这款铝合金表面处理喷砂机主要是适用于金属表面的的喷砂加工要求,清理外表的污垢,划痕及其他杂物,使表面达到哑光状态,同样可以用于其他的锻铸件、焊接件、热处理件、冲压歼击机加工件、电子件的外表除锈、去氧化皮表面光亮及获得均匀的喷砂面和增加表面附着力或用于喷涂、电镀、油漆前的预处理的工序。
北京中航技气动液压设备有限责任公司铝型材表面清理喷砂机特点如下:1、磨料循环使用,消耗低,效率高。2、配有除尘机组,有效控制粉尘的污染。3、配有观察玻璃,更换方便。4、易损件数量少,维修、更换简单。5、加工范围广,适用于规格中小型的零部件。
DE400 热阻蒸发仪可配置多组蒸发源,连续旋转的样品台或可倾角自转样品台。
DE600CL 多电子枪蒸发镀膜系统配置三(四或六)个电子束蒸发源,可在基片共蒸发金属、半导体或介质材料。
DE500P 电子束蒸发镀膜系统配置两个电子束蒸发源,可在基片共蒸发沉积金属、半导体或介质材料。
DE500CL 双电子枪共蒸发镀膜系统配置两个电子束蒸发源,可在基片共蒸发沉积金属、半导体或介质材料,是制备lift-off工艺薄膜和低微材料的理想平台。
DE400P电子束蒸发镀膜系统配备电子束蒸发源或热阻蒸发源,用于沉积金属或介质薄膜及lift-off工艺薄膜沉积。用于批量生产。
DE400DUL超高真空电子束蒸发镀膜系统配置一个多坩埚电子束蒸发源,可在基片蒸发沉积金属、半导体或介质材料,是制备lift-off工艺薄膜和低微材料的理想平台。
特点:用于中试和量产,多个溅射源,可溅射金属、半导体、介质材料及磁性材料,可溅射单层膜、多层膜或共溅合金薄膜或反应溅射。
DE600DL纳米膜层磁控溅射系统配备多个磁控溅射源,可沉积金属、半导体、介质材料. 可用于溅射多层薄膜、共溅合金薄膜、反应溅射、可选溅射楔形膜等。是材料和薄膜沉积研发和中试的理想平台。
DE500DL超导量子磁控溅射系统配备多个磁控溅射源,可沉积金属、半导体、介质材料. 可用于溅射多层薄膜、共溅合金薄膜、反应溅射、LIFT-OFF工艺薄膜、隧道结薄膜等。是材料和薄膜沉积研发和中试的理想平台。
DE500DL纳米膜层磁控溅射系统配备多个磁控溅射源,可沉积金属、半导体、介质材料. 可用于溅射多层薄膜、共溅合金薄膜、反应溅射、可选溅射楔形膜等。是材料和薄膜沉积研发和中试的理想平台。
DWS250E金刚石线锯是一种立式单向运行的台式线锯。它可处理的工件切割截面为H250xT250mm。金刚石封闭线圈的周长为2米,适配的线圈外径从0.35~0.60mm。线速可从4m/s~12m/s 连续可调。采用重力进给的方式,及保证了进给压力的恒等,也减少了辅助装备带来的额外震动,噪音以及维护和更新的成本压力及麻烦。该线锯可对工件进行干切或湿切的处理。
ZXQ-1自动镶嵌机是一款用于金相岩相试样制备的设备,主要用于对微小、不易手拿或不规则的试样进行镶嵌处理,以便后续的磨抛操作和在金相显微镜下的观察。该设备能够自动加温、加压,压制成形后自动停机卸压,操作简便,只需按下按钮即可完成样件的自动压制和取出。它适用于热固性材料(如电玉粉、胶木粉等),温度已预先调整并实现自动化控制。ZXQ-1支持多种试样压制规格,包括Φ22mm、Φ30mm和Φ45mm,配备220V、650W的加热器,总电源功率为1000W。其外形尺寸为380×350×420mm,净重50kg,结构稳固,适合实验室和工业
P-2G型金相抛光机是一款高性能的金相试样抛光设备,专为满足多种材料的抛光需求而设计。它采用直径为Φ203mm的抛盘,标准转速为1400r/min,也可根据用户需求定制900r/min的转速。设备支持220V、50Hz或380V、50Hz的电源选项,适应不同环境的用电需求。其外形尺寸为810×470×980mm,净重75kg,结构稳固,运行平稳。该抛光机具有传动平稳、噪音小、操作维修方便等优点,能够将经过磨光的试样抛光至光亮如镜的表面,适用于金相试样制备过程中的关键工序,是实验室和工业现场的理想选择。
P-1型金相抛光机是一款专为金属材料金相分析设计的设备,适用于对经磨光后的金属试样进行抛光处理,可获得光亮如镜的金属表面,便于在显微镜下观察与测定金相组织。该抛光机的抛盘直径为Φ200mm,转速为1400r/min,也可根据需求定制900r/min的转速。电源为220V、50Hz或380V、50Hz(定制),外形尺寸为450×390×280mm,净重16kg,结构紧凑,操作简便,适合实验室及工业现场使用。
立式螺杆罗茨真空泵机组适用于小于等于26OL/S抽速,极限真空大于5Pa的真空获得环境,广泛应用于石油化工、制药、食品、医药中间体、精细化工、农药、光伏电子、环境保护等行业的各种工艺。本系列真空泵能抽出大量二氯甲烷、正己烷、环己烷、丙酮、四氢呋喃、苯、甲苯、汽油、氢气、硅烷、氨气等介质。