本发明涉及制备金属锂带的方法,具体涉及一种连续电沉积制备锂带的方法。本发明解决的技术问题是提供一种连续电沉积制备锂带的方法。该方法包括依次进行的如下步骤:a、前处理:对金属基带进行活化处理;b、电沉积锂:采用恒流电沉积锂,先控制电流密度为5~50mA/cm2,沉积0.5~10s;再调整电流密度为0.02~1mA/cm2,沉积时间为1~10h;c、后处理:将电沉积后的金属带进行钝化,得到金属锂带。该金属锂带各处厚度均匀致密,通过调节电流密度与浸入镀液时间来调控锂镀层的厚度,易于制得各类厚度的锂带,尤其可制得厚度低于30μm的超薄锂带。本发明方法简单,成本低廉,可使金属锂带的生产大规模化。
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