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OTF-X-TGA是一款具有TGA热重分析功能的立式管式炉，最高温度可达1700℃（可定制），特别适用于冶金及材料科学中的高温实验。与传统TGA装置相比，该设备可装载超过100g的样品，提供更准确的工业级实验结果。它能够在真空或气氛保护环境下（包括H₂环境）进行热重实验，研究材料加工过程中的相变。此外，OTF-X-TGA还可连接气体分析装置，实时监测加热过程中气体成分和重量的变化。这种功能对于冶金领域中研究金属材料的氧化、还原过程以及合金的相变行为具有重要意义。
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GSL-1700X-HNG是一款通过CE认证的1700℃高温管式炉，专为冶金及材料科学实验设计。其炉管采用高纯刚玉材质，具有优异的高温稳定性和抗腐蚀性，最高温度可达1700℃，特别适合用于高温烧结各种金属、合金及陶瓷材料。设备配备折叠式法兰，使放样和取样更加便捷，同时采用30段升降温程序控温，控温精度为±1℃，能够满足复杂的冶金工艺需求，为高性能材料的开发和研究提供可靠的实验支持。
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OTF-1200X-60UV是一款通过CE认证的高温高压管式炉，专为冶金及材料科学实验设计。其炉管采用镍基合金钢管，具有优异的抗氧化性能，可在高温状态下通入氧气和水蒸气，最高温度可达1100℃，最大真空度可达10⁻⁶ Torr。这种设计使其特别适合用于冶金领域中的高温氧化实验、合金热处理以及材料在极端条件下的性能研究，为开发高性能金属材料和复合材料提供可靠的实验支持。
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GSL-1700X-MGI-4是一款专为高通量热处理实验设计的小型4通道管式炉，炉管直径为Φ25mm，最高温度可达1700℃。该设备特别适用于合金和陶瓷的热处理，能够高效完成多种材料的高温实验。其多通道设计可同时处理多个样品，显著提高实验效率，是材料基因计划中探索材料相图和优化合金性能的理想工具。在冶金领域，该设备可用于研究合金的热处理工艺、相变行为以及陶瓷材料的烧结特性，为高性能材料的研发提供重要支持。
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OTF-1200X-X-85GF是一款专为高温高压材料合成设计的1100℃十温区管式炉，炉管采用Ni基合金钢制作，能够在氧或惰性气体环境下承受高温高压（最高温度1000℃）。该设备配备压力和气体流量控制系统，确保升温和降温过程中炉管内压力稳定。其独特的十温区设计可实现精确的温度控制，特别适用于制备Fe基超导材料和新一代氧化物陶瓷材料。在冶金领域，该设备可用于研究新型材料的高温合成机制和性能优化，为高性能材料的开发提供有力支持。
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OTF-1200X-80-HPV-III-GF是一款1100℃三温区高压高真空管式炉，专为高温高压及高真空条件下的冶金实验设计。其炉管采用镍基合金钢制作，具有优异的耐高温和耐高压性能，最高工作温度可达1100℃，在此温度下可承受的最大压力为4MPa。三个独立控制的加热区能够实现精确的温度控制，满足复杂的冶金工艺需求。该设备适用于金属材料的高温合成、热处理以及在高真空或高压气氛下的性能研究，为冶金领域提供了一个高效、可靠的实验平台。
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OTF-1200X-HP-III-W是一款带有石英窗口的高温高压炉，专为高温高压环境下的光学气体分析实验设计。其炉管采用高温镍基合金钢制作，具有优异的耐高温和抗氧化性能，最高工作温度可达1100℃。两端法兰上安装的石英窗口能够允许各种波长的光通过整个炉管，便于实时监测实验过程中的光学变化。这种设计特别适合冶金领域中对金属材料在高温高压条件下的反应过程进行光学分析，为研究材料的相变、氧化还原行为等提供重要支持。
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OTF-1200X-II-HPV是一款1100℃双温区立式高温高压炉，专为冶金领域设计。其炉管采用镍基合金钢管制作，具有高蠕变强度和抗氧化性，可承受最高温度1100℃，在此温度下最大压力为3MPa。该设备特别适合在高压氧环境下对金属样品进行热处理，也可用于水浴法制备材料。法兰上安装的电磁阀可在压力超过设定值时自动排气，确保实验安全。其双温区设计能够满足复杂的冶金工艺需求，为金属材料的高温高压研究提供可靠的实验平台。
