OTF-1200X-IR-IISL 900℃ 双温区RTP炉
应用范围:OTF-1200X-IR-IISL是一款双温区红外加热快速热处理炉,其炉管直径为4英寸,样品台滑轨周围嵌有可伸缩波纹管,允许样品在真空或气氛保护环境下移动。此款设备可使样品最大升温速率达到50℃/S,最大冷却速率达到10℃/S此款设备不仅可对样品进行快速热处理,还可采用HPCVD方法来生长二维晶体(一个加热区用来盛放固体蒸发原料,另一个加热区用于沉积样品)。
产品型号 :OTF-1200X-IR-IISL
上架时间 :2019-07-18
安装尺寸:1000(L)×540(W)×800(H) mm
重量:180Kg
OTF-1200X-IR-IISL是一款双温区红外加热快速热处理炉,其炉管直径为4英寸,样品台滑轨周围嵌有可伸缩波纹管,允许样品在真空或气氛保护环境下移动。此款设备可使样品最大升温速率达到50℃/S,最大冷却速率达到10℃/S此款设备不仅可对样品进行快速热处理,还可采用HPCVD方法来生长二维晶体(一个加热区用来盛放固体蒸发原料,另一个加热区用于沉积样品)。
性能指标和基本配置