本申请公开了一种流体处理装置,包括:基体,包含具有流体入、出口的第一流体通道,该流体入口分布于该基体的第一表面的第一区域内;流体阻挡部,具有与该第一表面相对设置的第二表面;多个凸起部,所述凸起部沿横向在所述第一表面的第二区域连续延伸,其中相邻凸起部之间形成有可供流体通过的沟槽,并且所述凸起部具有沿横向相背对的第一、第二端,该第一端与该第一表面密封连接,该第二端的局部区域与该第二表面密封连接,从而使所述多个凸起部、流体阻挡部与基体配合形成与第一流体通道连通的第二流体通道。本申请的流体处理装置具有通量大、流阻小、能高效清除流体中微/纳米级颗粒等特点,可重复使用,使用寿命长,且适于规模化大批量生产。
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