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分配器底板

790   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 14:46:07
本发明涉及一种分配器底板(1),特别是喷嘴分配器底板,其用于为必要时形成涡流层均匀地将过程气体特别是充有固体微粒的过程气体引入到布置于分配器底板上方的处理室(3)中,处理室由反应器的反应器壁(4)构成,反应器用于对给料进行冶金处理,特别是热处理,其中,分配器底板具有大量的孔。通过在分配器底板中靠近壁来布置孔,可以避免反应器壁上的粘附。特殊的布置涉及喷嘴和导管。
声明：
“分配器底板” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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