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板式透明导电薄膜沉积设备

板式透明导电薄膜沉积设备

342
规格/型号:PAR5500A
品牌:捷佳伟创
应用领域:材料制备
产地:广东 - 深圳
厂家/供应商:深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司
咨询电话::0755-81449696(请说明信息源自“中冶有色网”)
更新时间:2025-04-02
级别:待认证

板式透明导电薄膜沉积设备说明介绍

板式透明导电薄膜沉积设备

设备名称 Equipment Name


板式透明导电薄膜沉积设备(RPD/PAR/PVD) Inline TCO Coating Equipment (Reactive Plasma Deposition, RPD/PAR),and Magnetron Sputter,PVD


设备型号 Equipment Model


PAR5500A


设备用途 Equipment Application

板式物理镀膜设备用于镀着透明导电薄膜于衬底(硅片、玻璃片、柔性基板)。

In-line physical coating equipment for Transparent Conductive Oxide (TCO) coating on wafer,glass plate or flexible substrate.


镀膜原理 Coating Principle


1、磁控溅射沉积。

Magnetron Sputter (PVD).

2、反应式等离子体沉积。

Reactive Plasma Deposition (RPD).


板式透明导电薄膜沉积设备技术特点 Features


1、PVD具有多阶阴极,可以制备种子层与多种折射率的叠层TCO。

Multiple cathode operation for seed layer and multiple refractive index tandem TCO.

2、RPD具有无高能离子轰击衬底特点,能制备高少子迁移率的TCO。

No bombardment on the substrate while keeping high mobility.


设备参数 Parameters


M6,M10,M12/G12,整片/半片Full/Half Cell

用途、型号、载板尺寸(幅宽x长)、镀膜形式、电池应用

量产型:PVD8000、2040mmx2645mm、卧式Horizontal、异质结,钙钛矿,HJT,PSC

量产型:PAR5500A、2290mmx1920mm、卧式Horizontal、异质结,钙钛矿,HJT,PSC

中试型:RPD1000S、370mmx470mm、卧式Horizontal、异质结,钙钛矿,HJT,PSC

中试型:RPD1000T、450mm x650mm、卧式Horizontal、异质结,钙钛矿,HJT,PSC

量产型:RPD1200V、1200mmx1200mm、立式Vertical、钙钛矿,PSC

量产型:RDP2000V、2000mmx1000mm、立式Vertical、钙钛矿,PSC

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