OTF-1200X-S-HPCVD 1200℃坩埚可移动型管式炉
OTF-1200X-S-HPCVD是一款1200℃小型开启式管式炉,专为冶金及材料合成实验设计。其炉管直径为50mm,配备步进电机控制坩埚在炉管内的移动,能够实现精确的温度控制和材料处理。这种设计特别适合用于冶金领域中的材料蒸发、升华以及薄膜沉积等实验,可有效控制材料的生长过程和微观结构,为研究高性能金属材料和
复合材料提供重要的实验支持。
应用范围:OTF-1200X-S-HPCVD是一款坩埚可炉管内移动(靠步进电机控制)的小型开启式管式炉。炉管直径为50mm,设备最高工作温度为1200℃。
产品型号 :OTF-1200X-S-HPCVD
OTF-1200X-S-HPCVD是一款坩埚可炉管内移动(靠步进电机控制)的小型开启式管式炉。炉管直径为50mm,设备最高工作温度为1200℃。
性能指标和基本配置