无锡吉致电子25年研发生产——铝合金抛光液/铝合金slurry/铝合金悬浮液/铝合金抛光液抛光浆料Slurry/铝合金CMP抛光液/铝合金化学机械抛光液/铝合金lapping研磨抛光液/铝合金化学机械抛光液Slurry/铝合金CMP集成电路抛光液/JEEZ铝合金抛光液
超微量超声波细胞破碎机XM-500T功率:500(W)频率:30(KHz)容量:0.05-400ml(L)品牌:小美超声型号:XM-500T产品介绍:全新一代超微量超声波细胞破碎机:同类中的佼佼者。小
新一代冲击式气流粉碎机申请***号:20191081114.3、201910811105.8针对磁性材料(钕铁硼)磨料的**方案●冲突式就是靶式,无重复粉碎,内部无死角保证粉碎物料无金属离子,确保纯度
吉致针对碳化硅sic抛光的4道工艺制程搭配不同型号研磨液、抛光液和抛光垫(粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫)。在研磨和抛光应用中提高碳化硅衬底表面质量,同时大大提高材料去除率。
吉致电子陶瓷类抛光液适用于碳化物、氮化物、氧化物和硼化物各精密陶瓷件的镜面抛光,通过CMP抛光工序可得到理想镜面效果,表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。
合金铜CMP抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的铜、合金铜工件的镜面抛光,CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用,可以使铜金属表面得到加工和平整坦化。化学氧化铜金属后磨蚀性去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果,工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。
金属钼片抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的钼、钼合金工件的镜面抛光,抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用,可以使钼金属表面快速去粗和平整坦化。化学氧化腐蚀钼合金表面,研磨去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果,金属钼工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。
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