广东深圳有色金属设备

1100℃16通道管式炉(高通量退火&淬火) 383     

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GSL-1100X-MGI-16是一款16通道管式炉，针对于高通量样品烧结，退火和淬火使用，其最高温度可达1100℃。每个加热模块都由独立的温控系统控制，每个炉管都是采用真空法兰密封可对样品在真空或气氛保护环境下进行热处理。

1100℃高压氢气管式炉 363     

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1100℃高压氢气管式炉OTF-1200X-60HG是专为在氢气条件下处理样品而设计的，最高温度可达1100℃，采用可编程的30段精密温度控制器。本机炉管采用无缝镍基合金制作而成，炉管可用于所有惰性气体和氧气气氛，气压可达到30 PSI。此外，本机设有3M氢气探测报警器，一旦发现泄露，报警器将自动关闭高纯氢气发生器。

800℃双温区高压炉 383     

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800℃双温区高压炉OTF-1200X-II-HVHP-80是高温高压管式炉，炉管采用 SS310S镍基合金钢制作而成，两端配有法兰和阀门，专为在105 PSI高压下使用，可在通入氧化或惰性气体的气氛下，处理特殊的化合物。本机采用PID方式进行控温，每个温区可独立控制。

2000℃温度可控型30KW感应加热炉 388     

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2000℃温度可控型30KW感应加热炉SP-85KTC是一款较大型高温感应加热、熔炼炉系统，配备30KW感应加热器、8.5"（216mm）石英管、铰接式法兰及阀门、石墨坩埚、石墨毯、氧化铝保温毯、16L/min循环冷水机、真空泵和移动炉架，最高温度可以达到2000℃（使用时石英管内需通入保护性气体），是生长晶体、金属熔炼和各种材料的热处理的**选择。

小型混合管式/箱式炉 322     

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KSL-1100X-S-H是一款通过CE认证的小型混合管式/箱式炉，其炉膛尺寸为100x100x100mm,做为单纯的箱式炉可对样品在空气环境下进行热处理。此款设备配有石英炉管和不锈钢密封法兰，可对样品在真空或气氛保护环境下进行热处理。设备最高温度可达1100℃，而且功率仅仅为500-700W。另外设备体积较小，可放入到手套箱里操作。

小型金属熔炼吸铸炉 389     

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MSM20-8（非自耗式）小型金属熔炼吸铸炉是一款小型的电弧熔炼炉，可在不破坏气体保护气氛的条件下翻转合金锭进行多次熔炼，且可以同时制备多个样品（少于7个），是高等院校、科研院所制备金属及合金试样的理想设备，可用于新型合金材料的制备及提纯、混合应用。

1200℃双管三温区管式炉 363     

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1200℃双管三温区管式炉（石墨烯生长）OTF-1200X-III-D5-4最高工作温度可以达到1200℃，专门针对于用CVD方法在金属箔上生长薄膜物质，如石墨烯、太阳能电池的电极材料和其他电池电极材料等。

加热平台 360     

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MTI系列加热平台是专为材料加工及材料研究实验室而开发，采用铝材质整体铸造，单片机作为核心控制部件，升温速度快，控温精准，温度高低可调，使用完毕后散热速度快。MTI系列加热平台主要适用于加热时不会发生性质和性状改变的材料，即不受加热影响的材料，尤为适用于对温度敏感材料（如晶体、半导体、陶瓷、金属等材料）的加热。也可用于实验室做化学分析、物理测定、热处理时进行物品的烘焙、干燥以及其它温度试验加热。设备结构简单操作方便，是实验室进行加热用的合适工具。

1400℃钟罩炉 358     

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1400℃钟罩炉KSL-1400X-BL是大型的钟罩炉，其最高温度为1400℃，容积为512L，是金属退火和高温烧结的**理想设备。

半自动极片模切机 475     

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HS-MQ280半自动极片模切机操作简单是高效量产的软包装正、负极片成型设备，也是一款方便、快提的实验室软包装锂电池，正、负极片成型的多功能实验及生产设备。

自动涂膜烘干机 469     

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自动涂膜烘干机广泛用于各种高温涂膜研究，例如陶瓷类薄膜、晶体类薄膜、电池材料薄膜、特殊纳米薄膜；能够适应未来高温条件下成膜的科学技术的发展。

高通量扣式封装机 452     

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此设备主要适用于是一款小型的16工位纽扣电池封装机，此封装机采用凸轮分割器旋转下模，气缸驱动上模进行封装，可封装CR2016，CR2025，CR2032等纽扣电池，可放入手套箱中在Ar气化境操作，设备带有封装压力调节和显示功能，每次封装设定恒定的封装压力，保证实验的一致性。

三辊电动加热卧式对辊机 459     

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主要适合于实验室内电池材料，少量金银等贵重金属材料、铜铝等有色材料在一定热温度下的电动轧制，轧制厚度可调，操作简单。尤其适合于清洁能源材料锂电池极板的减薄和增大密度。

1700℃三温区高温真空管式炉 371     

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1700℃三温区高温真空管式炉GSL-1700X-Ⅲ采用三个数字温度控制器进行独立控温，可设置30段升降温程序，中心加热区采用800℃级硅钼棒加热，另外两个温区采用硅碳棒进行加热，调整三个温区的温度，可形成一个温度梯度，进行功能材料的制备。同时，本机也适用于CVD法制作薄膜外延生长。

