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磁控溅射CO-CR-TA合金靶的制造方法

921   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 14:32:47
本发明属于冶金制备领域,特别涉及一种磁控溅射CO-CR-TA合金靶的制造方法。该方法以99.95%的电解钴,99.9%的电解铬,99.9%的钽为原料,经真空熔炼,铸锭、锻造,轧制,热处理(或经真空熔炼,铸锭,轧制,热处理),然后机加工成成品。合金成分AT%范围为:CO 73-88%,CR 8-25%,TA 2-6%;在熔炼过程中浇注温度在熔点以上50℃～150℃,锻造温度在1000℃～1200℃,轧制温度为1100℃～1300℃,热处理温度为700℃～1000℃,保温4～10小时,然后淬火。本发明与现有技术相比具有成品成分控制精确,分布均匀,成品的纯度高,密度大、磁透率高的优点。
声明：
“磁控溅射CO-CR-TA合金靶的制造方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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