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氟铝酸锂系列晶体的软坩埚下降生长方法

937   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 14:58:01
本发明是一种LAF系列晶体的坩埚下降生长方 法, 其特征在于, 采取低温固相氟化处理的方法和软坩埚下降方法。以NH4F为氟化剂, 在80～150℃的温度下加热进行为期3～4周的低温减压脱水, 然后在300℃左右经24小时的减压氟化, 再在560度以上的温度下抽真空烧结, 软坩埚下降方法是以铂金薄片在0.06——0.15mm厚度制作坩埚, 其尺寸为φ8——25mm, X250——300mm, 晶体生长界面温度为770——820℃, 温度梯度控制在20——30℃/cm左右, 向上向下逐步减小, 生长速度每天5——10mm, 直至生长完成。
声明：
“氟铝酸锂系列晶体的软坩埚下降生长方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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