VTF-1600X-B下装载炉是一款高性能的高温实验设备,最高温度可达1700℃,额定温度为1600℃,推荐升温速率为≤10℃/min。该炉采用下开门设计,配备两个炉门和可移动加热平台,通过升降平台和炉门配合,可在加热炉不降温的情况下连续烧结物料,显著节省烧结时间。其炉膛容积为13L(直径280mm×深度300mm),采用B型双铂铑热电偶测温,控温精度达±1℃。设备配备先进的电气控制系统,包括30段程序温控器、触摸屏操作界面,具备超温、偏差、断偶报警功能,以及RS485通讯接口,可实现数据记录与远程监控。
KSL-1700X-A1-W高温箱式炉是一款CE认证的可视台式高温马弗炉。该炉由优质氧化铝纤维绝缘材料和1800级MoSi2加热元件组成,高精度SCR(硅控整流器)和温度控制器配套使用测量和调节温度,精度为+/-1°C,最高温度可达1700°C。带有石英观察窗口,可在工作过程中随时观察物料状态,是专为高等院校、科研院所的实验室及工矿企业对金属、非金属及其化合物材料进行烧结、融化、分析而研制的专用设备。
OTF-1200X-S-R-II是一款1200℃小型双温区旋转炉,配备Φ50异型石英管,专为实现粉体材料烧结的均匀性而设计,尤其适用于锂离子电池阴极材料表面导电层的CVD包覆工艺。其安装尺寸为L1000mm×W300mm×H390mm,重量仅18kg,结构紧凑、轻便易用,能够有效提升材料处理的均匀性和效率,是高校、科研机构和企业实验室进行材料研发和工艺优化的理想选择。
OTF-1200X-50S-PE-SL是一款小型滑动开启式PECVD管式炉系统,专为高效薄膜沉积实验设计。该系统配备等离子射频电源、直径50mm的开启式管式炉(含真空法兰和连接管道)以及机械泵,能够实现稳定的等离子体增强化学气相沉积。其安装尺寸为1500mm×600mm×1200mm,重量约160kg,结构紧凑且操作便捷。此外,该设备可根据实验需求灵活升级为不同类型的PECVD系统,性价比高,非常适合高校、科研机构和企业实验室在薄膜制备、材料表面改性等领域的研究应用。
OTF-1200X-5L-R-CVD是一款1200℃旋转CVD管式炉,专为电池粉体材料表面包覆及其他粉体材料表面修饰设计。炉体配备3个加热区,确保温度均匀性,同时搭载4通道精密混气系统,可精准控制反应气体。其安装尺寸为1950mm×600mm×1320mm,重量约130kg,结构紧凑且功能强大,能够满足高校、科研机构和企业实验室在材料表面处理和修饰方面的多样化需求。
OTF-1200X-4-RTP-130是一款专为快速热处理设计的精巧型管式炉,配备Φ130mm石英管和不锈钢密封法兰,适用于氧化物、半导体及太阳能电池基片(最大4英寸)的快速退火。采用红外灯管加热,最快升温速度可达50℃/秒,控温精度为±1℃,能够高效完成高温处理任务。其安装尺寸为L1100mm×W700mm×H660mm,结构紧凑,是高校、科研机构和企业实验室进行快速热处理的理想设备。
KSL-1200X-MAX 1200℃五面加热箱式炉是一款高性能的高温实验设备,采用电阻丝加热元件,配备双层壳体结构和PID程序控温系统,使用K型热电偶,炉膛由高纯氧化铝纤维材料制成,最高温度可达1200℃,连续工作温度为1100℃,控温精度±1℃。该炉具有温场均匀、表面温度低、升温降温速度快、节能等优点,炉膛体积达125L,内置进气和排气口,可有效去除污染物和湿气,延长使用寿命。炉膛内五个面均安装加热元件,确保温场均匀性,底部配备碳化硅板,可承受最大100kg样品重量。此外,设备带有过热和断偶保护,以及开门断电功能,确保实验安全。
VBF-1050X-H6迷你型真空箱式炉是一款小型高效实验设备,采用高纯氧化铝纤维炉膛材料,最高温度可达1050℃,连续工作温度为1000℃,控温精度±1℃。其炉膛外包裹石墨纤维毡,有效保温并减少能量损失;双层壳体结构搭配风冷系统,确保壳体表面温度较低,使用安全。配备硅胶门垫和门锁,实现良好真空密封,内门安装钢化玻璃,进一步保障实验安全。该设备安装尺寸为L700×W470×H600mm,非常适合实验室小规模高温实验及材料研究,是高校、科研机构和企业实验室的理想选择。
KSL-1200X-J-H 是一款混合箱式/管式炉,作为单纯的箱式炉可对样品在空气环境下进行热处理和烧结,作为管式炉可对样品在真空或气氛保护环境下进行热处理和烧结,以电阻丝为加热元件,采用K 型热电偶和50 段可编程温度控制器,炉膛采用高纯氧化铝纤维材料,最高温度能达到1200 度,控温精度±1 度,该炉具有体积小,重量轻,升降温速度快、节能等优点。此设备还可放置到手套箱内在真空和可控气氛下烧制样品,是高校、科研工矿企业做高温烧结,金属退火、质量检测用的产品。
