权利要求书： 1.一种四氯化硅反应器内衬层的制备方法，其特征在于，所述内衬层包括涂覆在反应器内侧的内衬材料层和涂覆在所述内衬材料层表面的内衬涂层；
其中，所述内衬材料层由内衬材料经物理气相沉积或化学气相沉积中的一种或多种方法处理沉积在反应器内侧得到；
其中，所述内衬涂层由内衬涂层前驱体制备得到，所述内衬涂层前驱体的制备包括如下步骤：S1、将液体硅酸钾和硅溶胶混合搅拌均匀，得物料1；
S2、先将累托石干燥，随后加入NaOH，混合均匀后进行煅烧，得改性填料；
S3、将氧化镁、氧化锆和步骤S2中所得改性填料加入到物料1中，混合均匀后研磨、过筛，即得内衬涂层前驱体；
其中，所述内衬材料为等质量的碳化硅和石英的混合物；
其中，所述内衬涂层由内衬涂层前驱体经喷涂或涂刷后，于20 40℃下固化12 48h制备~ ~得到；
其中，以重量份计，所述内衬涂层前驱体由以下原料制得：80 100份液体硅酸钾、30 45~ ~份改性填料、20 35份硅溶胶、8 15份氧化锆、2 4份氧化镁；
~ ~ ~
其中，步骤S2中，煅烧温度为800℃，煅烧时间为2.5 5.5h。
~
2.根据权利要求1所述的一种四氯化硅反应器内衬层的制备方法，其特征在于，所述内衬涂层的厚度为5 15μm。
~
3.根据权利要求1所述的一种四氯化硅反应器内衬层的制备方法，其特征在于，步骤S1中，硅溶胶的粒径为15 25nm，液体硅酸钾的模数为2.6 3.1。
~ ~
4.根据权利要求1所述的一种四氯化硅反应器内衬层的制备方法，其特征在于，步骤S2中，氢氧化钠的加入量为累托石质量的20%。
5.根据权利要求1所述的一种四氯化硅反应器内衬层的制备方法，其特征在于，步骤S3中，过筛目数为180 250目。
~
6.一种四氯化硅反应器，其特征在于，包含采用权利要求1 5任一项四氯化硅反应器内~衬层的制备方法制备得到的内衬层，所述内衬层位于耐火材料表面，所述耐火材料位于反应器内壁。
说明书： 一种四氯化硅反应器内衬层的制备方法技术领域[0001] 本发明属于反应器设备技术领域，具体涉及一种四氯化硅反应器内衬层的制备方法。背景技术[0002] 四氯化硅(化学式SiCl4)是一种无色液体，是生产高纯硅(工业级、
声明：
“四氯化硅反应器内衬层的制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
1011
编辑：中冶有色网
来源：武汉新硅科技潜江有限公司
分享 0
举报 0
收藏 0
反对 0
点赞 0
2025年09月25日 ~ 27日 
