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制备铜铟硒溅射靶材的工艺

844   编辑：管理员   来源：中冶有色网  
2023-03-18 14:58:54
本发明属于光电材料新能源技术领域，特别涉及一种制备铜铟硒溅射靶材的工艺。通过制备或市场购买Cu2Se粉末和In2Se3粉末，混合后在行星式球磨机中球磨，而后冷压成型，制得Cu2Se和In2Se3混合材料素坯，将此素坯置于密闭的真空烧结炉中，在H2保护气氛中，烧结，冷却后脱模，即得到铜铟硒靶材。所制得的靶材具有均一的铜铟硒相，相对密度达到95％以上。本发明具有工艺简便，效率高，成本低，稳定性好等优点，为制备铜铟硒吸收层薄膜的制备工艺提供了便捷和稳定的保证。
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“制备铜铟硒溅射靶材的工艺” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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