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KJ-1200T-S6015LK1-H系列滑动式快速退火炉主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，应用于高、中、低温CVD工艺，如碳纳米管的研制，晶体硅基板镀膜，金属材料扩散焊接以及真空或气氛下的热处理等。
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真空RTP退火炉可在真空、气氛环境下，对样品进行快速热处理，主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，如：薄膜沉积，不同材料快速退火、硅化、扩散、晶化和致密化等。
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该真空管式炉日常工作温度是1000度，炉膛采用氧化铝纤维衬里，智能控温，操作简单，智能化程度高。主要应用于晶体退火、电子照明、二维材料烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、CVD实验、物质成分测定等领域。
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1100℃真空管式炉引进国外的技术，自主研发生产的、节能、新型电炉。外观美观大方，采用冷轧钢板，数控机床和高精密的激光切割机、数控折弯机加工成，表面采用双色氧化粉末进行静电喷塑处理，经久耐用、不掉色、耐高温、耐腐蚀。该管式实验炉主要用于制备稀土、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造、金属热处理等工业真空烧结、保护气氛烧结、真空沉积、CVD实验、材料成分测定等场合。
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自动进出料旋转管式炉适用于短时间加热的物料处理。首先将设备开始加热达到目标温度，然后将炉体调整一定倾斜角度，开启进料铰刀将物料连续送入炉管，物料穿过工作管的加热区，从另一端进入到储料罐内。热处理时间的长短取决于炉管的倾斜度、旋转速度、炉管长度以及物料的流动性。
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该旋转管式炉是一种具有特殊旋转和倾斜功能的高温反应器。 专为无机化合物的烧结而设计，如矿物颗粒和电池材料，具有更好的均匀性。 多加热区、冷凝器和尾气收集装置可根据不同实验选配。
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这款五温区智能控温管式炉可拥有2-5个加热区，每个温区可单独控温，具有安全可靠，操作简单，控温精度高，保温效果好，炉膛温度均匀性高等优点。可通气氛抽真空，广泛应用于高等院校，科研院所，工矿企业做高温烧结金属材料处理实验、质量检测和小批量生产等。本款多温区管式炉主要适用于在真空或保护气氛中，多种温度段下材料的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积(CVD)工艺，碳纳米管及硅纳米线的制备等。
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KJ-T1000-F是一个三温区可倾斜的旋转管式炉，三个温度控制器可以独立控制温度，并可以设置30个温度上升和下降程序。温度区1(加热区的中心)由硅钼棒加热，其余两个温度区由硅碳棒加热。该管式炉可以形成温度梯度，调节三个温度区域的温度，并在热梯度下制备功能材料，同时也使用于CVD法制作薄膜外延生长之用。
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KJ-T1600活性炭管式炉是由管式炉+蒸汽发生器组成，其中管式炉部分的工作温度可达1500℃，工作过程中通过蒸汽发生器生成蒸汽，将蒸汽通入放入材料的管式炉中进行加热，以果壳等为材料，生成活性炭。该高温管式炉适用于粉料、颗粒的动态烧结，使物料受热更均匀、烧结时间缩短、能耗降低、品质高。带蒸汽发生器管式炉主要用于实验室和企业对制备活性炭进行物料样本分析或者大量制备，可根据产量或者生产条件进行设备定制。
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KJ-T89-3旋转管式炉采用钼电阻丝作为加热元件。炉内最高温度可达900℃。此款回转炉温度曲线可设置为16条工艺曲线，30段可编程，并由高级温度控制器自动运行。它是多加热区设计，用于样品均匀加热，用户还可以设置温度梯度。不锈钢管内的螺旋进料器，连接到电机轴，磁流体密封，螺旋进料器随电机工作而旋转，样品前进，因此可以连续处理样品。同时转速可调，从0.05至2RPM，用户可以调整样品在热区的停留时间。它非常适合材料研究、陶瓷研究实验室开发各种新材料。
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本产品是一种超声波喷雾热解炉，也叫做三温区超声喷雾热解管式炉，该设备由超声雾化装置、1200℃三温区管式炉、供气系统、真空系统和高压静电收集装置组成。材料制备通过前驱体雾化、加热和纳米颗粒收集这三个步骤，来用于合成纳米核壳结构的多功能性。此款高温热解炉是一款非常优良的合成系统。针对于合成各种纳米结构氧化物以及纳米材料的复合包覆工艺。
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1600度小型立式高温管式炉是科佳电炉专为针对粉末表面沉积的CVD实验开发而成的，采用高纯氧化铝纤维精制炉膛，该立式管式炉炉操作简单、控温精度高、保温效果好、炉膛温度均匀性高、可通气氛抽真空等特点。立式管式炉主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，应用于高、中、低温CVD工艺，如碳纳米管的研制，晶体硅基板镀膜，金属材料扩散焊接以及真空或气氛下的热处理等。
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科佳KJ-T1200-V60是一款流化床立式管式炉，专门针对粉末表面沉积的CVD实验，炉管为高纯石英异形管，炉管内部配置一嵌有一多孔石英板的石英舟，石英板的孔径可单独定制。粉末可放在多孔石英板上，气体可从炉管下端通入，通过多孔石英板使样品颗粒悬浮在加热区域，进行沉积实验。注意：在通入气体悬浮起样品颗粒时，也许会因为气体流量过大会使颗粒穿过加热区，所以实验时要根据颗粒的大小尺寸来调节气体流量。
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该立式管式炉采用炉管垂直放置、炉膛加热丝环形分布的结构设计，可应用于小型钢件的退火、回火热处理，以及立式CVD镀膜等。设备可在气氛状态、真空状态下运行，也可作为普通管式炉使用，适用于高校实验室及科研院所等单位。
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1600℃高温立式管式炉广泛应用于各种反应温度在1600℃左右的CVD实验;还可用于真空烧结、气氛保护真空烧结、电池材料、纳米相关材料的制备等。
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