OTF-1200X-SCB是一款小型晶体生长炉,适用于提拉法或布里奇曼法生长单晶,其最高温度可达1100℃。设备主要由提拉机构和炉体组成,提拉机构具有提拉&旋转功能,炉体采用立式双温区管式炉,炉管为直径为Φ50mm的石英管,并且配有不锈钢密封法兰,此设备可采用提拉法(用籽晶从熔融态原来中提拉出单晶)或布里奇曼法(将样品封入到小石英试管里,石英试管在加热区内向下移动)生长各种单晶。
FMF-65是一款落地式水冷坩埚真空悬浮感应熔炼炉系统,并且带有坩埚倾倒装置,可做金属浇注实验,可用于新一代磁性合金和金属材料的探索研究。设备中包含一功率高达65KW的感应熔炼炉,可有效地加热高达250g的金属样品(Ti),最高加热温度达1800℃。不锈钢真空腔体保证样品可在真空或气氛保护环境下进行熔炼,采用特殊样式的水冷铜坩埚使得金属样品能够在熔炼过程中悬浮,避免了坩埚对物料的污染。熔炼过程中强烈的电磁搅拌也能够保证其样品内部的温度及化学成分的均一性。
VMCS-1200-LD是一款1200℃的熔炼/铸造炉,适合在气氛保护环境下熔炼各种合金,最高温度可达1200℃。该设备采用封闭腔体设计,可有效防止样品在熔炼和浇注过程中生成氧化物及形成缺陷。其石墨坩埚直径为60mm,配备电阻丝加热和石墨搅拌棒,能够快速熔炼金属,仅需6-8分钟。此外,该设备操作简单,只需设置铸造温度、添加样品并挤压操纵杆即可完成浇注。设备安装尺寸为770mm×460mm×460mm,重量为54kg,配备双极旋片真空泵,所需气体流量为5L/min。
IMCS-1700HP是一款高压气氛控制感应熔炼/铸造/造粒炉,最高工作温度可达1700℃,腔体可承受气压为1MPa,适用于处理1kg合金样品。该设备采用三相380VAC电源,最大输入功率为25kW,配备感应线圈尺寸为170mm(内径)×110mm(高),并具备自动水压、过热和功率过高保护功能。熔炼腔体采用SS304不锈钢制作,带有水冷夹层,确保工作时表面温度低于60℃,并配备安全卸压阀。温控系统采用PID方式控温,可设置30段升降温程序,控温精度为±5℃,连续工作温度范围为500℃~1600℃,短时间内可达到1700℃。
OTF-1200X-Ⅱ-S2是一款双温区带有升降双通道进料系统的共蒸发多层沉积管式炉,通过升降双通道进料系统可装载4个不同材料的蒸发坩埚舟,并且可一次同时送入两个蒸发坩埚源进入管式炉中进行共蒸发或反应蒸发。双温区管式炉可以实现快速加热,并且通过对各个温区设置不同的加热温度可以创建不同的温度梯度从而实现蒸发沉积。双通道进料系统可以在程序控制下将2个装载不同蒸发料的坩埚一同推进拉出,实现共蒸发或者反应蒸发,特别适用于多层二维晶体材料的制备。
OTF-1200X-IV-S是一款迷你型的4温区管式炉,所有电器元件都通过了UL / MET / CSA认证。此款管式炉最高工作温度1100℃,共有4个温区,每个温区长度为100mmL炉管直径为25mm或50mm,并配有一套不锈钢密封法兰,可对样品在真空或气氛保护环境下进行热处理。每个温区由独立的温控系统控制,都可设置30段升降温程序,控温精度为+/-1℃。
OTF-1200X-4-R-II-AF是一款双温区回转管式炉,安装有自动送料器和收料罐。自动可定份额地将粉料送入到炉管中,此过程可在气氛保护环境下进行,可实现用连续CVD方法对粉体材料进行包覆和修饰。收料罐可在气氛保护环境下对处理好的粉料进行收集。此款管式炉设计主要是在锂离子电池的阴极材料(如LiFePO3, LiMnNiO3)上包覆导电层,同时也可用CVD方式制备 Si/C 阳极材料。
