设备介绍
	
	此款多温区CVD系统是由多通道高精度的质量流量计、低真空机组以及1200度高温管式炉组成。该CVD化学沉积系统广泛应用在半导体、
纳米材料、
碳纤维、
石墨烯等
新材料、新工艺领域。
 
	
	产品优势
	
	PID程控技术
	
	控制电路选用模糊PID程控技术,该技术控温精度高,热惯性小,温度不过冲,性能可靠
	
	操作方便快捷
	
	气路采用快速连接法兰结构,提高操作便捷性
	
	稳定的真空系统
	
	中真空系统具有真空度上下限自动控制功能,高真空系统采用高压强,耐冲击分子泵
	
	技术参数
	
	产品名称 三温区CVD系统
	
	产品型号 KJ-OTF-1200-80*220*3-F3
	
	加热系统
	
	显示 LED
	
	最高温度 1200℃
	
	工作温度 1100℃
	
	升温速率 建议: 0~10℃/min
	
	温区 3温区
	
	每个区域的长度 220mm(其他尺寸可根据客户需求定制)
	
	加热元件 钼电阻丝
	
	热电偶 N型
	
	温度控制精度 ±1℃
	
	炉管尺寸/材质 80 x 1300mm (其他尺寸可根据客户需求定制)
	
	材料:高纯度石英
	
	温度控制 通过SCR功率控制的PID自动控制
	
	加热过程 30步可编程
	
	真空测量 复合数字真空计
	
	真空法兰 带阀和针的不锈钢真空法兰
	
	真空泵系统 冷态极限真空6.67*10-3Pa。真空泵总成(旋转叶片泵+扩散泵)
 
	
	气路系统
	
	高精度质量流量计 3气路Ar、N2、C2H4气体
	
	流量范围 可选(20、30、50、100、200、300、500)SCCM
	
	工作压力差范围 0.1~0.5MPa
	
	耐压性 3MPa
	
	温度系数 零点:≤±0.2%F.S./℃;量程:≤±0.2%F.S./℃
	
	工作环境温度 5~45℃