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无开裂铜基异质层状电极结构及其制备方法

961   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 14:50:09
本发明公开了一种无开裂异质层状电极结构及制备方法，所述电极结构由表及里依次为氧化锆层、氧化锆‑锆混合层、锆覆层、铌覆层和铜基体；各层间冶金结合无裂纹，无气孔。铌覆层和锆覆层在铜基体表面通过激光熔覆依次形成。氧化锆‑锆混合层、氧化锆层通过电弧烧蚀技术在锆覆层表面原位形成。其中铌覆层抑制基体铜稀释作用，减少铜锆金属间化合物生成，保障覆层塑性；在铌覆层表面熔覆形成锆覆层，构成初始的锆‑铌‑铜基异质层状结构，该层状结构由于铜锆金属间化合物生成得到抑制、无开裂，具备空气电弧烧蚀均匀性，通过燃弧后在锆覆层原位生成氧化锆‑锆混合层及氧化锆层，形成本发明的无开裂铜基层状电极结构，该电极结构有效实现表层耐烧蚀和基体高传导的结合。
声明：
“无开裂铜基异质层状电极结构及其制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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