本发明公开了一种低损耗抗弯曲单模光纤及其制造方法,该光纤从内到外依次包含芯层、内包层与外包层,芯层的相对折射率差Δ1为0.37%~0.42%,内包层的相对折射率差Δ2为‑0.45%~‑0.25%,外包层的相对折射率差△3为‑0.05%~0%。本发明中,芯层相对折射率差自内而外由Δ1下降为Δ2,降低了弯曲状态下折射率剖面的畸变程度,进一步优化了芯包粘度匹配,减小了拉丝过程中缺陷的产生,以降低光纤的损耗值,增加光纤的抗弯曲性能,内包层的相对折射率差自内而外由Δ2上升为Δ3,使光纤的芯层、包层粘度到达较好的匹配,降低芯包间应力,同时符合ITU.T G.657.A和ITU.T G.652.D光纤标准。
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