广东深圳有色金属新能源材料设备

星云式混合分散设备 377     

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星云式混合分散设备：应用于锂电芯浆料高效合浆。产品特点1：分散更均匀、不沉降-制出来的浆料保持30天浆料不会沉降，浆料分散均匀，而传统搅拌机制出来的浆料4小时就会沉降分层，浆料分散不均匀。产品特点2;大幅度节能90%-能耗比传统搅拌机节能90%，完成650L浆料混合仅仅需要消耗12-15Kwh的电量，而传统搅拌机完成650L浆料混合需要消耗。

石墨烯纳米新材料反应器 381     

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石墨烯、纳米新材料反应器是一款高性价比，模块化的实验室反应器，旨在优化各种化学反应过程以及多种实验室应用如混合，分散，均质化等等。它专为有特殊应用需求的化妆品和制药行业设计，介质zui高温度可达120ºC。通过对位于反应容器底部的热源温度进行控制从而使介质达到设定温度。

超声波分散设备 385     

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设备简要描述：本公司生产的 超声波分散设备已取得实用新型专业，应用于涉及新能源动力电池材料的混合、分散装备，具体说是一种纳米超声高速分散设备。

超声波搅拌机 379     

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超声波搅拌机：主要用于各种微纳米材料、新能源材料、无机阻燃剂等的破损、分散、分级、改性等，超声波可以强化传质、混合、形核、结晶、溶解、分解、聚合、降解、乳化等多种反应。

全自动超声波搅拌设备 375     

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纳威科技(深圳)有限公司全自动超声波搅拌设备简要描述：本公司全自动超声波搅拌设备有如下特点：1. 搅拌混合均匀度特别高;2. 搅拌混合效率特别高;3. 满足高新材料(如石墨烯)超细材料的精细化搅拌混合要求;4. 省时省力：混合时间缩短80%以上，设备尺寸小，省空间。

撞击流反应设备 370     

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撞击流反应器技术，反应相从气一气相一直经历了 气一液相、 液一液相反应的发展， 尤其是近几年不仅在反应一沉淀或反应一结晶及反应一吸收过程都显示出优良的性能， 同时在纳米或亚微米材料、 撞击流干燥、 撞击流粉碎和研磨、 撞击流吸收等领域获得了 广泛应用。

研磨分散机 374     

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研磨分散机简要描述：研磨分散机主要用于一维、二维微纳米材料的分散，如一维的碳纳米管、银纳米线、二维的石墨烯、云母片、片状石墨等。

石墨烯分散机 372     

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石墨烯分散机该系列集合了超声波液体处理研发和测试的所有项目。包括超声波驱动电源、不锈钢反应金及流动控制系统有效结合，可以高效处理5升以上的各种样本。配置蠕动泵、温度检测和压力检测，可以更好的控制流动的方向和流速，模拟现场工况、监测系统运行以及进行数据收集，并可选配专门为干粉物料配备的固液混合加料机。通过该系统所获得的成果，可以很容易的复制到工业生产线上。

全自动超声波分散机 374     

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全自动超声波分散机主要用于各种微纳米材料、新能源材料、无机阻燃剂等的破损、分散、分级、改性等。

气液混合反应器 367     

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这是一款集撞击流、射流、超声波等动力为一体的混合反应器，效率高、反应一至性好;专利产品，适合实验室、高校、研究所等。适用于二种反应液体积(1:3之内)差别不大、对传质混合分散要求高、且有沉淀生成的化学分散，超声波、动率可以强化传质、混合、形核、结晶、溶解、分解、聚合、降解、乳化等多种反应过程。

纳米材料分散设备 384     

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纳米材料分散设备简要描述：纳米材料分散设备这是一套可年产5000吨干粉的一体化设备，可用于电池材料前驱体生产、磷酸锂铁等规模浆料，干粉的制备。新能源电池材料制备设备，整个设备由对应的模块组装而成;由整体的控制系统统一控制，以实现模块化、连续化、智能化，小型化的特点。颗粒更细，达纳米级;粒径分布均匀;形貌一致性高。

水洗清洗设备 388     

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水洗清洗设备简要描述：水洗清洗设备清洗各类型油污，适用于多种零件材质的清洗。工艺简单、使用成本低、性价比高。智能化、远程监控；严格执行行业标准，满足工业环境要求;有观察窗，工艺可程清晰可见;工控采用松下、西门子等，性能安全，质量可靠。

微米材料分散设备 386     

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微米材料分散设备特点：石墨烯固含量可达10%，稳定性好。真空度可控、超声波强度可调、温度可控、搅拌速度可控，连续化工作，三级分级使石墨烯浆料综合性能更好。

纳米抛光液分散设备 381     

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纳米抛光液分散设备简要描述：纳米抛光液分散设备:主要用于CMP纳米抛光液的分散和各种微纳米材料、新能源材料、无机阻燃剂等的破损、分散、分级、改性等。

超声波分散机 389     

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超声波分散机简要描述：超声波分散机用于将固体分散生解聚成液体的应用。应用范围广，如： 化工、医药、化学、新材料、食品、化妆品等。设备小型化，占地面积小，操作及保养简单，能耗低。

