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卧式真空（脱脂）压力烧结炉是一款专为陶瓷制品烧结设计的多功能设备，适用于氮化硅陶瓷球、升液管、热电偶套管等各类陶瓷制品的真空烧结和气压烧结工艺。该设备采用特殊炉胆结构和加热器布置，确保炉温均匀性，同时配备全密闭马弗，密封效果好，抗污染能力强。其功能多样，支持真空烧结、压力烧结、负压脱脂烧结，并具备超温超压报警、机械式自动压力保护等安全特性。设备最高温度可达1500-2000℃，温控精度为±5~±10℃，适配N2/Ar/H2等多种工艺气氛，可选配脱脂系统实现一体化处理。
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卧式化学气相沉积炉（碳化硅）是一款专为以硅烷为气源的材料表面抗氧化涂层和基体改性工艺设计的高端设备。该设备采用先进的控制技术，能够精密控制MTS流量和压力，确保炉膛内沉积气流稳定，压力波动小。其特殊结构的沉积室密封性好，抗污染能力强，多通道沉积气路设计实现流场均匀，无沉积死角，沉积效果优异。此外，设备配备专用防腐蚀真空机组，可有效处理高腐蚀性尾气、易燃易爆气体、固体粉尘及低熔点粘性产物，持续工作时间长，维修率极低。
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立式真空碳化炉是一种专为碳碳复合材料、碳纤维保温材料、储能材料及其他新型炭材料的碳化处理设计的高性能设备，广泛应用于炭/炭刹车盘、碳纤维板材、晶体炉坩埚、碳纸、石墨烯、碳纳米管等材料的生产。该设备采用多温区独立控温技术，温度均匀性好，可实现正压或负压碳化工艺，满足不同材料的工艺需求。其最高温度可达1000℃或1500℃，温控精度为±5℃或±10℃，适配真空、H₂、N₂、Ar等多种工艺气氛。
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顶立科技的真空浸渍炉（型号：VPI）是一款专为陶瓷基复合材料的聚碳硅烷液相真空浸渍处理设计的高性能设备，广泛应用于冶金及先进材料领域。该设备采用多温区独立控温技术，确保温度均匀性，同时配备顶立科技专属的超高温、大电流引电技术，可在高温条件下长时间稳定运行。其最高温度可达400℃，温控精度为±5℃，适配真空、N₂、Ar等多种工艺气氛。此外，设备配备多级高效尾气处理系统，实现环境友好和易清理，是陶瓷基复合材料生产中的关键设备，为冶金及材料加工提供了高效、稳定的解决方案。
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热等静压与高压气淬复合真空炉用于各类金属材料、铜基、铁基粉体材料、耐磨材料、陶瓷类材料热等静压（HIP）及加热致密后的快速冷却（GQ）气体淬火。
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卧式双室真空气冷油淬炉主要用于合金结构钢、轴承钢、弹簧钢、具模钢、高速钢等材料的真空油介质中淬火，及以上相关材料的退火、气冷等工艺。
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顶立科技的等离子旋转电极雾化制粉设备（型号：PRER-30）采用先进的等离子旋转雾化技术，通过金属或合金制成的自耗电极，在高速离心力作用下制备高洁净度的球形金属粉末。该设备避免了传统工艺中的造渣和耐火材料接触，消除了非金属夹杂物污染，确保粉末的高纯度和优异的球形度，广泛应用于钛及钛合金、高温合金、钴基合金、铝合金和模具钢合金等高性能材料的制粉。其桌面级版本（PREP-60）为实验室和小规模生产提供了灵活的解决方案，是冶金领域实现高质量粉末生产的理想选择。
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立式底装料高真空钎焊炉（型号：VHVB）是由湖南顶立科技研发生产的高性能冶金设备，主要用于有色金属、不锈钢、钛合金、高温合金及硬质合金等材料的真空钎焊。该设备采用模块化优化设计的炉胆，炉温均匀性好，升降结构具备自动消除累计误差的功能，运行平稳且无振动。其真空系统入口装有气体冷凝转相器及过滤收集装置，可有效防止焊剂蒸发气对真空泵组的污染，同时配备独有的规管防污染技术，确保真空规管使用寿命长。此外，设备采用背部绝缘技术，辐射面积更大，绝缘性好。
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顶立科技的真空压力扩散焊炉（VDP标准型）是一款专为航空、航天、船舶等领域设计的高性能冶金设备，主要用于发动机叶片、隼头、导弹引信等高精度部件的扩散焊接。该设备采用一体式设计，结合压力机与加热室，配备高精度压力传感器和位移传感器，确保焊接过程的压力和位移控制精准。其上/下压头选用TZM合金或等静压石墨材料，平面度控制在±5μm内，通过3D有限元技术优化，保证高温下无变形。此外，设备支持2bar-15bar气体压力下的外循环快速冷却系统，提高生产效率。
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全自动、智能化十八管还原炉（型号：MT-144-18-6(G)）是由湖南顶立科技研发生产的高性能冶金设备，主要用于金属粉末（如钨、钼等）的还原处理。该设备采用多管加热设计，温度均匀性高，产量大，配备圆形炉管，变形小且进出料顺畅。其间歇式进出料系统密封性能优异，气体耗量低，可实现氢气回收，显著降低生产成本。此外，设备可选配全自动装舟、推舟、出料和倒舟机构，产品质量稳定，人工劳动强度低，同时具备远程控制功能，支持远程操控、故障诊断和软件升级。
