CVD(G)系列高温真空气氛管式炉专门设计用于高温CVD工艺。如ZnO纳米结构的可控生长、氮化硅渡膜、陶瓷基片导电率测试、陶瓷电容器(MLCC)气氛烧结等等。 窑炉采用氧化铝纤维制品隔热、保温,优质硅钼棒加热,优质99刚玉管炉膛,气体采用浮子流量计流量计控制。进口单回路智能温度控制仪控制,有效的实现温度的控制。设备具有温度均匀、控制稳定、升温速度快、节能、使用温度高、寿命长等特点,是理想的科研设备。
适用范围:本产品是根据用户所提要求设计,并参照JB/T5520-91干燥箱技术条件制造,主要为航空、航天、汽车、**、石油、化工、船舶、电子、半导体通信等科研及生产单位提供恒定或可变化温度气候环境,供
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