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高真空CVD系统(单温区)

高真空CVD系统(单温区)

浏览量 580
规格/型号:暂无
品牌:西尼特
应用领域:材料制备
产地:北京 - 北京
厂家/供应商:西尼特(北京)科技有限公司
咨询电话::18501253290(请说明信息源自“北方有色网”)
更新时间:2025-08-20
级别:待认证

高真空CVD系统(单温区)说明介绍

产品用途

CNT高真空CVD系统是一款专业在沉底材料上生长高质量石墨烯碳纳米管碳化硅的专用设备,广泛应用于在半导体、纳米材料碳纤维、碳化硅、镀膜等新材料新工艺领域。

产品结构

高真空CVD系统主要由高温腔体、石英管、石英支架、气路系统、分子泵机组、自动化控制系统、冷却系统等组成。

高真空CVD系统(单温区)

1、沉底材料可采用箔、石墨等;

2、生长腔体采用进口高纯石英管,配石英支架、为石墨烯等材料的生长提供洁净环境;

3、加热腔体采用进口陶瓷纤维加热器,均温区200mm、对开式结构;

4、密封法兰均采用不锈钢材质,配水冷套,可连续长时间工作;

5、气路系统采用三路质量流量计(可拓展多路),配预混系统;

6、真空系统采用分子泵机组;

7、控制系统采用10寸触摸屏加西门子PLC模块;

8、可选配RF射频电源模块;

9、气体种类: He/Ar、C2H2、NH3、N2, H2、PH3、GeH4、B2H6

10、温度、气体、真空、冷却水等通过PLC控制,通过PC实时控制和显示相关的实验参数,自动保存实验参数,也可采用手动控制.

11、系统采用集成化设计,控制系统、混气罐、质量流量计等均内置在箱体内部,占地面积小。整体安装四个可移动轮子,方便整体移动。

细节展示

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