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OTF-1200X-V-H4是一款符合UL/TUV标准的氢气管式炉，专为冶金领域中的磁性材料氢爆处理及氢气环境下的热处理设计。该设备配备5个独立温控系统的温区，炉管采用310不锈钢材质，尺寸为Φ100mm×1500mm，能够满足多种材料的高温处理需求。此外，设备内置3M氢气探测器，一旦检测到氢气泄漏，将自动关闭进气阀和出气阀，确保实验过程的安全。其最高温度可达1200℃，适用于对氧敏感的金属材料和磁性材料的高温处理，是高校、科研机构和企业实验室进行材料研究和开发的理想设备。
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OTF-1200X-III-H8是一款符合UL/TUV标准的10英寸氢气管式炉，专为冶金领域中的Ti合金退火和对氧敏感材料的热处理设计。其炉管采用NiCrAl合金材质，具有优异的耐高温和耐腐蚀性能，炉体设计有3个加热区，最高温度可达1250℃。该设备能够在高真空或氢气环境下进行热处理，特别适用于对材料微观结构和性能有严格要求的冶金实验，为高性能金属材料的研发和生产提供可靠的高温处理解决方案。
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GSL-1100X-III-D11是一款专为大面积材料生长设计的三温区大型双管炉，最高温度可达1100℃。其独特的双管设计通过CVD方法在箔材上实现大面积（约7000cm²）材料生长，箔材缠绕在内管外壁上，送管装置可轻松将内管送入或取出外管。该设备不仅适合大面积生长石墨烯和柔性电极材料，还可用于冶金领域中大面积薄膜材料的制备和研究，为开发高性能复合材料和新型电极材料提供有力支持。
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OTF-1200X-IR-IISL是一款900℃双温区红外加热快速热处理炉，专为冶金及材料科学实验设计。其炉管直径为4英寸，样品台滑轨周围嵌有可伸缩波纹管，可在真空或气氛保护环境下实现样品的快速移动。该设备最大升温速率达到50℃/s，最大冷却速率达到10℃/s，能够高效完成快速热处理任务。此外，它还可通过HPCVD方法生长二维晶体，一个加热区用于蒸发固体原料，另一个加热区用于样品沉积，特别适用于冶金领域中二维材料的生长和金属薄膜的制备。
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RTP-1000-LV3C是一款900℃的快速热处理（RTP）管式炉，专为半导体基片、太阳能电池及其他样品（尺寸可达3英寸）的退火工艺设计。该设备配备三路浮子流量计和机械泵，真空度可达10⁻³ Torr。采用9kW红外灯加热，最快升温速度可达100℃/秒，配备30段精确温度控制，精度为±1℃。此外，设备还配有RS485接口和控制软件，可通过计算机控制运行并显示温度曲线。其安装尺寸为600mm×600mm×597mm，重量为210lbs。在冶金领域，该设备可用于快速热处理金属材料，优化材料的微观结构和性能。
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GSL-1100X-RTP50是一款通过CE认证的1100℃快速热处理炉，专为高效热处理实验设计，特别适用于冶金领域。其配备50mm外径×44mm内径×304.8mm长度的高纯石英管（单端封口），最高工作温度可达1100℃。右侧法兰处安装有滑轨，可手动移动炉管，实现快速加热和冷却。通过预热炉子并快速插入炉管，可实现最快加热；样品加热后移出炉管进行强冷，冷却速率在真空或惰性气体环境下可达10℃/s。这种快速升降温能力使其成为研究金属材料热处理工艺、相变行为及快速结晶的理想设备，尤其适合高校、科研机构和企业实验室进行低成本、高效的材料实验。
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OTF-1200X-50S-SL是一款通过CE认证的1200℃小型滑轨快速热处理（RTP）炉，专为高效热处理实验设计。其配备外径50mm、长度1000mm的石英管，炉底安装滑轨，可实现快速加热和冷却，最大升温速率为100℃/min，真空或惰性气体环境下的冷却速率可达15℃/s。这种快速升降温能力使其在冶金领域中可用于研究金属材料的相变、热处理工艺优化以及快速结晶等实验，是高校、科研机构和企业实验室进行材料研究和开发的理想设备。
