本发明涉及金属
复合材料领域,尤其涉及一种可用于低温烧结并可获得低孔隙率的
铜膏。该铜膏包括:球状铜颗粒,片状铜颗粒,片状铟颗粒和高链接树脂;两种铜颗粒占比80%以上,铟颗粒占比在10‑20%之间,高链接树脂占比在0‑10%之间。该铜膏膏体在无压情况下,烧结温度可低到180‑250℃左右,烧结后致密度达到95%以上。
声明:
“可低温而高密度烧结的铜膏” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)