北京有色金属加工设备

金刚石线切割机 193     

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Diamond WireTec公司生产的金刚石线切割机能够对众多材料样品进行很好的分离切割，例如玻璃，陶瓷，塑料，金属合金等等，然而，金刚石线切割机常见的应用还是切割各种不同的物质----我们所谓的杂化材料。

高速金刚石环线切割机 253     

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DWS250E金刚石线锯是一种立式单向运行的台式线锯。它可处理的工件切割截面为H250xT250mm。金刚石封闭线圈的周长为2米，适配的线圈外径从0.35~0.60mm。线速可从4m/s~12m/s 连续可调。采用重力进给的方式，及保证了进给压力的恒等，也减少了辅助装备带来的额外震动，噪音以及维护和更新的成本压力及麻烦。该线锯可对工件进行干切或湿切的处理。

自动镶嵌机 257     

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ZXQ-1自动镶嵌机是一款用于金相岩相试样制备的设备，主要用于对微小、不易手拿或不规则的试样进行镶嵌处理，以便后续的磨抛操作和在金相显微镜下的观察。该设备能够自动加温、加压，压制成形后自动停机卸压，操作简便，只需按下按钮即可完成样件的自动压制和取出。它适用于热固性材料（如电玉粉、胶木粉等），温度已预先调整并实现自动化控制。ZXQ-1支持多种试样压制规格，包括Φ22mm、Φ30mm和Φ45mm，配备220V、650W的加热器，总电源功率为1000W。其外形尺寸为380×350×420mm，净重50kg，结构稳固，适合实验室和工业

金相试样镶嵌机 150     

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XQ-2B型金相试样镶嵌机（以下简称镶嵌机）适用于对不是整形、不易于拿的微小金相试样进行热固性塑料压制。成形后可方便地进行试样磨抛操作、也有利于在金相显微镜下进行组织测定。

金相预磨机 234     

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在金相试样制备过程中，试样的预磨，是抛光前必不可少的前道工序,先将试样预磨光后，可大大提高试样制备的功效。M-2型金相预磨机，是通过对多方面的调研和采集多方面使用人员的意见及要求设计而成，该机配各美观实用的玻璃钢外壳，完全使用不锈钢标准件。机体永不生锈，从而大大增强了产品的使用性能，使该机成为试样预磨的理想设备。

金相抛光机 236     

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P-2G型金相抛光机是一款高性能的金相试样抛光设备，专为满足多种材料的抛光需求而设计。它采用直径为Φ203mm的抛盘，标准转速为1400r/min，也可根据用户需求定制900r/min的转速。设备支持220V、50Hz或380V、50Hz的电源选项，适应不同环境的用电需求。其外形尺寸为810×470×980mm，净重75kg，结构稳固，运行平稳。该抛光机具有传动平稳、噪音小、操作维修方便等优点，能够将经过磨光的试样抛光至光亮如镜的表面，适用于金相试样制备过程中的关键工序，是实验室和工业现场的理想选择。

金相抛光机 156     

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P-1型金相抛光机是一款专为金属材料金相分析设计的设备，适用于对经磨光后的金属试样进行抛光处理，可获得光亮如镜的金属表面，便于在显微镜下观察与测定金相组织。该抛光机的抛盘直径为Φ200mm，转速为1400r/min，也可根据需求定制900r/min的转速。电源为220V、50Hz或380V、50Hz（定制），外形尺寸为450×390×280mm，净重16kg，结构紧凑，操作简便，适合实验室及工业现场使用。

立式螺杆罗茨真空泵机组 358     

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立式螺杆罗茨真空泵机组适用于小于等于26OL/S抽速，极限真空大于5Pa的真空获得环境，广泛应用于石油化工、制药、食品、医药中间体、精细化工、农药、光伏电子、环境保护等行业的各种工艺。本系列真空泵能抽出大量二氯甲烷、正己烷、环己烷、丙酮、四氢呋喃、苯、甲苯、汽油、氢气、硅烷、氨气等介质。

卧式螺杆罗茨真空泵机组 352     

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卧式螺杆真空泵真空组适用于小于等于30OL/S抽速，极限真空大于5Pa的真空获得环境，广泛应用于石油化工、制药、食品、精细化工、光伏电子等行业的各种工艺。本系列真空泵能抽出空气、二氯甲烷、正己烷、环己烷、丙酮、四氢味喃、苯、甲苯、汽油、氢气、硅烷、氨气等气体介质。

