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立式化学气相沉积炉（SiC、BN）是专为冶金及材料科学领域设计的高端设备，广泛应用于外延片基座、晶体炉高温耐材、热弯模具、半导体坩埚、陶瓷基复合材料等的表面涂层、基体改性及复合材料制备。设备采用先进的控制技术，能够精密调控MTS流量和压力，确保炉膛内沉积气流稳定，压力波动极小。其全密闭沉积室密封效果好，抗污染能力强，多通道工艺气路设计实现流场均匀，无沉积死角，沉积效果优异。此外，设备配备多级高效尾气处理系统，能有效处理高腐蚀性尾气、易燃易爆气体、固体粉尘及低熔点粘性产物，环境友好且安全可靠。
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卧式真空碳化炉是一款专为冶金领域设计的高性能设备，广泛应用于碳碳复合材料、碳纤维保温材料、储能材料及其他新型炭材料的碳化处理，是生产炭/炭刹车盘、碳纤维板材、晶体炉坩埚、石墨烯、碳纳米管等材料的关键设备。其采用多温区独立控温技术，确保温度均匀性，支持正压或负压碳化工艺，满足复杂冶金工艺需求。设备配备多级高效尾气处理系统，能高效收集焦油及副产物，减少环境污染，同时可选配外循环快冷系统，显著缩短降温时间，提高生产效率。
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立式真空裂解炉是一款专为碳陶复合材料、陶瓷基复合材料、碳化硅纤维等材料的高温裂解工艺设计的高性能设备。其采用多温区独立控温技术，确保温度均匀性，同时配备顶立科技专属超高温、大电流引电技术，支持感应加热方式，可在高温条件下长时间稳定运行。设备可选配全密闭马弗，密封效果好，抗污染能力强，搭配多级高效尾气处理系统，实现环境友好和易清理。其最高温度可达1800℃，温控精度为±5℃，适配真空、CH4、NH3、H2、N2、Ar、空气等多种工艺气氛。
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真空烧结炉是一种专为碳化硅、氮化硅、氮化铝等高性能陶瓷材料烧结设计的高端设备。该设备采用顶立科技专属的超高温、大电流引电技术，能够在高温条件下长时间稳定运行，同时配备特殊高温红外测量技术，确保控温精准、误差极小。其专属密封马弗可有效减少硅蒸汽等副产物对加热器和绝缘材料的污染，搭配专用尾气处理装置，实现环境友好和易清理。此外，设备可选配脱脂系统，实现陶瓷制品的脱脂烧结一体化处理。
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真空熔炼中包底铸离心铸造炉是一种集真空熔炼、离心铸造及中包底铸工艺于一体的先进冶金设备，广泛应用于航空航天、能源发电、汽车制造等领域。
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纳米晶合金真空熔炼炉是一种专门用于制备高性能纳米晶合金材料的设备，广泛应用于冶金和材料科学领域。
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在冶金实验领域，精准、高效的纳米金属粉体制备是探索新材料性能与工艺的关键。实验型电弧等离子体金属纳米粉制备系统为冶金研究提供了理想的解决方案。该设备能够制备纳米级金属粉体，涵盖稀土材料在内的绝大多数金属，且对原材料形貌尺寸无限制，突破了传统冶金实验方法的局限。其由高真空获得与测量系统、粉体制备系统、粉体收集系统及电气控制系统组成，高真空机组采用复合分子泵及机械泵，制备室极限真空度可达≤5.0×10⁻³Pa，收集室极限真空度≤8.0×10⁻³Pa，为冶金实验中的粉体生成提供稳定的真空环境，确保粉体的纯度和质量。
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在冶金行业，纳米金属粉体材料的应用前景广阔，而电弧等离子体金属纳米粉制备系统正是为满足这一需求而诞生的先进生产型设备。该设备以卓越的冶金工艺为基础，能够高效批量制备纳米级金属粉体材料，涵盖稀土材料在内的绝大多数金属，且对原材料形貌尺寸无限制，展现出传统冶金制备方法难以企及的优越性。其高真空获得与测量系统、粉体制备系统等六大组成部分协同运作，其中高真空机组采用复合分子泵、罗茨泵、机械泵组合，为冶金过程中的粉体生成提供稳定的真空环境，确保粉体质量与性能。
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高真空磁控溅射离子镀膜设备是一种在现代冶金和材料科学领域中不可或缺的先进工具。该设备通过在高真空环境下进行磁控溅射或多弧离子镀膜，能够制备出高质量的薄膜材料，广泛应用于各种工业和科研领域。设备的主要功能包括高真空获取与测量、样品或工件的精确放置与运动控制、磁控靶或多弧源的灵活选择以及辅助镀膜工艺的集成。
