辽宁沈阳有色金属冶金设备

高真空热蒸发镀膜设备 199     

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高真空热蒸发镀膜设备是一种利用电阻加热或电子束加热使材料蒸发，并在高真空环境下沉积到基片表面形成薄膜的 物理气相沉积(PVD) 设备。该系统广泛应用于光学薄膜、电子器件、装饰镀膜等领域。

高真空多功能真空镀膜机 203     

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高真空多功能真空镀膜机是一种集成了多种镀膜技术(如热蒸发、电子束蒸发、磁控溅射、离子镀等)的先进设备，能够在高真空环境下实现不同类型的薄膜沉积，满足科研与工业中对复杂薄膜的需求。

真空热蒸发镀膜系统 210     

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真空热蒸发镀膜系统是一种常见的物理气相沉积(PVD)技术，通过加热蒸发材料使其在真空环境中气化，随后凝结在基片表面形成薄膜。

多功能蒸镀设备 214     

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多功能蒸镀设备（Multi-functional Deposition System）是集成了多种PVD技术（如热蒸发、电子束蒸发、磁控溅射等）的复合型镀膜设备，通常具备：模块化真空腔体设计，多类型蒸发源/溅射靶兼容，基片多自由度运动系统，实时膜厚监测能力，辅助离子源/加热装置。

高真空多源热蒸发设备 207     

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高真空多源热蒸发设备是一种基于电阻加热原理的物理气相沉积(PVD)设备，通过多个独立可控蒸发源(通常2-14个)，在高真空环境(10⁻⁴~10⁻⁶ Pa)下实现：单质/合金薄膜的共蒸，多层复合结构沉积，梯度成分材料制备。

14源电阻式热蒸发设备 189     

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14源电阻式热蒸发设备是一种超多材料共蒸系统，通过高真空环境（10⁻⁴~10⁻⁶ Pa）和电阻加热蒸发，实现复杂组分薄膜的精确制备。

三源热蒸发设备 207     

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三源热蒸发设备是一种基于电阻加热蒸发的镀膜系统，配备3个独立蒸发源，可在高真空（10⁻⁴~10⁻⁶ Pa）环境下沉积金属或化合物薄膜。

高真空金属镀膜仪 192     

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高真空金属镀膜仪是一种利用物理气相沉积（PVD）技术在真空环境中沉积金属薄膜的设备，广泛应用于科研、电子、光学及精密制造领域。其核心特点是高真空环境（10⁻⁴~10⁻⁶ Pa）和金属蒸发/溅射镀膜技术，可制备高纯度、高均匀性的金属薄膜（如Au、Ag、Al、Cu等）。

高真空六源热蒸发设备 207     

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高真空六源热蒸发设备是一种基于电阻加热蒸发原理的镀膜设备，配备6个独立蒸发源，可在高真空（10⁻⁴~10⁻⁶ Pa）环境下实现多材料共蒸或顺序沉积，适用于复杂组分薄膜的制备。

团簇式高真空多功能镀膜设备 207     

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团簇式高真空多功能镀膜设备是一种模块化、多腔室集成的先进镀膜系统，可在高真空或超高真空（10⁻⁴~10⁻⁷ Pa）环境下实现多种镀膜工艺的连续处理，避免样品暴露大气，提高镀膜质量和效率。

单室四源高真空电阻式镀膜设备 215     

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1、真空室腔体:1套。外形：304优质不锈钢D形前后开门真空室腔体1套，后门采用铰链式方门，方便清洗真空腔体，真空室内部调试，维修以及取放物品，前门采用横拉方门，真空室内部尺寸D350*480mm，前后门各配DN100视窗1套; 底部：有机源接口4套，JTFB-600风冷复合分子泵接口1套，CF25照明接口2套以及美国MCVAC水冷膜厚探头接口2套;

单室八源电阻式镀膜设备 213     

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真空室腔体:1套；外形：304优质不锈钢D形前后开门(后门采用铰链式方门，方便清洗真空腔体，真空室内部调试，维修以及取放物品，前门采用横拉方门)真空室腔体1套(真空室内部尺寸D400*480mm)，前后门各配DN100视窗1套; 底部：金属蒸发源接口8套， JTFB-600风冷复合分子泵接口1套，CF25照明接口2套以及美国MCVAC水冷膜厚探头接口2套; 顶部：样品台接口1套，电动挡板接口1套，KF16气动角阀接口1套;

超高温超高真空蒸馏炉 229     

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该设备是一台超高温超高真空蒸馏炉，主要利用不同成分在相同温度下蒸汽压及冷凝温度不同的原理，用于高熔点稀有或稀土金属熔炼及蒸馏提纯。

