GF-5700手持矿石分析光谱仪可分析铜 铁 钛 钒 铬 锰 钴 镍 锌 锶 锆 钽 铌 钼 锡 锑 铪 钨 铅等自然矿石;暂时不能分析元素H, He, Li, Be, B, C, N, O,Mg, S, P, Si;现场快速分析各种金属矿石化学成份及品位,满足国内外各种条件差、没有分析试验室矿山单位,用于快速分析矿石成份及品位需求。温度-35~+50℃,湿度<80%RH。
NJQ-4A型数显碳硫全自动高速分析仪主要用于对钢、铁、矿石、焦碳以及其它材料中碳硫元素的精确定量分析,广泛应用于冶金、铸造、机械制造及加工等工矿企业,产品质检所,大专院校,科研院所。是化学分析工作者检测碳硫的设备。
无锡吉致电子25年研发生产——铝合金抛光液/铝合金slurry/铝合金悬浮液/铝合金抛光液抛光浆料Slurry/铝合金CMP抛光液/铝合金化学机械抛光液/铝合金lapping研磨抛光液/铝合金化学机械抛光液Slurry/铝合金CMP集成电路抛光液/JEEZ铝合金抛光液
吉致针对碳化硅sic抛光的4道工艺制程搭配不同型号研磨液、抛光液和抛光垫(粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫)。在研磨和抛光应用中提高碳化硅衬底表面质量,同时大大提高材料去除率。
吉致电子陶瓷类抛光液适用于碳化物、氮化物、氧化物和硼化物各精密陶瓷件的镜面抛光,通过CMP抛光工序可得到理想镜面效果,表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。
合金铜CMP抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的铜、合金铜工件的镜面抛光,CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用,可以使铜金属表面得到加工和平整坦化。化学氧化铜金属后磨蚀性去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果,工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。
金属钼片抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的钼、钼合金工件的镜面抛光,抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用,可以使钼金属表面快速去粗和平整坦化。化学氧化腐蚀钼合金表面,研磨去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果,金属钼工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。
QIR2002C型主要适用于钢铁、稀土金属、铁合金、磁性材料、有色金属、碳化物、陶瓷、无机物、石墨、耐火材料、铁矿、催化剂、炉渣、水泥、煤、焦炭、岩石及其它材料中碳、硫两元素的质量分数的测定。
一、仪器技术特点 1、仪器光学系统采用帕型-龙格装置,高真空,分辨率高、灵敏度高等特点;由于机刻光栅可以产生较好的光谱,所以选线更具灵活性,从而避免光谱干扰; 2、仪器结构设计合理,电子系统高度集成化电路,故障率低; 3、分析速度快、重复性好、稳定性好; 4、可用于多种基体分析: Fe、Co、Cu、Ni、Al、Pb、Mg、Zn、Sn等; 5、采用纯中文Windows系统下的操作软件,操作简单易懂; 6、计算机软件建有数据库系统,方便了测量数据的查询与打印,也可通过网络远程传输数据,方便快捷;