本发明涉及含有平行于模板主轴的沟状空隙的化学反应器模板。沟状空隙的横截面积可以是微米级的,也可以是纳米级的。化学反应器模板可用来生产微米级和纳米级细丝和颗粒。本发明的化学反应器模板至少具有两个基本上平行于所述模板主轴的相交沟状空隙。本发明还涉及利用牺牲层制备化学反应器模板的方法。本发明的化学反应器模板可制成具有多个沟状结构阵列,以及垂直元件,为沟状空隙与模板中形成的材料之间的接触提供通路。本发明涉及用化学反应器模板制备细丝和颗粒的方法。细丝或颗粒在沟状空隙中形成,然后挤出化学反应器模板。用化学反应器模板可以制备许多器件,在模板的基底上的第一和第二材料体系之间至少具有一个接触区。本发明另一方面提供了用本发明的化学反应器模板制备的细丝。相应地,本发明涉及具有纳米或微米级截面的定向细丝,它在具有纳米级截面的沟道中制备。
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