本发明属于高温难熔金属靶材制备领域,具体涉及一种高致密度钼铌合金溅射靶材的制备工艺,该工艺包括如下步骤:原料混合;胶套装粉作业;冷等静压作业,升压至一定压力后,保压一段时间,然后泄压,最后将压制坯从胶套取出;真空烧结或氢气保护烧结;热等静压作业,对烧结坯直接进行热等静压作业;热轧作业,对钼铌合金进行金属包套轧制,热轧后退火去除应力;进行磨削等机加工作业,得到最终所需产品尺寸。该工艺步骤简单,操作便捷,制备的钼铌合金溅射靶材纯净度、相对密度均满足高端电子产品镀膜领域使用需求,且生产成本低,产品尺寸宽泛,便于工业化批量生产。
声明:
“高致密度钼铌合金溅射靶材的制备工艺” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)