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网带式可控气氛炉是一种可在露天和可控气氛环境中工作的连续式生产炉。它主要用于厚膜电路、电阻器、电容器和电感器等电子元件的高温烧结工艺。该炉采用精选陶瓷纤维加热器，反应迅速，温度均匀；采用轻质陶瓷纤维隔热材料，能耗低；采用网带传动系统，传动稳定；采用多独立温度热区控制，调节灵活。它还可选配网带超声波清洗系统和中央计算机控制装置。该炉可进行定制，以满足特定的工艺要求，包括气氛、温度和产量。
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KT-PE16 倾斜旋转式 PECVD 炉 PECVD 炉由一个 500W 射频等离子源、一个双区 TF-1200 管式炉、4 个 MFC 气体精确控制单元和一个标准真空站组成。炉子的最高工作温度可达 1600℃。工作温度高达 1600℃，炉管为直径 60mm 的 Al2O2 陶瓷管；4 通道 MFC 质量流量计，气源为 CH4、H2、O2 和 N2；真空站为 1 台 4L/S 旋片真空泵，最大真空压力为 10Pa。
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KT-PE12 带液体气化器的滑动 PECVD 系统由一个 500W 射频等离子源、一个 TF-1200 滑动炉、4 个 MFC 气体精确控制单元和一个标准真空站组成。炉腔轨道滑动系统，可实现快速加热和快速冷却，可选配辅助强制空气循环风扇，加快冷却速度；可选配滑动自动工作装置；最高工作温度可达 1200℃。工作温度最高可达 1200℃，炉管为一根直径 60 毫米的石英管；4 通道 MFC 质量流量计，气源为 CH4、H2、O2 和 N2；真空站为一台 4L/S 旋片真空泵，最大真空压力可达 10P。真空压力可达 10Pa。
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KT-CTF14 多区 CVD 炉有 2 个加热区，最高工作温度可达 1200℃，炉管为直径 60mm 的石英管；4 通道 MFC 质量流量计，气源为 CH4、H2、O2 和 N2；真空站为 4L/S 旋片真空泵，最大真空压力可达 10Pa。真空压力可达 10Pa。
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带真空站的分体式 CVD 管式炉是一款多功能、高性能的实验室设备，专为化学气相沉积 (CVD) 应用而设计。它采用分体式炉腔，便于接触反应样品和快速冷却。炉管由高温石英制成，直径为 60 毫米。该系统包括一个 4 通道 MFC 质量流量计，配有 CH4、H2、O2 和 N2 源气体，可对气体流速进行精确控制。真空站采用 4L/S 旋片真空泵，最大真空压力为 10 Pa。带真空站的分室 CVD 管式炉具有先进的功能和性能，是材料科学、半导体加工和其他领域各种研发应用的理想选择。
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陶瓷纤维内衬真空炉是一种使用陶瓷纤维作为隔热内衬的真空炉。陶瓷纤维是一种轻质多孔材料，具有出色的隔热性能。因此，它是用于真空炉的理想材料，有助于减少热量损失和提高温度均匀性。
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该设备在锂离子电池正负极材料的煅烧和干燥任务中表现出色，也可用于稀土材料、化学催化材料、磁性材料等多种材料的高温反应、热处理等。其采用优越的加热和绝缘材料，使用寿命长且节能，配备PID智能热控制，加热精确，热均匀性好。7英寸TFT触摸屏控制器使程序设置和历史数据分析更加友好。此外，设备还具备科学的旋转系统设计，工作稳定，大范围无级调速，电动倾斜功能可灵活控制物料移动。独特的稳定动态真空密封技术使其能够在真空和可控气氛两种环境下工作。
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分体式多加热区旋转管式炉是一种高配置旋转炉，具有 2-8 个独立的加热区，每个加热区都有自己的热控制器，可实现出色的温度控制。它具有旋转和倾斜功能，可无级调速和调节倾斜角度。该炉可在真空和可控气氛环境下运行，是煅烧、干燥、高温反应、热处理和热解等各种应用的理想之选。它的优点包括温度分布均匀、能效高、热控制精确、用户界面友好以及可定制的设计选项。
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真空感应熔化纺丝系统电弧熔化炉是一种用于制备非晶和微晶材料的专用设备，适用于易析出材料的快速熔化与冷却成型。该系统可处理20-1000克材料，配备1-70毫米宽的传送带和直径φ200-φ300毫米的高速旋转器（3000转/分钟），真空度可达6.7×10⁻⁴Pa。它采用感应熔炼技术，将熔融金属快速冷却为薄带或薄丝，抑制结晶，获得非晶质材料。设备由不锈钢高真空室、感应熔炼装置、高速水冷铜纺轮、传送带或金属丝收集装置、感应电源、气动升降装置、温度传感器、循环水冷却器和高真空系统组成。
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2025年03月25日 ~ 27日 
2025年03月28日 ~ 30日 
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