机械抛光液制备设备 381     

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NP-CMP化学机械抛光液制备设备主要用于CMP(化学机械抛光液)(包括基于氧化硅纳米颗粒的抛光液、氧化铈纳米颗粒的抛光液、碳化硅化学机械抛光液、氧化铝体系和硅溶胶体系的超精密加工类化学机械抛光液)的分散和各种微纳米材料、新能源材料、无机阻燃剂等的破碎、分散、分级、改性等。

坩埚自动出料机 384     

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本机主要为提升坩埚出料效率、减小劳动强度、实现无尘化车间而开发设计的。通过盾构犁松、吸料、升降等功能模块配合控制,实现高效率、高精度、无粉尘作业。

滚筒式高效混合机 379     

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滚筒式高效混合机，柔性混合,混合时不破坏物料本身(适用于颗粒、薄片等)。工作时滚筒旋转，内部两组固定的正反螺旋奖叶将物料以不同的方向导向空中对流，实现快速均匀的混合。

HJT全自动半片卷纸印刷机 379     

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设备名称：HJT全自动半片卷纸印刷机；设备型号：SC-PT09L/RA；设备用途：把银浆通过压力印刷至电池片表面，经过烘干固化后成为太阳能电池正负极。

全自动卷纸印刷机 386     

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设备型号 Equipment Model：SC-PT04LA；设备用途 Equipment Application：把铝浆、银浆通过压力印刷至电池片表面，经过烘干烧结后成为太阳能电池正负极。

板式透明导电薄膜沉积设备 374     

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设备型号 Equipment Model：PAR5500A；设备用途 Equipment Application：板式物理镀膜设备用于镀着透明导电薄膜于衬底(硅片、玻璃片、柔性基板)。

HJT板式等离子体增强化学气相沉积设备 379     

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工艺气体在射频RF电磁场环境中电离相互反应，在衬底上沉积出相应的薄膜材料。

HJT清洗制绒设备 378     

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设备用途：对高效太阳能电池异质结电池片进行制绒、清洗。工艺流程：酸洗→纯水清洗→去损伤→PSC1→纯水清洗→制绒→纯水清洗→纯水清洗→PSC1→纯水清洗→化学抛光(O3)→纯水清洗→SC2处理→纯水清洗→氢氟酸洗→纯水清洗→预脱水→烘干。

全自动石墨舟装卸片机 379     

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本设备为在线式，可与一台或两台侧出舟设备对接，实现石墨舟的自动传输和硅片自动装卸，满足在太阳能电池片生产过程中的PECVD工艺前后，将片篮中的硅片自动装载到石墨舟，并将石墨舟输送到PECVD设备中，或将PECVD设备中的石墨舟输送到本设备，并将石墨舟中的硅片自动装载到片篮中。

管式LPCVD设备 380     

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设备名称：管式LPCVD设备 Horizontal LPCVD；设备型号 Equipment Model：LD-420/LD-420L/LD-420MAX；设备用途 Equipment Application：TOPCon电池隧穿氧化层、i-poly、D-poly低压化学气相沉积。

管式PE-Poly设备 369     

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设备名称：管式PE-Poly设备 Horizontal PECVD (Poly-Si)；设备型号 Equipment Model：PD-520/PD-520L/PD-520MAX；设备用途 Equipment Application：TOPCon电池隧穿氧化层、i-Poly、D-poly沉积。技术特点 Features：隧穿氧化层、i-poly、D-poly三合一同管完成，减少工艺环节，有效提升良率、降低碎片率。

管式PECVD设备 378     

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设备名称：管式PECVD设备 Horizontal PECVD；设备型号 Equipment Model：PD-520/PD-520L/PD-520MAX；设备用途 Equipment Application：SiN、SiON等薄膜沉积。Depositionof SiN, SiON ,etc.技术特点 Features：可靠电极接触，有效减少粉尘、降低高频报警频次。

管式A&P设备 370     

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设备名称：管式A&P设备 Horizontal PEALD (A&P)；设备型号：PD-520L/PD-520MAX；设备用途：AlO+SiN薄膜沉积。AlO+SiN Thin-film Deposition.技术特点：1、原子层沉积工艺特性，成膜均匀性好。2、同机台或同管完成多层膜沉积，减少工艺环节，有效提升良率、降低碎片率。

全自动石英舟装卸片机 385     

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集装片和卸片一体，可从石英舟中把扩散后的硅片卸到片篮中，也可从片篮中将制绒后的硅片装入石英舟中。可在⼀个石英舟插槽中插⼊两片，实现单面扩散片工艺，也可在⼀个石英舟插槽中插入一片，实现双面扩散片工艺。采用装片与卸片可连续衔接⽅式，实现连续生产;也可单独装片或单独卸片。

槽式碱抛光清洗设备 387     

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设备名称：槽式碱抛光清洗设备；设备型号：SC-CSZJ9600E-15F；设备用途：用于扩散后的硅片抛光刻蚀、清洗处理，以及搭配双面电池背面制绒、清洗处理。工艺流程：预清洗→抛光→后清洗(或O3清洗)→酸洗→预脱水→烘干（供参考）。