有色金属加工设备

1600℃高真空超洁净气氛可控炉 228     

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HT-1600C是一款高真空超洁净气氛炉，最高加热温度可达1600℃-1800℃，极限真空度为10-5Torr(需配套分子泵使用)，全水冷不锈钢炉体内采用钨带加热，外层为钨多层反射板进行隔温，炉内为全金属材质组成，拥有高洁净度，低放气量的优点，使得该炉在高温下可获得较高真空度，并目拥有很高的洁净度。

2300℃感应加热管式炉 227     

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HT-2300C是一款感应加热的卧式管式炉，最高温度可达2300℃，可以在真空和气氛保护下使用，可以在内部放置一根⌀26mm的刚玉管（最高耐温1700℃），用于在空气、水蒸气或氧气气氛下使用。

全自动砂轮修整机 343     

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全自动砂轮修整机用于金刚石砂轮和CBN砂轮的精密修整，主要用于刀具制造、砂轮制造、芯片制造、电池制造等行业，测量精确。针对单个砂轮或者数个砂轮组成的砂轮组，可以精确修整平面、角度、圆弧及组合。

热风循环脱脂炉 224     

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​热风循环脱脂炉是一种新型纤维炉膛电阻炉，有使用温度在1300℃和1000℃以下2款炉型，具有加热速度快、温度均匀性高等特点。设备具有可调节风量进排气系统，并拥有废气净化装置，是一种新型“节能、环保、高效”的电阻炉。

金相试样磨平机 246     

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MP-350金相试样磨平机，是用于经切割后的试样表面或未经加工的试样表面进行粗磨工序，可提高试样的制备质量和工效。该磨平机的磨削是采用湿式磨削，可大大降低磨削时砂尘飞扬污染，并该机的上半截均由不锈钢材料制成，具有外形新颖美观，经久耐用，操作使用方便，安全可靠易维护保养等优点。

金相试样磨平机 351     

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在金相试样制备过程中，经切割后的试样表面或未加工试样表面均比较粗糙和不平，为能提高试样的制备质量和功效，可先将试样的切割面在磨平机上磨平后再进行预磨和抛光工作。

双通道高速精雕加工设备 349     

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机床底座/横梁/托板/主轴箱均采用高强度铸铁材质，经过二次时效处理去除材料应力，保证机身不易变形;光机铸件重量达到2800KG左右，采用三立柱设计，保证大跨距下的支撑刚性。

不锈钢钻攻机 350     

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台群不锈钢钻攻机T-530具有高速、高精、高光、高效性的加工特点，是台群精机紧跟3C行业发展步伐，深入研究不锈钢材料属性及零件加工工艺，结合多年的技术积累，突破行业瓶颈，全新自主研发的一款针对不锈钢加工的钻铣机床。搭载21T新自主研发的伺服刀库，刀库采用三菱直驱，更高效稳定。

硬轨模具机 343     

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台群硬轨模具机T-15以高品质铸铁铸件建造而成。台群精机硬轨加工中心T-15主要应用于钢件、铁件、铝合金、镁合金等零件和模具加工，采用双螺帽设计，用于精密加工，具有强大的切削能力和高精准度。

精机高光机 344     

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台群高光机是根据其加工产品的特点而命名的，其外形类似雕刻机(或者是精雕机)，主轴选用中国台湾28000RPM的电主轴，在加工产品时，达到镜面效果，看不到刀纹。

高光机 347     

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宇德高光机S-540，床身采用高精度树脂砂铸件，采用0号砂脂润滑，可以长时间保持优良润滑状态;丝杆固定端采用配对角度轴承;精度高，寿命长;

高速双头精雕机(机械手) 349     

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加工材质硬金属,软金属,合金,钢结构,塑料,布料,板材,橡胶,玻璃,陶瓷,石材,骨头,皮质材料,磁性材料,其他加工行程X轴:370mm,Y轴:200mm,Z轴:90mm

自动金相试样磨抛机 235     

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WMP-2000自动金相试样磨抛机集预磨、研磨、抛光于一体的双盘式全自动磨抛机。它采用高端触摸屏进行控制，磨抛盘采用直流无刷电机驱动，V带进行传动，磨头采用步进电机驱动，同步带进行传动 具有转动平稳，噪音低，安全可靠等特点；可以根据用户需要自行调整磨头和磨抛盘的转速 ，自行设定压力，自行设定制样时间，适应不同需求；自带照明系统，方便取放试样；自带冷却装置，可以在研磨时对试样进行冷却，以防止因试样过热而破坏金相组织，是工厂，科研单位以及大专院校实验室金相制样设备理想之选。

真空坩埚炉 166     

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HTCF-V系列真空坩埚炉是由石英坩埚(或氧化铝陶瓷坩埚)和不锈钢法兰组成的真空坩埚炉。主要用于煅烧真空或惰性气体保护下的高纯度化合物或扩散半导体晶片，也可用于烘烧或烧结陶瓷材料。

井式坩埚炉 232     

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HTCF-1200系列井式真空坩埚炉是由石英坩埚(或氧化铝陶瓷坩埚)和不锈钢法兰组成的真空坩埚炉。主要用于煅烧真空或惰性气体保护下的高纯度化合物或扩散半导体晶片，也可用于烘烧或烧结陶瓷材料。

升降炉 229     

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该炉汇集了我公司多年窑炉研制的经验，并吸取国外同类产品的先进技术，在结构、材料等关键环节上不断研究和探索，并针对用户的使用要求和特点，进一步提高发展而成的新型高温升降炉。经使用单位严格测试验收，性能及技术指标均符合标准，获得了用户的认可。

