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掺硼金刚石刻蚀的方法

1103   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 15:07:01
本发明公开了一种掺硼金刚石刻蚀的方法，涉及新型电子材料工艺技术，采用超高真空磁控溅射镀膜机和直流电弧等离子体喷射CVD设备制备，首先采用磁控溅射法溅射镍纳米颗粒，在以镍纳米颗粒作为催化剂等离子刻蚀掺硼金刚石，制得目标产品。本发明的优点是：该多孔金刚石比较容易被加工成型，在新型电子功能材料走向实际应用的过程中，有非常关键的作用；该制备方法工艺简单，易于实施，靶材使用率高、生产成本低，适于大规模的推广应用。
声明：
“掺硼金刚石刻蚀的方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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