制与分析需求，总结多年应用经验，而细分开发的系列化检测系统。

高频X射线机 278     

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PTS 射线机调制器采用高频双闭环控制，无需增加辅助稳压电源，能通过自身整流电源克服外部网络电压的干扰与波动，成像稳定。不受使用现场电源波动的干扰，充分保证射线输出剂量的稳定性。双极电源采用双调制器控制，充分克服单调制器控制所引起的双极间电压不平衡问题，延长射线管使用寿命。整机保护功能强大，具有 kV、mA 随动保护，对于任意kV、mA 值可设定 1%-5%的保护值，轻微放电即可达到微秒级保护。

多功能蒸镀设备 217     

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多功能蒸镀设备（Multi-functional Deposition System）是集成了多种PVD技术（如热蒸发、电子束蒸发、磁控溅射等）的复合型镀膜设备，通常具备：模块化真空腔体设计，多类型蒸发源/溅射靶兼容，基片多自由度运动系统，实时膜厚监测能力，辅助离子源/加热装置。

高真空多源热蒸发设备 211     

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高真空多源热蒸发设备是一种基于电阻加热原理的物理气相沉积(PVD)设备，通过多个独立可控蒸发源(通常2-14个)，在高真空环境(10⁻⁴~10⁻⁶ Pa)下实现：单质/合金薄膜的共蒸，多层复合结构沉积，梯度成分材料制备。

14源电阻式热蒸发设备 192     

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14源电阻式热蒸发设备是一种超多材料共蒸系统，通过高真空环境（10⁻⁴~10⁻⁶ Pa）和电阻加热蒸发，实现复杂组分薄膜的精确制备。

三源热蒸发设备 213     

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三源热蒸发设备是一种基于电阻加热蒸发的镀膜系统，配备3个独立蒸发源，可在高真空（10⁻⁴~10⁻⁶ Pa）环境下沉积金属或化合物薄膜。

高真空金属镀膜仪 194     

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高真空金属镀膜仪是一种利用物理气相沉积（PVD）技术在真空环境中沉积金属薄膜的设备，广泛应用于科研、电子、光学及精密制造领域。其核心特点是高真空环境（10⁻⁴~10⁻⁶ Pa）和金属蒸发/溅射镀膜技术，可制备高纯度、高均匀性的金属薄膜（如Au、Ag、Al、Cu等）。

高真空六源热蒸发设备 208     

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高真空六源热蒸发设备是一种基于电阻加热蒸发原理的镀膜设备，配备6个独立蒸发源，可在高真空（10⁻⁴~10⁻⁶ Pa）环境下实现多材料共蒸或顺序沉积，适用于复杂组分薄膜的制备。

团簇式高真空多功能镀膜设备 207     

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团簇式高真空多功能镀膜设备是一种模块化、多腔室集成的先进镀膜系统，可在高真空或超高真空（10⁻⁴~10⁻⁷ Pa）环境下实现多种镀膜工艺的连续处理，避免样品暴露大气，提高镀膜质量和效率。

单室四源高真空电阻式镀膜设备 216     

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1、真空室腔体:1套。外形：304优质不锈钢D形前后开门真空室腔体1套，后门采用铰链式方门，方便清洗真空腔体，真空室内部调试，维修以及取放物品，前门采用横拉方门，真空室内部尺寸D350*480mm，前后门各配DN100视窗1套; 底部：有机源接口4套，JTFB-600风冷复合分子泵接口1套，CF25照明接口2套以及美国MCVAC水冷膜厚探头接口2套;

单室八源电阻式镀膜设备 213     

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真空室腔体:1套；外形：304优质不锈钢D形前后开门(后门采用铰链式方门，方便清洗真空腔体，真空室内部调试，维修以及取放物品，前门采用横拉方门)真空室腔体1套(真空室内部尺寸D400*480mm)，前后门各配DN100视窗1套; 底部：金属蒸发源接口8套， JTFB-600风冷复合分子泵接口1套，CF25照明接口2套以及美国MCVAC水冷膜厚探头接口2套; 顶部：样品台接口1套，电动挡板接口1套，KF16气动角阀接口1套;