双室高真空镀膜设备 210     

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一、电子束水冷样品台组件1件： 1、旋转：57CM23步进电机，1件光电限位开关（前后两点）； 2、升降：57CM23步进电机，配速比1:5减速器，升降2点接触限位开关，触摸屏上显示电子束高点400mm，低点300mm，金属源高点340mm，低点240mm，另取1点，可随意定位； 3、样品台挡板：24V减速电机，2件限位开关。

单室高真空电阻式镀膜设备 224     

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镀膜设备以蒸发源为主体，适用于实验室制备金属单质、氧化物等，也可用作教学及生产线前期工艺试验等，整套设备操作简便，综合功能多，扩展空间大，适合及满足大专院校的教学与科研工作。

真空高温石墨化炉 261     

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真空高温石墨化炉主要用于 C/C的石墨化烧结处理。复合材料具有优异的综合性能，特别适于高温领域，如航空、航天等方面。典型应用为飞机的涡轮 、刹车盘、活塞、机翼前缘、鼻锥等。

真空补焊箱（机匣等） 201     

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真空补焊箱（机匣等）主要用于铸件在保护气氛下补焊工作，焊后无氧化。

真空除气炉（石墨膜壳） 231     

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凝壳炉铸造用石墨型壳、陶瓷型壳真空下除气处理及金属材料的淬火后的回火及各种材料、零件真空下的脱脂除气。

钛合金真空退火炉 239     

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钛合金真空退火炉主要用于钛合金板材、管材等真空退火，能够实现真空退火过程工艺参数检测与全过程优化控制。

底装式高压固溶设备（盘管、直管） 313     

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主要用于石油、石化领域洁净不锈钢及航空、电力能源领域等薄壁不锈钢管的退火、时效处理;也用于奥氏体不锈钢管、铁镍基耐蚀合金管及高温合金管等管棒材的固溶处理。

真空连续热处理设备（直管、盘管） 203     

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主要用于电力能源领域、航空航天领域镍基高温合金管及马氏体不锈钢管等产品的退火、及时效处理等;也用于奥氏体不锈钢管、铁镍基耐蚀合金管及高温合金管等管棒材的固溶处理。

大型立式真空高压固溶时效成套设备（直管、盘管） 295     

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主要用于电力能源领域、航空航天领域镍基高温合金管及马氏体不锈钢管等产品的退火、正火、回火及时效处理等;也用于奥氏体不锈钢管、铁镍基耐蚀合金管及高温合金管等管棒材的固溶处理，能够实现真空高压气淬、真空回火、真空退火及消除应力等热处理工艺。

真空超高温超高压炉（气压） 299     

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真空超高温超高压炉主要用于粉末成型、预织成型工件的脱脂，也可用于高温加压烧结、浸渗增强、晶体转化生长、化合反应等工艺，采用电阻加热。

真空超高温超高压炉(机械加压） 310     

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真空超高温超高压炉(机械加压）主要用于在一定温度、压力下，两个和两个以上表面之间的原子级扩散连接，产品应用于能源、航天、航空等领域。

专用脱脂烧结炉（注射成型MIM） 206     

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专用脱脂烧结炉（注射成型MIM）主要用于铁基、不锈钢、钛合金、合金钢和高速钢等材料的注射成型制品的脱脂和烧结。

真空烧结炉（氧化铝粉） 209     

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真空烧结炉（氧化铝粉）主要用于氧化铝粉、特种陶瓷、高纯氧化铝块、超纯氧化铝饼在保护气氛下的连续烧成 。

真空高温烧结炉（碳碳、碳碳-碳陶复合材料） 246     

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真空高温烧结炉（碳碳、碳碳-碳陶复合材料）主要用于碳/碳复合材料、碳/碳-碳/陶复合材料的高温石墨化、高温提纯处理。

真空高温烧结炉（碳化硅、氮化硅） 219     

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真空高温烧结炉（碳化硅、氮化硅）主要用于SiC陶瓷制品的反应烧结、无压烧结、重结晶烧结、热等静压烧结，也可用于氮化硅等其他陶瓷制品的烧结。

真空高温烧结炉（石墨提纯） 214     

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真空高温烧结炉（石墨提纯）主要用于石墨制品等的高温石墨化、高温提纯处理。

真空钨网炉/连续生产线 （电力能源燃料芯块） 207     

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真空钨网炉/连续生产线 主要用于电力能源燃料芯块及燃料小球、燃料大球的烧结处理。