1200℃小型8通道管式炉(高通量烧结) 361     

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GSL-1200X-MGI-8是一款1200℃小型8通道管式炉，其炉管直径为20mm，可用于高通量烧结，最高温度可达1200℃。每个加热模块都由独立的温控系统控制，每个炉管采用真空法兰密封，可同时放入8个样品，在真空或气氛保护环境下进行不同温度的热处理，占地小，能耗低，是高校、科研院所、工矿企业做高温烧结、金属退火、质量检测用的理想产品。

1700℃真空管式炉 305     

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1700℃真空管式炉GSL-1700X-S采用30段程控PID控温仪，最高温度可达到1700℃，可广泛地用于真空或惰性气体保护状态下材料的烧结和退火。

1200℃高温箱式炉(27L) 344     

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1200℃高温箱式炉（27L）KSL-1200X-M炉膛体积为27L，采用高纯氧化铝作为炉膛材料，且表面涂有高温氧化铝涂层，以提高加热效率和保持炉膛洁净度，延长使用寿命。温控系统采用PID方式调节温度，可设置30段升降温程序，最高工作温度可达到1200℃。

带滑动法兰三温区CVD系统 367     

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带滑动法兰三温区CVD系统OTF-1200X-5-III-F3LV可以快速加热至1200℃，并通过调整三个温区而建立不同梯度的热场，可进行退火、扩散、在不同气氛中烧结样品及CVD等实验。

快速升温CVD系统 357     

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快速升温CVD系统RTP-1000-F3LV是专为半导体基片、太阳能电池及其它样品（尺寸可达3″ ）的退火而设计，配有3路流量计和机械泵。本机采用 9KW的红外灯进行加热，最快升温速度可达 100℃/s，配有RS485 接口，可以通过控制软件在计算机上控制运行并显示温度曲线。

1200℃台式箱式炉(7.2L,含通气孔或观察窗) 378     

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1200℃台式箱式炉（7.2L，含通气孔或观察窗）KSL-1200X采用瑞典康泰尔电阻丝为加热元件，最高温度可达到1200℃，连续工作为1100℃。本机具有表面温度低、升降温度速率快、温场均衡及节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业进行高温烧结、金属退火、质量检测的理想设备。

1400℃小型管式炉 311     

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1400℃小型管式炉GSL-1400X是小型高温管式炉，采用高纯氧化铝刚玉炉管和硅碳棒加热元件，设有两个真密封法兰，控制系统采用高精度可控硅移相触发控制，其控温精度为±1℃，可设置30段升降温程序，最高温度可达1400℃。

1700℃立式淬火炉 284     

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1700℃立式淬火炉GSL-1700X-80VTQ采用直径80mm的氧化铝炉管、下置淬冷水箱结构，专为淬火样品能从高温状态进入冷水或油等淬冷介质中快速冷却而设计，以研究材料阶段性过渡和微观结构。

1800℃高温真空管式炉 349     

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1800℃高温真空管式炉GSL-1800X-S内膛中嵌有ZrO2内衬，并采用Kanthal Super-1900硅钼棒为加热元件，最高温度可以达到1800℃，广泛用于真空或惰性气体保护状态下，新材料样品的烧结和退火。

大口径管式炉 363     

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GSL-1100X-XX-S是一款双温区的大口径管式炉,炉管两端安装有铰链式不锈钢密封法兰。此款管式炉可广泛地应用于在真空或气氛保护环境下对材料进行烧结或退火等热处理。温控方面，设备可达到最高温度为1100℃，可设置30段升降温程序，控温精度为+/-1℃。

小型1000℃RTP炉 360     

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小型1000℃RTP炉OTF-1200X-4-RTP 是一款精巧型快速热处理管式炉，配有4"石英管和真空法兰，是专为半导体或太阳能电池基片（最大3"）的退火而设计。本机采用10KW红外灯管加热，最快升温速度为 50℃/s，设有30段温度控制，精度为±1℃。此外，通过RS485口和控制软件可在计算机上实现实时控制和温度曲线显示。

1000℃卧式马弗炉 269     

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1000℃卧式马弗炉炉衬使用真空成型高纯氧化铝聚轻材料，采用电阻丝为加热元件，且均匀地分布六面墙体，有效的保证了温场的均匀性。测温采用性能稳定、长寿命的“S”型热电偶，以提高控温的精准性。

小型高温高压管式炉 413     

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小型高温高压管式炉OTF-1200X-HP-12炉管采用镍基合金钢制作而成，最高温度可达1100℃，同时可向炉管中通入氧气、氮气、水蒸气及惰性气体等。

晶体生长炉 366     

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SKJ-50晶体生长炉是用提拉法生长高质量氧化物单晶及金属单晶，如蓝宝石、GGG、YAG、SrLaAlO4、LaAlO3、Si、Ge等，最大可长出晶体尺寸达3" 。

微波高温马弗炉 494     

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MF型微波高温马弗炉是实验室专用的标准微波高温设备，适用于空气气氛条件下微波合成、微波灰化、微波膨化、微波热处理、微波焙烧、微波煅烧、微波烧结等工艺实验研究。

金属晶体生长炉 577     

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SKJ-M50-16金属晶体生长炉是用坩埚下降法生长金属晶体的设备，可在真空、大气、惰性气体或其他保护气氛下、在可控的局部压力状态下运行。根据金属的属性，本机可采用中频感应加热电源，以及石墨电阻加热两种加热方式；采用欧陆微处理器与热电偶闭环控制炉温，使结晶体按照一定的直径进行控制。