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分子束外延是一种新的晶体生长技术，简记为MBE。其方法是将半导体衬底放置在超高真空腔体中，和将需要生长的单晶物质按元素的不同分别放在喷射炉中（也在腔体内）。由分别加热到相应温度的各元素喷射出的分子流能在上述衬底上生长出极薄的（可薄至单原子层水平）单晶体和几种物质交替的超晶格结构。分子束外延主要研究的是不同结构或不同材料的晶体和超晶格的生长。该法生长温度低，能严格控制外延层的层厚组分和掺杂浓度。
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全数字交、直流TIG焊机是一种先进的焊接设备，其额定输出电流为300A，能够实现交流TIG、直流TIG和混合TIG焊接。这种焊机主要应用于高效率弧焊工艺设计和焊接熔池形貌演变机理研究，为焊接工艺的优化和创新提供了重要的技术支持。
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YD-400GE2焊接是一种先进的焊接设备，其主要用途是钢和铝的焊接。该设备能够提供额定输出电流400A，送丝直径范围在0.8-1.6mm之间，适用于多种焊接需求。保护气氛可以是CO₂、Ar、Ar+CO₂、Ar+O₂，这为焊接过程提供了灵活性，能够适应不同的焊接条件和材料要求。这种焊接设备在冶金领域的应用，特别是在汽车轻量化领域，通过充分发挥高强度钢板和铝合金的优势，实现节能减排的目的，具有重要的实际意义。
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SSJ-Ⅱ型1600℃高温箱式实验热处理炉是一种在冶金领域中应用广泛的设备，它能够在最高使用温度1600℃的条件下进行工作。该设备采用硅钼棒作为发热元器件，具有快速的温控速率，能在室温至1600℃的条件下在60分钟内达到所需温度，同时保持温控精度在±2℃。这种精确的温度控制能力对于进行高温烧结、金属退火、化工、冶金、陶瓷等多个领域的实验和生产至关重要。
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SSJ-13A型1300℃箱式实验热处理炉是一种为冶金领域设计的高效热处理设备。该炉能够满足最高使用温度1300℃的需求，采用硅碳棒作为发热元器件，确保了设备在高温下的稳定性和可靠性。温控速率在室温至1300℃的条件下不超过40分钟，而温控精度达到±2℃，这使得该设备能够精确控制加热过程，满足不同材料和工艺的需求。此外，该设备的额定功率为8kw，工作电压为380V，这些参数使得设备在工业应用中具有较高的能效比和操作便利性。
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模拟热处理炉是一种在冶金领域中应用广泛的设备，它具备加热和冷却两路控制系统，能够实现高控温精度和热工艺模拟性能。这种设备可以广泛用于金属材料的热处理工艺试验和对工艺的评价，对于优化热处理工艺、提高材料性能具有重要意义。模拟热处理炉的最高使用温度可达1600℃，发热元器件采用硅钼棒，这种材料能够在高温下保持稳定，确保了加热过程的可靠性。温控速率在满载时达到400℃/h，温控精度为±3℃，这使得模拟热处理炉能够精确控制加热过程，满足不同材料和工艺的需求。
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在冶金实验领域，精准、高效的纳米金属粉体制备是探索新材料性能与工艺的关键。实验型电弧等离子体金属纳米粉制备系统为冶金研究提供了理想的解决方案。该设备能够制备纳米级金属粉体，涵盖稀土材料在内的绝大多数金属，且对原材料形貌尺寸无限制，突破了传统冶金实验方法的局限。其由高真空获得与测量系统、粉体制备系统、粉体收集系统及电气控制系统组成，高真空机组采用复合分子泵及机械泵，制备室极限真空度可达≤5.0×10⁻³Pa，收集室极限真空度≤8.0×10⁻³Pa，为冶金实验中的粉体生成提供稳定的真空环境，确保粉体的纯度和质量。
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在冶金行业，纳米金属粉体材料的应用前景广阔，而电弧等离子体金属纳米粉制备系统正是为满足这一需求而诞生的先进生产型设备。该设备以卓越的冶金工艺为基础，能够高效批量制备纳米级金属粉体材料，涵盖稀土材料在内的绝大多数金属，且对原材料形貌尺寸无限制，展现出传统冶金制备方法难以企及的优越性。其高真空获得与测量系统、粉体制备系统等六大组成部分协同运作，其中高真空机组采用复合分子泵、罗茨泵、机械泵组合，为冶金过程中的粉体生成提供稳定的真空环境，确保粉体质量与性能。