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高温回转煅烧/还原炉（型号：RF-400-4(G)）是由湖南顶立科技研发生产的高性能冶金设备，专为多种金属盐的煅烧和金属氧化物的还原工艺设计，广泛应用于APT煅烧、蓝钨还原等领域。该设备采用回转管式炉膛，粉末流动性好，进出料系统采用专利技术，密封性能优异，气体耗量低且可实现气体回收。此外，设备支持全自动进出料，产品质量稳定，人工劳动强度低，并具备远程控制功能，可实现远程操控、故障诊断和软件升级。
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废漆包线连续无氧热解成套装备是一种专为冶金领域设计的高效资源回收设备，采用先进的连续无氧热解技术，通过氮气保护环境对废漆包线进行高值资源化回收。该设备利用PTC电热元件和镍铜丝加热，最高温度可达800℃，温控精度为±5℃，能够实现废漆包线中金属铜与有机杂质的完全分离，回收得到高纯度铜。整个热解过程能耗低、铜金属回收率高，且无二次污染，是实现铜产品低能耗、高值化回收的理想选择，为冶金行业的资源循环利用提供了高效、环保的解决方案。
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立式底装料真空退火炉（型号：VVA）是由湖南顶立科技推出的高性能冶金热处理设备，专为工具钢、模具钢、高速钢、磁性材料、不锈钢及有色金属等材料的光亮退火工艺设计，特别适用于长杆形零件、轴类及大型易变形工件的真空退火。该设备采用立式单室、底装料结构，炉胆经模块化优化设计，确保炉温均匀性，支持真空气氛（包括Ar、H₂）和多种加热元件选择。其升降结构具备自动消除累计误差功能，运行平稳无振动。此外，设备配备高品质的进口或国产真空泵组、PLC控制系统、控温仪表和电器元件，确保操作精准、安全可靠。
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卧式真空裂解炉是一款专为碳陶复合材料、陶瓷基复合材料和碳化硅纤维等材料的高温裂解工艺设计的高性能设备。其采用顶立科技专属的超高温、大电流引电技术，支持多温区独立控温，确保温度均匀性，同时兼容感应加热方式，可在最高1800℃的条件下长时间稳定运行。设备配备全密闭马弗，密封效果好，抗污染能力强，并搭载多级高效尾气处理系统，实现环境友好和易清理。其温控精度为±7.5℃，适配真空、CH₄、NH₃、H₂、N₂、Ar、空气等多种工艺气氛。
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立式化学气相沉积炉（SiC、BN）是专为冶金及材料科学领域设计的高端设备，广泛应用于外延片基座、晶体炉高温耐材、热弯模具、半导体坩埚、陶瓷基复合材料等的表面涂层、基体改性及复合材料制备。设备采用先进的控制技术，能够精密调控MTS流量和压力，确保炉膛内沉积气流稳定，压力波动极小。其全密闭沉积室密封效果好，抗污染能力强，多通道工艺气路设计实现流场均匀，无沉积死角，沉积效果优异。此外，设备配备多级高效尾气处理系统，能有效处理高腐蚀性尾气、易燃易爆气体、固体粉尘及低熔点粘性产物，环境友好且安全可靠。
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卧式真空碳化炉是一款专为冶金领域设计的高性能设备，广泛应用于碳碳复合材料、碳纤维保温材料、储能材料及其他新型炭材料的碳化处理，是生产炭/炭刹车盘、碳纤维板材、晶体炉坩埚、石墨烯、碳纳米管等材料的关键设备。其采用多温区独立控温技术，确保温度均匀性，支持正压或负压碳化工艺，满足复杂冶金工艺需求。设备配备多级高效尾气处理系统，能高效收集焦油及副产物，减少环境污染，同时可选配外循环快冷系统，显著缩短降温时间，提高生产效率。
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卧式真空石墨化炉是一款专为碳碳复合材料、碳纤维保温材料、储能材料及其他新型炭材料的高温石墨化处理设计的高端设备。其采用顶立科技专属的超高温、大电流引电技术，可在2600℃条件下长时间稳定运行，感应炉温度甚至可达3000℃。设备支持多温区独立控温，配备特殊高温红外测量技术，确保控温精准、误差极小。此外，可选配外循环冷却系统，显著缩短降温时间，提高生产效率。其最高温度可达2600℃，温控精度为±5℃，适配真空、H₂、N₂、Ar等多种工艺气氛。
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立式真空裂解炉是一款专为碳陶复合材料、陶瓷基复合材料、碳化硅纤维等材料的高温裂解工艺设计的高性能设备。其采用多温区独立控温技术，确保温度均匀性，同时配备顶立科技专属超高温、大电流引电技术，支持感应加热方式，可在高温条件下长时间稳定运行。设备可选配全密闭马弗，密封效果好，抗污染能力强，搭配多级高效尾气处理系统，实现环境友好和易清理。其最高温度可达1800℃，温控精度为±5℃，适配真空、CH4、NH3、H2、N2、Ar、空气等多种工艺气氛。
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真空烧结炉是一种专为碳化硅、氮化硅、氮化铝等高性能陶瓷材料烧结设计的高端设备。该设备采用顶立科技专属的超高温、大电流引电技术，能够在高温条件下长时间稳定运行，同时配备特殊高温红外测量技术，确保控温精准、误差极小。其专属密封马弗可有效减少硅蒸汽等副产物对加热器和绝缘材料的污染，搭配专用尾气处理装置，实现环境友好和易清理。此外，设备可选配脱脂系统，实现陶瓷制品的脱脂烧结一体化处理。
2025年06月06日 ~ 08日 
2025年06月06日 ~ 08日 
2025年06月13日 ~ 15日 
2025年06月13日 ~ 15日 
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