硅芯炉 147     

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SR110硅芯炉的工作方式与区熔系统类似。该系统使用一个在高频感应线圈下直径为100毫米的多晶硅棒(源棒)。根据硅棒的长度，在多个拉动工艺中可以产生特定数量的硅芯;然后这些硅芯被用作西门子下游工艺中的原棒。通过隔离阀将接收炉体与工艺炉体分开，可以将完成的硅芯取出，并立即开始下一个工艺。通过引入扩散到熔体中的工艺气体可以对细杆进行掺杂处理。

区熔晶体生长系统 213     

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FZ-14 区熔晶体生长系统是专为工业生产直径达100毫米(4英寸)的单晶硅晶体而设计。根据源棒的尺寸，可以拉出长度达1. 1米的晶体。在这个过程中，晶体的直径和液体区的高度可以通过摄像系统来监测。并且该系统的上部主轴和线圈都是自动定位的。该系统采用无接触熔化工艺，通过使用涡轮分子泵和超纯氩气作为工艺气体，产生高极限真空环境，有效地防止了工艺过程中的污染，同时还能将氮气以受控的方式引入工艺炉体。

直拉法晶体生长系统（单晶炉） 199     

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专为符合半导体行业的严格要求而设计。该系统采用模块化设计，且可以配置钢丝软轴或硬轴。配合独特的晶体轴配置能够达到最高的精度，因此确保了提拉速度的线性可调和可重复性。

离子氮化炉 190     

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PulsPlasma® 离子氮化设备是一款用于等离子体扩散工艺的真空炉，它可使零件表面富含氮和/或碳，从而提高耐磨损和耐腐蚀能力。PlaTeG脉冲等离子体®扩散工艺，特别是PulsPlasma®脉冲离子氮化(PPNTM)和PulsPlasma®脉冲离子氮碳共渗(PPNCTM)应用了等离子体扩散方法，相比于传统的氮化工艺(如盐浴软氮化或气体氮化)，它为客户提供了众多优势，而且对环境友好，有助于节约资源。

石墨纯化炉和涂层炉 199     

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COV型真空炉，其特点在于加热器和由石墨或碳碳复合纤维制成以及墨毡制成的隔热层，是用于高温工艺的电阻加热批次炉系统。为氮化硼，碳化硅，氮化硅和热解碳等应用提供非标定制CVD/CVI反应炉以及氟离子清洗 & CVA 炉。提供定制化陶瓷基复合材料的化学气相沉积(CVD和CVI)交钥匙系统和解决方案。

石墨电阻加热真空热处理炉 211     

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COV型真空炉能够在设计、有效空间尺寸、真空和工作温度方面按客户要求定制，此类炉型是双层水冷式炉壳，以及配备由石墨或碳纤维复合材料(CFC)制成的加热元件。

金属电阻加热真空热处理炉 186     

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PVA TePla公司MOV型真空炉是电阻加热热处理炉，加热元件采用钼或钨等难熔金属制成。热量是通过辐射热从加热器直接传输到待处理产品中。MOV炉可完美应用于需要高纯度和无碳炉内气氛的通用热处理工艺，要求苛刻的材料、以及制造及实验室应用。

自动金相试样磨抛机 235     

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YMPZ-2型自动金相试样磨抛机是采用单片机控制的研磨抛光设备，机身采用ABS材料一体成形，外形新颖美观，防腐蚀、经久耐用;牢固的大型支撑底盘设计确保了精密的回转平衡度;磨盘无级调速或四档调速，可切换旋转方向;电机为直流无刷电机，使用寿命长且噪音低，强大的电机扭力带来强大的动力;主轴防漏设计, 确保了几乎不会损坏的轴承;配备冷却水管，可调整旋转方向进行湿磨;配备磨盘底部冲洗功能，防止磨削物累积沉淀;磨盘部分采用磁性设计，支持快速换盘，底盘和垫盘表面经特氟龙处理，无砂纸抛布黏连残留;磨头采用电动锁紧装置，具备定时功

单头自动磨抛机 291     

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产品特点：*中心压力、单点压力两种运行模式，可根据工况选择适用的方式；*试样夹盘可快速装卸转换，灵活使用不同口径夹盘；

台式磨平磨抛一体机 200     

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YMPZ-2B-300台式磨平磨抛一体机是采用单片机控制的研磨抛光设备，双盘独立设计，左盘采用磁性盘设计，支持快速换盘，底盘和垫盘表面经特氟龙处理，无砂纸抛布黏连残留;右盘采用砂轮系统，实现试样的自动粗磨。机身采用ABS材料一体成形，外形新颖美观，防腐蚀、经久耐用。

