本发明涉及一种研磨用组合物,其特征在于,其用于研磨包含金属或半金属的氧化物或者它们的
复合材料的研磨对象物的表面,且至少含有水和二氧化硅,二氧化硅包含粒径为20nm以上且70nm以下的小粒径二氧化硅和粒径为100nm以上且200nm以下的大粒径二氧化硅,小粒径二氧化硅在前述研磨用组合物中含有2质量%以上,大粒径二氧化硅在研磨用组合物中含有2质量%以上,大粒径二氧化硅的平均粒径除以小粒径二氧化硅的平均粒径的值为2以上。
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