VTF-1600X-B下装载炉是一款高性能的高温实验设备,最高温度可达1700℃,额定温度为1600℃,推荐升温速率为≤10℃/min。该炉采用下开门设计,配备两个炉门和可移动加热平台,通过升降平台和炉门配合,可在加热炉不降温的情况下连续烧结物料,显著节省烧结时间。其炉膛容积为13L(直径280mm×深度300mm),采用B型双铂铑热电偶测温,控温精度达±1℃。设备配备先进的电气控制系统,包括30段程序温控器、触摸屏操作界面,具备超温、偏差、断偶报警功能,以及RS485通讯接口,可实现数据记录与远程监控。
KSL-1700X-A1-W高温箱式炉是一款CE认证的可视台式高温马弗炉。该炉由优质氧化铝纤维绝缘材料和1800级MoSi2加热元件组成,高精度SCR(硅控整流器)和温度控制器配套使用测量和调节温度,精度为+/-1°C,最高温度可达1700°C。带有石英观察窗口,可在工作过程中随时观察物料状态,是专为高等院校、科研院所的实验室及工矿企业对金属、非金属及其化合物材料进行烧结、融化、分析而研制的专用设备。
OTF-1200X-S-R-II是一款1200℃小型双温区旋转炉,配备Φ50异型石英管,专为实现粉体材料烧结的均匀性而设计,尤其适用于锂离子电池阴极材料表面导电层的CVD包覆工艺。其安装尺寸为L1000mm×W300mm×H390mm,重量仅18kg,结构紧凑、轻便易用,能够有效提升材料处理的均匀性和效率,是高校、科研机构和企业实验室进行材料研发和工艺优化的理想选择。
OTF-1200X-50S-PE-SL是一款小型滑动开启式PECVD管式炉系统,专为高效薄膜沉积实验设计。该系统配备等离子射频电源、直径50mm的开启式管式炉(含真空法兰和连接管道)以及机械泵,能够实现稳定的等离子体增强化学气相沉积。其安装尺寸为1500mm×600mm×1200mm,重量约160kg,结构紧凑且操作便捷。此外,该设备可根据实验需求灵活升级为不同类型的PECVD系统,性价比高,非常适合高校、科研机构和企业实验室在薄膜制备、材料表面改性等领域的研究应用。
OTF-1200X-5L-R-CVD是一款1200℃旋转CVD管式炉,专为电池粉体材料表面包覆及其他粉体材料表面修饰设计。炉体配备3个加热区,确保温度均匀性,同时搭载4通道精密混气系统,可精准控制反应气体。其安装尺寸为1950mm×600mm×1320mm,重量约130kg,结构紧凑且功能强大,能够满足高校、科研机构和企业实验室在材料表面处理和修饰方面的多样化需求。
OTF-1200X-4-RTP-130是一款专为快速热处理设计的精巧型管式炉,配备Φ130mm石英管和不锈钢密封法兰,适用于氧化物、半导体及太阳能电池基片(最大4英寸)的快速退火。采用红外灯管加热,最快升温速度可达50℃/秒,控温精度为±1℃,能够高效完成高温处理任务。其安装尺寸为L1100mm×W700mm×H660mm,结构紧凑,是高校、科研机构和企业实验室进行快速热处理的理想设备。
KSL-1200X-MAX 1200℃五面加热箱式炉是一款高性能的高温实验设备,采用电阻丝加热元件,配备双层壳体结构和PID程序控温系统,使用K型热电偶,炉膛由高纯氧化铝纤维材料制成,最高温度可达1200℃,连续工作温度为1100℃,控温精度±1℃。该炉具有温场均匀、表面温度低、升温降温速度快、节能等优点,炉膛体积达125L,内置进气和排气口,可有效去除污染物和湿气,延长使用寿命。炉膛内五个面均安装加热元件,确保温场均匀性,底部配备碳化硅板,可承受最大100kg样品重量。此外,设备带有过热和断偶保护,以及开门断电功能,确保实验安全。