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无开裂铜基异质层状电极结构及其制备方法

899   编辑:管理员   来源:中冶有色技术网  
2023-03-18 14:50:09
本发明公开了一种无开裂异质层状电极结构及制备方法,所述电极结构由表及里依次为氧化锆层、氧化锆‑锆混合层、锆覆层、铌覆层和铜基体;各层间冶金结合无裂纹,无气孔。铌覆层和锆覆层在铜基体表面通过激光熔覆依次形成。氧化锆‑锆混合层、氧化锆层通过电弧烧蚀技术在锆覆层表面原位形成。其中铌覆层抑制基体铜稀释作用,减少铜锆金属间化合物生成,保障覆层塑性;在铌覆层表面熔覆形成锆覆层,构成初始的锆‑铌‑铜基异质层状结构,该层状结构由于铜锆金属间化合物生成得到抑制、无开裂,具备空气电弧烧蚀均匀性,通过燃弧后在锆覆层原位生成氧化锆‑锆混合层及氧化锆层,形成本发明的无开裂铜基层状电极结构,该电极结构有效实现表层耐烧蚀和基体高传导的结合。
声明:
“无开裂铜基异质层状电极结构及其制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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