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获得低稀释率涂层的激光熔覆方法

783   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 14:46:35
本发明公开了一种获得低稀释率涂层的激光熔覆方法，该方法是采用高斯分布或近似高斯分布的激光束进行激光熔覆，采用负离焦方式，激光束焦平面位于工件表面下方；利用高斯分布或近似高斯分布的激光束在传播路径上光束截面能量密度分布的特点，采用负离焦方式进行激光熔覆，激光熔覆过程中控制负离焦量在4mm～50mm范围内；最终获得稀释率极低，且与工件良好冶金结合的激光熔覆涂层。
声明：
“获得低稀释率涂层的激光熔覆方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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