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1200℃PECVD系统

1200℃PECVD系统

浏览量 762
规格/型号:KJ-PECVD-1200-50*300-F3
品牌:鸿炉机械
应用领域:材料制备
产地:河南 - 郑州
厂家/供应商:河南鸿炉机械设备有限公司
咨询电话::177-3714-9370(请说明信息源自“北方有色网”)
更新时间:2025-07-29
级别:待认证

1200℃PECVD系统说明介绍

1200℃PECVD系统

设备介绍

PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。该PECVD管式炉温度范围宽;溅射区域长;整管可调;精致小巧,性价比高,可实现快速升降温,是实验室生长薄膜石墨烯,金属薄膜,陶瓷薄膜,复合薄膜等的理想选择,也可作为扩展等离子清洗刻蚀使用。

产品优势

更好的沉积效率

PECVD比普通CVD具有更高的化学气相沉积速率、更好的均匀性、一致性和稳定性

所需温度更低

PECVD对于化学气相沉积需要比普通CVD更低的温度

成品质量好

具有基本温度低、沉积速率快、成膜质量好、针孔较少、不易龟裂等优点

技术参数

产品名称 1200℃PECVD系统

产品型号 KJ-PECVD-1200-50*300-F3

加热系统

显示 LED

最高温度 1200℃

长期工作温度 ≤1100℃

升温速率 0~10℃/min

温区长度 300mm(其他尺寸可根据客户需求定制)

加热元件 硅钼棒

热电偶 N型

温度均匀性 ±1℃

炉管尺寸 直径60 x 长度1200mm(其他尺寸可根据客户需求定制)

材质:氧化

温度控制 通过可控硅功率控制进行PID自动控制

加热过程 30步可编程

最大工作压力 0.02MPa

真空系统

旋片泵 冷态极限真空10Pa

真空计 数显真空计

真空法兰 带阀门和针头的不锈钢真空法兰

质量流量计

流量范围 CO2(流量范围:0-200 sccm

CH4(流量范围:0-200 sccm)

N2 流量范围(流量范围:0-200 sccm)

等离子射频发生器

输出功率:0 -300W可调,±1%稳定性

射频频率:13.56 MHz ±0.005% 稳定性
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