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高真空脉冲激光沉积系统（PLD）是冶金和材料科学领域中一种先进的薄膜沉积技术。它通过使用高能脉冲激光快速蒸发靶材，生成与靶材组成相同的薄膜，特别适用于制备复杂氧化物、陶瓷和半导体材料等。PLD技术的独特之处在于能量源（脉冲激光）位于真空室外部，这使得在材料合成时，工作压力的动态范围非常宽，能够达到10^-8Pa至1Pa，从而为合成具有独特功能的纳米结构和纳米颗粒提供了可能。
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高真空电子束热蒸发系统（E-Beam）是冶金和材料科学领域中一种精密的真空镀膜设备。该系统利用电子束蒸发源技术，能够实现高效率和高精度的材料蒸发与沉积，适用于制备各种金属、合金以及化合物薄膜。在冶金行业中，这种系统特别适用于高性能材料的制备，如高温合金、磁性材料、光学涂层和电子材料等。
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高真空电阻热蒸发系统是一种专为冶金和材料科学领域设计的先进设备，它在高真空环境下进行材料的蒸发和沉积，广泛应用于制备薄膜、纳米材料以及进行材料表面改性等。该系统由高真空获得与测量系统、样品台或工件转架系统、有机（OLED）/金属蒸发源系统及电气控制系统等四部分组成，确保了蒸发过程的精确控制和高效进行。
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等离子体增强化学气相沉积（PECVD）是一种在冶金和材料科学领域广泛应用的技术，它通过利用等离子体的活性来增强化学反应速率，实现高质量薄膜的沉积。这种设备在制备高性能的金属和非金属薄膜方面具有重要作用，尤其是在需要精确控制膜厚、成分和结构的应用中。
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高真空电弧熔炼系统是一种先进的冶金设备，它主要用于制备材质均匀的合金母材或金属熔锭。该系统由高真空获得与测量系统、电弧熔炼系统、电磁搅拌系统及电气控制系统等四部分组成，确保了在高真空环境下进行电弧熔炼的高效性和稳定性。高真空机组采用分子泵及机械泵组成，能够达到极限真空度≤6.7×10^-5Pa，漏率≤10^-7 Pa•L/s，为熔炼过程提供了理想的高真空环境。电弧熔炼系统采用优质弧焊电源，高频起弧，钨极与材料不接触，无污染，确保了熔炼过程的纯净性。
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高真空无坩埚气雾化制粉系统（钛合金专用）是一种为钛合金粉末制备专门设计的先进冶金设备。该系统采用高真空环境进行无坩埚气雾化制粉，有效避免了坩埚材料对金属熔体的污染，从而保证了钛合金粉末的高纯度和优良性能。这对于航空航天、船舶工程和特殊环境领域中使用的高温合金粉末制备尤为重要，因为这些领域对材料的抗热腐蚀性、抗氧化性、高温稳定性和结构稳定性有着极高的要求。
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金属纳米粉蒸发制备系统是一种专业的设备，它在冶金领域中具有重要的应用价值。该系统主要用于制备金属超微粉体材料，具备真空熔炼和浇铸等多功能，非常适合雾化制粉工艺的探索和小批量生产。系统由高真空获得与测量系统、感应熔炼系统、雾化系统、收集系统、尾气处理系统及电气控制系统等六部分组成，能够实现精确控制和高效运作。
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高真空气雾化制粉系统是一种先进的冶金设备，主要用于制备金属超微粉体材料，同时具备真空熔炼和浇铸等功能，非常适合雾化制粉工艺的摸索和小批量生产。该系统由六大部分组成，包括高真空获得与测量系统、感应熔炼系统、雾化系统、收集系统、尾气处理系统及电气控制系统，确保了整个制粉过程的高效与稳定。
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HT型号真空中频熔炼炉是一款智能化、高效率的真空熔炼设备，专为贵金属铸造设计。其采用380V电压，功率范围20KW~160KW（可定制），具备高度智能化的操作系统，仅需一个按钮即可实现全自动熔炼和铸造过程，普通工人即可独立操作，显著降低生产成本。设备在真空条件下完成铸造，有效避免金块、银块氧化、收缩和水波纹的产生，确保铸锭质量。同时，完善的自我诊断系统和保护功能，保障设备低故障率运行，高度密封的铸造缸全程无火焰，确保人机安全。
2025年03月20日 ~ 22日 
2025年03月28日 ~ 30日 
2025年03月28日 ~ 30日 
2025年04月11日 ~ 13日 
2025年04月24日 ~ 27日 
