江苏有色金属材料

西臣铠甲带 879     

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本产品快速水固化或空气固化，无臭、无毒、不易燃烧，坚固耐用，耐水耐腐蚀性强、绝缘性高，由于其使用方便，便于携带，并可随意塑形，是特殊环境场合支架结构维修、防护防腐蚀、电缆密封拼接和高温下使用的理想材

吉致电子JEEZ铝合金抛光液/铝合金slurry/铝合金悬浮液/铝合金抛光液抛光浆料Slurry 2461     

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无锡吉致电子25年研发生产——铝合金抛光液/铝合金slurry/铝合金悬浮液/铝合金抛光液抛光浆料Slurry/铝合金CMP抛光液/铝合金化学机械抛光液/铝合金lapping研磨抛光液/铝合金化学机械抛光液Slurry/铝合金CMP集成电路抛光液/JEEZ铝合金抛光液

阻尼布抛光垫 1339     

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吉致电子抛光垫满足低、中及高硬度材料抛光需求，针对碳化硅SIC抛光的4道工艺制程搭配不同型号抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）具有高移除率、高平坦性、低缺陷和高性价比等优势。

碳化硅抛光垫 1295     

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吉致电子抛光垫满足低、中及高硬度材料抛光需求，针对碳化硅SIC抛光的4道工艺制程搭配不同型号抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）具有高移除率、高平坦性、低缺陷和高性价比等优点。

钨抛光液 1126     

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吉致电子钨W抛光液适用于8-12吋氧化硅镀膜片的抛光。特选粒径均一的SiO2水溶胶为磨料，抛光清洗后晶圆表面粗糙度低、颗粒残留少。与国内外同类产品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特点.

吉致电子SiC碳化硅衬底研磨抛光产品 2110     

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吉致针对碳化硅sic抛光的4道工艺制程搭配不同型号研磨液、抛光液和抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）。在研磨和抛光应用中提高碳化硅衬底表面质量，同时大大提高材料去除率。

吉致电子JEEZ陶瓷抛光液 CMP纳米级抛光液 2117     

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吉致电子陶瓷类抛光液适用于碳化物、氮化物、氧化物和硼化物各精密陶瓷件的镜面抛光，通过CMP抛光工序可得到理想镜面效果，表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。

吉致电子JEEZ铜抛光液/合金铜抛光液/铜表面抛光液/金属研磨液/镜面抛光液 2053     

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合金铜CMP抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的铜、合金铜工件的镜面抛光，CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使铜金属表面得到加工和平整坦化。化学氧化铜金属后磨蚀性去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。

吉致电子JEEZ钼抛光液/金属钼抛光/激光反射镜抛光液/CMP研磨液/镜面抛光液 2193     

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金属钼片抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的钼、钼合金工件的镜面抛光，抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使钼金属表面快速去粗和平整坦化。化学氧化腐蚀钼合金表面，研磨去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，金属钼工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。