高温高真空钎焊炉 222     

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高温高真空钎焊炉用于不锈钢、高温合金、耐热合金等真空钎焊，还适用于含钛、锆、铌、钼等同种难熔合金或异种金属的真空钎焊。广泛应用于真空开关管（灭弧室）的封排、以及钛合金、雷达屏蔽网、EGR冷却器、金刚石刀具、铁铬铝载体等钎焊。在焊接过程中，零件处于真空气氛或保护气氛下，具有无氧化、变形小、无气孔、无焊剂夹渣物、表面光亮、无污染工艺等优点，可实现多道钎缝、多个组件同时焊接。

1700真空箱式气氛炉 225     

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HTAF-1700系列箱式气氛炉适用于高校、科研院所、工矿企业做箱式气氛炉应用于适合各类大专院校实验室、工矿企业化验室，供化学分析、物理测定，以及金属、陶瓷的烧结和熔解、小型钢件等加热、焙烧、烘干、热处理用。高温烧结、金属退火、新材料开发、有机物质灰化、质量检测之用，也适用于军工、电子、医药、特种材料等生产和实验。

气氛还原炉 157     

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HTAF-1200系列气氛还原炉主要包含加热系统，抽真空系统，气体控制系统，密封阀门系统。通过向高温加热设备里充入适量还原性气体和加热设备里面的物质发生化学还原反映，从而得到自己想要的产品或效果。

气氛保护炉 217     

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HTAF-1700系列气氛保护炉在高温烧结的情况通入某种特定气体用于特殊热处理，或者对热处理的样品进行保护防止氧化。

触摸屏全自动磨抛机 237     

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触摸屏全自动磨抛机是一款高效、智能的金相样品制备设备，采用中心加载力方式，一次性可固定六个样品，完成全部研磨抛光过程，确保磨抛出的各个样品具有完整的平面。设备配备独立控制的磨抛盘和样品盘，可调节转速、磨抛时间、转动方向及水阀关闭等参数。触摸屏界面操作简单，磨抛参数设定方便，状态显示直观。加载力可在运行中调整，灵活方便，且通过电磁阀控制水的通断。磁性防粘盘设计便于更换，可完成从粗磨到精抛的多种工序，一盘多用，提高工作效率。

全自动真空冷镶嵌机 228     

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WZK-6000全自动真空冷镶嵌机，采用PLC控制、高强度真空室和内置真空泵，一键完成多次抽真空、保持真空、放气等整个镶嵌过程。

CVD石墨烯生长炉 220     

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VD石墨烯生长炉专门针对于用在金属箔上生长薄膜物质，如石墨烯、使用时把金属箔附在内管上。其最高工作温度可以达到1200℃，专门针对于用CVD化学气相沉积方法在金属箔上生长薄膜物质，如石墨烯、太阳能电池的电极材料和电池电极材料等。

压力冷镶嵌机 234     

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WZK-1S压力冷镶嵌机，采用高强度压力锅和内置气泵，为冷镶嵌的特殊要求而设计的专用金相镶嵌设备。

冷镶嵌压力锅 229     

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冷镶嵌压力锅是为了适应镶嵌树脂快速固化的特殊要求而设计的专用金相镶嵌设备。使用该设备，在不改变树脂物理化学性能的前提下，可大幅减少镶嵌试样中的气泡和孔隙，为后续试样磨抛和显微组织分析提供好的效果。

超大型全自动金相切割机 235     

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WQG-500ZAYAXA超大型全自动金相切割机，采用直径500毫米的切割片，是目前切割能力较大的切割机之一。适用于切割各种金属，非金属材料的试样，以便观察材料金相、岩相组织。本机切割过程自动化、噪音低、操作简便，安全可靠，完成满足现代试验室制作大型工件切割要。

真空管式气氛炉 224     

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HTTF-1700 是一款高温真空管式炉，其内膛中嵌有ZrO2的内衬，加热元件才采用1850硅钼棒，所以使得仪器最高温度可以达到1800℃。仪器标配中含有一套不锈钢真空法兰(法兰上安装有不锈钢针阀和机械压力表)和一根高纯氧化铝炉管。

精机雕铣机 342     

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台群精机雕铣机C-650适用范围比较广，对不同材料：钢、铜、铝、有机玻璃等均可精密加工。广泛用于精密模具模仁粗精加工一次完成，模具紫铜工、铝件产品批量加工、鞋模制造、治具加工、钟表眼镜等行业。

自动金相旋转切割机 235     

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自动金相旋转切割机是一款高效、智能化的金相样品制备设备。它采用人机界面和PLC控制，操作界面直观，支持中英文切换，参数设置方便。主轴采用变频控制，具备过载保护功能，确保设备运行安全。设备提供两种切割方式（直接切割和冲击切割），适应不同材料的切割需求。R轴转速手动可调，用户可在500-3000r/min（选配500-5000r/min）之间任意设置，切割直径可达φ60mm，切割速度范围为0.01-3mm/s。此外，设备配备外循环水冷却装置和封闭透明防护罩，确保操作安全。用户可以储存设置参数，方便后续相同材料的切割，无需重新设置。

垂直立式真空管式炉PECVD系统 242     

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化学气相沉积系统(CVD)为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)， 内炉膛表面涂有美国进口的高温氧化铝涂层可以提高设备的加热效率，同时也可以延长仪器的使用寿命。HTTF-1200-V-PECVD多路混气真空管式炉PECVD系统广泛应用于沉积高质量SiO薄膜、Si3N4薄膜、金刚石薄膜、硬质薄膜、光学薄膜和炭纳米管(CNT)等。