KSL-1700X-S-H是一款1700℃的多功能混合式高温炉,兼具1.7L(12×12×12cm)的箱式炉和炉管内径40mm的管式炉功能,能够满足不同实验场景的需求。其炉腔尺寸为120×120×120mm,外形尺寸为400×1000×670mm,重量为65kg,设计紧凑,可有效节省实验室空间并降低使用成本,特别适用于材料探索等实验研究,为高校、科研机构和企业实验室提供了高效、灵活的高温实验解决方案。
OTF-1200X-Ⅲ-H 1200℃三温区管式箱式混合炉是一款多功能实验设备,具备管式炉和箱式炉的双重功能。它配备一对不锈钢密封法兰,加热区为900mm(300+300+300mm),可实现真空或气氛保护下的样品处理,炉管采用高纯石英材质,直径25-130mm可选。作为箱式炉时,可在空气环境下进行烧结和热处理,最高温度达1200℃,连续工作温度为1100℃,控温精度±1℃。炉膛采用高纯氧化铝纤维材料,表面涂有氧化铝涂层,提高加热效率并延长使用寿命。设备采用双层壳体结构,配备风冷系统,有效降低壳体表面温度,同时具备开门断电功能,确保实验安全。
隧道退火焊接炉系列,应用于各种金属及冲压件的光亮退火、固熔处理、连接焊以及铅焊的设备。机身优良的保温炉体,高纯度的保护气体及稳定的机械传动性能,是长时间工作的保证。机器可从2.8米到7米不同的长度定制,满足不同工件的受热时长、冷却时长的要求。为首饰行业在金属光亮退火焊的首选机。
通用型连续铸造机,可熔炼1-10kg不同容量的金属。主要针对管材、棒材、片材、异型材的连续铸造,成品效果优秀,产量高。本机采用气体保护熔解防止金属氧化;动力牵引下引铸造法,短时间内铸造高密度的金、K金、银、合金等贵金属型材,铸造出的型材完全达到深加工的要求。高效独特的搅拌感应式加热,使功率增强,熔解金属成色均匀。精确的数码测温系统,让操作者轻松控制金属的最佳引铸状态完善的机身安全自检系统,是您长时间连续工作的保障。可选配液压剪、PC控制等功能型周边,使整机更加智能化。
C20微电脑全自动真空加压震动铸造机是一款高效、先进的铸造设备,专为贵金属首饰制造、航空航天、电子行业等高精度铸造需求设计。该设备采用全自动化操作流程,无需开料,直接进行铸造,显著简化了工艺步骤,提高了生产效率。其独特的真空加压震动铸造技术,能够有效减少材料损耗,同时确保铸件的振动更加均匀,晶粒细化,从而显著提升倒模质量,使铸件表面更加光滑,成色均匀,减少后续加工环节的损耗和工时。C20铸造机凭借其智能化操作、低损耗和高质量的铸件效果,成为现代铸造行业的理想选择。
CXM-AI-N2经济型熔炼机是一款专为小规模熔炼需求及中小型企业设计的小型熔炼设备,具有经济实用、操作稳定的特点。该设备外观小巧流畅,操作流程简单,熔炼效果高品质,能够满足铂金、钯金、黄金等贵金属的熔炼需求。设备采用三相380V电压,功率为7KW,熔量范围1-2kg,熔炼时间仅需1-3分钟,机器尺寸为450×450×820mm。此外,还可选配3P水冷机以增强冷却效果,确保设备在高效运行的同时保持稳定,是中小型企业理想的熔炼选择。
真空加压大摆件铸造机系列,此系列设备专为大摆件的铸造而定制。不同规格大小的摆件或工艺品,设计不同的铸造室,真空配合加压的方式下,铸造成品率极高。熔解室采用先真空后加压保护气体的方式进行熔解,大大降低了金属熔化过程中的损耗。铸造室采用抽真空并向下加压的方式铸造,使真空及压力完美配合,既能完全注入,又不易爆粉,铸造工件基本无缺陷。加热系统采用独特的搅拌式感应加热,无需手动搅拌。能满足多种金属的铸造。
真空加压大摆件铸造机系列,此系列设备专为大摆件的铸造而定制。不同规格大小的摆件或工艺品设计不同的铸造室,真空配合加压的方式下,铸造成品率极高。熔解室采用先真空后加压保护气体的方式进行熔解,大大降低了金属熔化过程中的损耗。铸造室采用抽真空并向下加压的方式铸造,使真空及压力完美配合,既能完全注入,又不易爆粉,铸造工件基本无缺陷。加热系统采用独特的搅拌式感应加热,无需手动搅拌。能满足多种金属的铸造。
此设备整机外观线条流畅,采用了独特搅拌式感应加热,自主掌握搅拌时间,运用真空加压重力浇铸方式的铸造原理进行工作;机器自身电气系统保护功能完善,智能化程度高,机身自检报警保护精确的数码控温系统,控温误差在去2℃;采用真空及气体保护熔解,确保金属气化降至最低点,加压漏斗式落料,保证工作在最快最佳状态下注入铸型还原性能好,铸件成功率高、密度高、真充度强:表面光洁精红、达到基本无缩孔铸造;铸造室采用气压自动升降功能。