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真空灭弧室用CuCr触头材料表面处理方法

983   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 14:33:13
一种真空灭弧室用CuCr触头材料表面处理方法，触头材料进行机加工、清洗、干燥后，采用高能电子束对材料表面进行扫描，获得厚度约100μm的电子束重熔层，且重熔层内Cr颗粒尺寸小于1μm。上述电子束扫描过程在真空环境下进行，真空度＜0.1Pa，电子束扫描频率为350-450HZ，电压55-65KV，电流60-70mA。由于经电子束扫描后，触头材料表面的晶粒明显细化，因此其物理机械性能及电性能均有很大程度改善。
声明：
“真空灭弧室用CuCr触头材料表面处理方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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