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高强度改性PBAT光催化抗菌薄膜及其制法

716   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 17:02:46
本发明涉及光催化抗菌材料技术领域，且公开了一种高强度改性PBAT光催化抗菌薄膜，包括以下配方原料及组分：WO3‑Ag3PO4‑TiO2‑蒙脱土复合材料、硅烷偶联剂、低密度聚乙烯、聚己二酸/对苯二甲酸丁二酯、抗氧化剂。该一种高强度改性PBAT光催化抗菌薄膜，在有机蒙脱土表面生成纳米TiO2，有效减少纳米TiO2团聚和聚集，Fe掺杂WO3和Ag3PO4共同修饰纳米TiO2，Fe掺杂增强了WO3在可见光吸收波段的光化学活性，TiO2光辐射下价带上产生空穴与羟基基团或者水分子，生成羟基自由基，WO3导带产生的光生电子与氧气反应生产超氧自由基，破坏了微生物的生长和繁殖，聚乙烯包覆住WO3‑Ag3PO4‑TiO2‑蒙脱土复合材料，使WO3‑Ag3PO4‑TiO2‑蒙脱土复合材料均匀分散在聚己二酸/对苯二甲酸丁二酯中。
声明：
“高强度改性PBAT光催化抗菌薄膜及其制法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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