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OTF-1200X-S2-50SL是一款小型双炉体滑动管式炉，专为冶金领域中的材料蒸发/升华和薄膜沉积实验设计。其配备Φ50×1400mm的石英管和不锈钢密封法兰，最高工作温度可达1200℃。两个炉体可在滑轨上滑动，实现快速加热（最大升温速率100℃/min）和冷却，显著提高实验效率。此外，该设备还可选配电动滑轨、质量流量计（MFC）控制的供气系统和等离子射频电源，用于搭建TCVD系统，满足更复杂的材料合成和薄膜制备需求。
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OTF-1200X-III-80SL是一款通过CE认证的1200℃三温区滑轨式管式炉，专为快速热处理实验设计。其配备直径80mm、长度94mm的石英管和法兰，炉底安装滑轨，支持手动滑动操作。该设备加热和冷却速率最高可达100℃/min，在真空或惰性气体环境下可实现10℃/s的快速升降温，能够显著提高实验效率并降低能耗。在冶金领域，该炉可用于快速热处理金属材料，研究材料在高温下的相变和微观结构变化，是高校、科研机构和企业实验室进行材料研究和开发的理想选择。
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GSL-1600X-FS3KW是一款1600℃水平式闪烧炉，专为快速烧结陶瓷材料而设计，配备3KW可编程交流电源，可通过电极法兰将正负极电极丝引入刚玉样品夹具，施加电场实现闪烧工艺。其最高温度可达1600℃，采用硅钼棒加热元件，加热区长度为290mm，推荐升温速率为≤10℃/min。相较于传统烧结工艺，该设备具有超快速、节能且有利于制备细晶化陶瓷的优势。其可广泛应用于固体氧化物燃料电池、铁电热电陶瓷、固态电解质等领域的材料烧结。在冶金领域，这种快速烧结技术可用于研究陶瓷材料的微观结构和性能，为开发高性能陶瓷基复合材料提供支持。
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OTF-1200X-50-DSL是一款专为定向生长单壁碳纳米管（SWCNTs）设计的水平滑轨式CVD生长炉，同时也适用于在硅片上生长低熔点金属单晶。其炉管直径为Φ50mm，炉体滑动速度可在1mm/s至100mm/s范围内调节，并支持左右反复滑动及自定义滑动距离，为实验提供了高度的灵活性。该系统配备可设置30段程序的高温炉、一根Φ50×1000mm的石英管和一套不锈钢真空法兰，能够满足多种材料生长的需求。在冶金领域，该设备可用于研究低熔点金属的单晶生长机制，为开发高性能金属材料提供重要的实验支持。
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RC-Ni-100是一款专为高温高压冶金实验设计的100ml反应釜，采用镍基高温合金钢制作，具有极高的蠕变强度和抗氧化性。该设备最高工作温度可达1100℃，在该温度下可承受最高压力为4MPa，非常适合在高压氧环境下对金属样品进行热处理，以及通过水热法合成高性能冶金材料。其优异的耐高温高压性能，使其成为冶金领域研究和开发新型材料及工艺的理想工具。
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SKJ-50CZ是一款高质量的CZ晶体生长炉，最高温度可达2100℃，适用于冶金领域中高纯度金属单晶及氧化物单晶的生长。该设备可生长蓝宝石、GGG、YAG、LaAlO₃、Si、Ge等多种材料，最大晶体尺寸可达3英寸。其配备中/高频切换复合感应电源，满足不同材料的熔炼需求，同时采用高精度上称重模式和在线称量装置，确保晶体生长过程的精确控制。此外，设备还具备高真空度（最高可达5.0×10⁻³Pa）和全不锈钢水冷腔体，保证生长环境的稳定。
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GSL-1800X-PGEP是一款专为纳米结构氧化物合成设计的多功能系统，广泛应用于冶金领域。该系统由超声雾化装置、1800℃管式炉和静电沉降装置组成，通过前驱体雾化、高温加热和纳米颗粒收集三个步骤，实现纳米材料的精确制备。其独特的设计能够精准控制颗粒尺寸、形态以及纳米/微粒结构，为冶金研究提供了一种先进的实验手段，尤其适用于开发高性能纳米复合材料和新型冶金催化剂，助力冶金工艺的创新与优化。
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VTF-1200X-III-TSSG是一款3温区顶部籽晶助熔剂法（TSSG）晶体生长炉。此设备主要由3部分组成：3温区加热炉（炉膛尺寸为：Φ127mm×600mm,最高温度为1200℃），温控系统可设置28段温度程序段，控温精度±1℃和精密旋转提拉机构，其提拉速度为0.8-50mm/hour。
2025年03月21日 ~ 23日 
2025年03月21日 ~ 23日 
2025年03月25日 ~ 27日 
2025年04月11日 ~ 13日 
2025年04月27日 ~ 29日 