双盘金相试样磨抛机 290     

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YMP-2-300(250)型金相试样磨抛机是采用单片机控制的研磨抛光设备，双盘独立控制，机身采用ABS材料一体成形，外形新颖美观，防腐蚀、经久耐用;精密铸铁支撑底盘设计，确保了精密的回转平衡度;电机为直流无刷电机，使用寿命长且噪音低，强大的电机扭力带来强大的动力;磨盘无级调速，可切换旋转方向，压制铝材质三点支撑结构，更加坚固平稳;配备磁性盘设计，支持快速换盘，底盘和垫盘表面经特氟龙处理，无砂纸抛布黏连残留;主轴防漏设计, 确保了几乎不会损坏的轴承;配备冷却水管，可调整旋转方向进行湿磨;电磁水阀控制，自动出水停水;显示直

金相试样预磨机 286     

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在金相试样制备过程中，试样的预磨是抛光前必不可少的前道工序，经过粗磨、细磨、精磨后的试样，方可进行有效抛光。YM-1B型金相试样预磨机是一款经典产品，外壳采用ABS材料一体成型，转速可视化，配备湿磨用供水系统以防止因试样过热而破坏金相组织，它具有传动平稳、噪音小、操作及维护方便等优点，适用于多种材料的预磨要求。

金相试样切割机 187     

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QG-3金相试样切割机适用于一般金相和岩相试样材料的切割，通过拉动主轴利用主轴重力进行对试样的切割，转速高，切割能力强;双边夹具结构，牢牢固定试样;夹具钳口和工作台面等主要零部件均采用不锈钢材料制成，使用寿命长，维护保养方便;切割室采用封闭式结构，罩盖左侧开口，可切割长条型试样，配备安全限位开关，透明有机玻璃窗口和内置LED照明灯供切割时观察;并配备循环冷却系统，切割后的试样表面光亮、平整，无烧伤，是切割试样的理想设备。本产品分为台式和落地式，供客户选择。

自动精密研磨抛光机 215     

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UNIPOL-1202自动精密研磨抛光机是用于晶体、陶瓷、金属、玻璃、岩样、矿样、PCB板、红外光学材料(如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体)、耐火材料、复合材料等材料的研磨抛光制样，是科学研究、生产实验理想的磨抛设备之一。本机设置了?300mm的研磨抛光盘和两个加工工位，可用于研磨抛光≤?105mm的圆片或对角线长≤105mm的矩形平面。

热蒸发镀膜机 298     

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GKI-22热蒸发镀膜机是一种用于薄膜制备的高真空镀膜设备，广泛应用于材料科学、物理学、化学及电子器件等领域。该设备通过加热蒸发源使材料气化，并在基片上沉积形成薄膜，适用于金属、有机物及无机化合物等多种材料的镀膜。其核心部件包括高真空腔体、蒸发源、样品台、真空系统及膜厚监控系统，具备高真空度（极限真空度优于1×10⁻⁶ Pa）和精确的膜厚控制能力。此外，设备还配备有观察窗、旋转样品台和多种蒸发源选择，能够满足多样化的实验需求。

喷金仪 396     

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SSG-50M为了使电子显微镜中的样品能够成像，它们需要有导电性，通过在样品上形成导电层的镀膜，用来抑制电荷，减少热损伤，并提高在SEM中定位检查所需的二次电子信号。

HIPEX 80热等静压机 4647     

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热等静压(Hot Isostatic Pressing, HIP)是一种以氮气或量气等惰性气体作为 温度、压力传介质，将制件放置于密闭容器之中，在高温(900〜2000C)和高压(100〜 200MPa)的共同作用下，向制件施加各向同等的高温和压力，是高性能零件制备或处理 中不可或缺的一项技术。

ORZ材料低成本深度除油技术及装备 3392     

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ORZ材料低成本深度除油技术及装备采用自主研发的新型ORZ吸附材料对废水（或 料液）进行除油处理，ORZ材料具有吸附容量大（3.2g/g）、容易再生、成本低的特点, 除油效果显著。技术原理是当含油废水/溶液流经ORZ材料时，利用ORZ材料与油类有机物之间的范德华力和自身具备的分子筛选功能，将溶液中的大分子有机物聚集到吸附材料上，实现油和水相的分离。吸附饱和的ORZ材料通过溶剂解吸再生后返回吸附除油系统，反复循环利用，降低除油成本，且无二次污染产生。