权利要求
1.粉末冶金材料表面耐磨防护的复合处理方法,其特征在于包括: 提供作为基体的粉末冶金材料; 采用表面强化技术对所述基体进行致密化处理,从而在所述基体表面形成具有纳米晶体结构的表面层; 以及,采用物理气相技术在所述表面层表面沉积氮化物陶瓷层,从而实现对粉末冶金材料的防护。2.根据权利要求1所述的复合处理方法,其特征在于包括:采用喷丸强化、表面辊压、热等静压的任意一种表面强化技术对所述基体进行致密化处理; 和/或,所述物理气相技术包括多弧离子镀技术或磁控溅射技术。 3.根据权利要求1所述的复合处理方法,其特征在于包括:采用喷丸强化技术对所述基体进行致密化处理,其中,喷丸压力为0.3~0.8MPa,弹丸直径为0.8~2.0mm的GCr15,频率为15~20KHz,致密化处理时间为15~30min。 4.根据权利要求1所述的复合处理方法,其特征在于:所述具有纳米晶体结构的表面层的厚度为50~1000μm; 和/或,所述氮化物陶瓷层包括CrN层、CrNO层、TiN层中的任意一种; 和/或,所述氮化物陶瓷层的厚度为2~8μm; 和/或,所述粉末冶金材料包括铁基粉末冶金材料、粉末冶金硬质合金、粉末冶金磁性材料、粉末冶金高温合金中的任意一种。 5.根据权利要求1所述的复合处理方法,其特征在于包括: 将基体置于镀膜装置的真空腔体中,以氮气为工作气氛,以Cr靶作为靶材,采用多弧离子镀技术在所述表面层上沉积形成CrN层,其中,靶电流50~150A,沉积气压为1~4Pa,沉积时间为1~3h,同时控制偏压以1V/min~10V/min的速率由0~-50V升高至-50~-150V。 6.根据权利要求1所述的复合处理方法,其特征在于包括:基体置于镀膜装置的真空腔体中,以氮气和氧气为工作气氛,以Cr靶作为靶材,采用多弧离子镀技术在所述表面层上沉积形成CrNO层,其中,靶电流50~150A,氧气流量为80~120sccm,沉积气压为1~4Pa,沉积时间为1~3h,同时控制偏压以1V/min~10V/min的速率由0~-50V升高至-50~-150V。 7.根据权利要求1所述的复合处理方法,其特征在于包括:将基体置于镀膜装置的真空腔体中,以氮气为工作气氛,以
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