AMC-6型磁通门磁力仪是上海艾都与上海海事大学合作的杰作,在高导磁率坡莫合金经特殊的热处理后为磁芯,纯手工绕制的高性能传感器,在交变激励信号的磁化作用下,磁芯的导磁特性发生周期性饱和与非饱和变化,使围绕在磁芯上的感应线圈感应输出与外磁场成正比的信号,通过特制高性能的电路转化磁场强度变化,分辨率达到0.1-1nT,地磁场强度的0.000001倍,对微弱信号变化量的反应能力相当高,具有分辨率高、精度高、性能稳定、无温漂等特点。
载气热提取法铝中氢分析仪用于测定样品中的氢含量,仪器配备快速加热的红外炉,并配置专用的石英管用于样品的加热。能够实现大块样品的分析,采用具有专利技术的全自动气体校准系统,可用纯氢气或纯氦气进行校准。系统的核心是一个高灵敏度长期稳定的热导检测器,对于高强度钢中超低含量氢的检测 载气热提取法铝中氢分析仪符合GB/T 20975.30-2019 等国际国内标准。
以色列ScanMaster公司是全球领先的超声波检测产品制造商,产品包括超声波仪器仪表,超声波检测及成像系统和传感器。ScanMaster产品适用于多个行业,包括:航空航天,管材,金属,汽车和火车轨道,车轮和车轴行业。解决方案适用于多种环境,包括实验室和生产设施。ScanMaster也是汽车行业检测系统的领先制造商,提供汽车生产线点焊的高端超声波检测解决方案,推出全球首台先进的基于PC的超声波点焊检测系统UT/Mate,只需简单地把UT/Mate通过USB串行接口就恶意链接到任何一台计算机/笔记本电脑上。
ezAFM是新设计的精致型原子力显微镜,具有设计紧凑、美观大方、高稳定性、占用空间小等特点,而且软件功能强大、操作简单、用户界面良好,而且价格实惠,性价比较为高。它是理想的实验室用原子力显微镜,广泛应用于高等教育、纳米技术教育和基础研究等领域。产品系列包括:ezAFM、ezAFM+、ezAFM AQUA、以及ezAFM-Vacuum,ezSTM除了基本的形貌等扫描,可以用于电学、磁学等拓展模式,以及液相、真空环境等。
原子力显微镜(Atomic Force Microscope, AFM)经过30多年的发展后,从形貌测试及其它常规功能来看已经非常成熟。然而常规的原子力显微镜也越来越无法满足科研人员在纳米尺度下对于样品进行多性质原位测试分析的需求,尤其在化学、光学、电学、热学、力学等领域。 在具备常规原子力显微镜功能的条件下,基于光诱导力显微镜(Photo-induced Force Microscope, PiFM)技术,结合波长可调的可见-红外光源,从而实现10nm以下空间分辨可见-红外成像与光谱采集,无需远场光学接收器及光谱仪。 此外,VistaScope原子力显微镜还可以与各类拉曼光谱仪
SPRm200 表面等离子共振显微镜 工作原理基于表面等离子共振(SPR)技术。是将表面等离子体共振技术和光学显微镜巧妙结合为一体的生物传感检测仪。可以同时得到细胞原位明场成像、SPR成像、及SPR动力学曲线定量亲和常数、结合解离常数,它为免标记研究分子相互作用的领域开辟一个崭新的前沿。专门针对细胞膜蛋白和相关分子免标记检测而设计的SPRm200, 使您在不需要从细胞中提取和分离膜蛋白的前提下实时观察细胞结构并同时测量药物和靶点在细胞上的结合过程。还可进行对药物和在天然状态下的膜蛋白之间相互作用的测量,高分辨SPR成像,可
NanoFlip产品既可以工作在真空环境下进行各种原位力学测试;也可以直接在大气环境下测试样品的硬度、杨氏模量或者其它物理力学性能。 NanoFlip在硬度和杨氏模量测试、连续刚度测试(CSM)、力学性能谱图(Mapping)、纳米动态力学分析(DMA)、划痕和磨损测试、柱压缩等测试中表现出色,可同时将SEM图像与力学测试数据同步。NanoFlip还可以进行快速压痕测量,这是在惰性环境(如手套箱)中研究非均相材料的重要手段。
KLA Candela光学表面缺陷分析仪(OSA)可对半导体及光电子材料进行先进的表面检测。Candela系列既能够检测Si、砷化镓、磷化铟等不透明基板,又能对SiC、GaN、蓝宝石和玻璃等透明材料进行检测,成为其制程中品质管理及良率改善的有力工具。 Candela系列采用光学表面分析(OSA)专用技术,可同时测量散射强度、形状变化、表面反射率和相位转移,为特征缺陷(DOI)进行自动侦测与分类。OSA检测技术结合散射测量、椭圆偏光、反射测量与光学形状分析等基本原理,以非破环性方式对Wafer表面的残留异物,表面与表面下缺陷,形状变化和薄膜厚度
Filmetrics的薄膜电阻测量设备开发源自于有着超过30年经验的KLA的薄膜电阻计量技术,并由20年台式测量设备开发经验的Filmetrics团队完善了桌面式方块电阻测量产品。KLA薄膜电阻测量技术包括接触(4PP)和非接触(EC)方法。 Filmetrics的R50系列方块电阻测量仪器可测量沉积在多种基材上的导电片和薄膜,跨越10个数量级范围电阻率,包括:半导体晶圆基板、玻璃基板、塑料(柔性)基材、PCB图案特征、太阳能电池、平板显示层和图案化特征、金属箔
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