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高真空磁控溅射离子镀膜设备是一种在现代冶金和材料科学领域中不可或缺的先进工具。该设备通过在高真空环境下进行磁控溅射或多弧离子镀膜，能够制备出高质量的薄膜材料，广泛应用于各种工业和科研领域。设备的主要功能包括高真空获取与测量、样品或工件的精确放置与运动控制、磁控靶或多弧源的灵活选择以及辅助镀膜工艺的集成。
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高真空脉冲激光沉积系统（PLD）是冶金和材料科学领域中一种先进的薄膜沉积技术。它通过使用高能脉冲激光快速蒸发靶材，生成与靶材组成相同的薄膜，特别适用于制备复杂氧化物、陶瓷和半导体材料等。PLD技术的独特之处在于能量源（脉冲激光）位于真空室外部，这使得在材料合成时，工作压力的动态范围非常宽，能够达到10^-8Pa至1Pa，从而为合成具有独特功能的纳米结构和纳米颗粒提供了可能。
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高真空电子束热蒸发系统（E-Beam）是冶金和材料科学领域中一种精密的真空镀膜设备。该系统利用电子束蒸发源技术，能够实现高效率和高精度的材料蒸发与沉积，适用于制备各种金属、合金以及化合物薄膜。在冶金行业中，这种系统特别适用于高性能材料的制备，如高温合金、磁性材料、光学涂层和电子材料等。
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高真空电阻热蒸发系统是一种专为冶金和材料科学领域设计的先进设备，它在高真空环境下进行材料的蒸发和沉积，广泛应用于制备薄膜、纳米材料以及进行材料表面改性等。该系统由高真空获得与测量系统、样品台或工件转架系统、有机（OLED）/金属蒸发源系统及电气控制系统等四部分组成，确保了蒸发过程的精确控制和高效进行。
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等离子体增强化学气相沉积（PECVD）是一种在冶金和材料科学领域广泛应用的技术，它通过利用等离子体的活性来增强化学反应速率，实现高质量薄膜的沉积。这种设备在制备高性能的金属和非金属薄膜方面具有重要作用，尤其是在需要精确控制膜厚、成分和结构的应用中。
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高真空电弧熔炼系统是一种先进的冶金设备，它主要用于制备材质均匀的合金母材或金属熔锭。该系统由高真空获得与测量系统、电弧熔炼系统、电磁搅拌系统及电气控制系统等四部分组成，确保了在高真空环境下进行电弧熔炼的高效性和稳定性。高真空机组采用分子泵及机械泵组成，能够达到极限真空度≤6.7×10^-5Pa，漏率≤10^-7 Pa•L/s，为熔炼过程提供了理想的高真空环境。电弧熔炼系统采用优质弧焊电源，高频起弧，钨极与材料不接触，无污染，确保了熔炼过程的纯净性。
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高真空无坩埚气雾化制粉系统（钛合金专用）是一种为钛合金粉末制备专门设计的先进冶金设备。该系统采用高真空环境进行无坩埚气雾化制粉，有效避免了坩埚材料对金属熔体的污染，从而保证了钛合金粉末的高纯度和优良性能。这对于航空航天、船舶工程和特殊环境领域中使用的高温合金粉末制备尤为重要，因为这些领域对材料的抗热腐蚀性、抗氧化性、高温稳定性和结构稳定性有着极高的要求。
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金属纳米粉蒸发制备系统是一种专业的设备，它在冶金领域中具有重要的应用价值。该系统主要用于制备金属超微粉体材料，具备真空熔炼和浇铸等多功能，非常适合雾化制粉工艺的探索和小批量生产。系统由高真空获得与测量系统、感应熔炼系统、雾化系统、收集系统、尾气处理系统及电气控制系统等六部分组成，能够实现精确控制和高效运作。
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高真空气雾化制粉系统是一种先进的冶金设备，主要用于制备金属超微粉体材料，同时具备真空熔炼和浇铸等功能，非常适合雾化制粉工艺的摸索和小批量生产。该系统由六大部分组成，包括高真空获得与测量系统、感应熔炼系统、雾化系统、收集系统、尾气处理系统及电气控制系统，确保了整个制粉过程的高效与稳定。
2025年03月21日 ~ 23日 
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