河南有色金属加工设备

高温台车炉1700℃ 264     

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台车炉设备广泛用于高校、科研院所、工矿企业等做粉末、军工、电子、冶金、医药、陶瓷、玻璃、机械、新材料开发、特种材料、耐火材料、建材、化工、金属烧结和金属热处理等特种实验和生产。

下开口升降炉 323     

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工作尺寸：1000mm(长）*450mm（宽）*450mm（高），外形尺寸：2米/1米/1米；

DPF再生炉 265     

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电炉外形，箱式结构，炉门为侧开，加热面5个面，炉膛里面左右和炉底炉后墙及炉门加热。

1000-1200℃箱式退火炉 281     

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1、型钢+钢板焊接炉壳，外表喷塑；2、Cr25Ni20材质不锈钢作为炉底板，不易变形；

1100℃陶艺炉 264     

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主要使用与陶艺吧，可进行家庭自制花瓶、陶瓷器皿的烧制，智能温控器全自动快速升温，炉门电动推杆升降。

1000℃盐浴炉 337     

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本系列坩埚盐浴炉主要用于金属零件淬火、退火和回火等热处理用，以及盐浴处理，带烟罩和电动开炉盖，方便高校教学使用.5年超长质保。

300℃轴承浴热炉 257     

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采用碳钢板或不锈钢板，满焊做成的炉膛，耐火纤维为保温材料，节能环保。

900℃石碱熔化炉 448     

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此加热炉专用于石硫加碱催化剂，选金矿用剂。2013年国家环保重点推广项目。能够有效减少对环境的污染。是2013年新产品。为电阻式发热炉，以优质专用钢制造炉胆，直径1100*1500为载体，加热融化所需物料。2014***新10型：1、一次投料1000公斤，约两小时烧成660公斤成品。每天可以生产5500公斤成品（具体工艺不同每天产量也不同）。2，新式密封盖结构，,3、自助进料装置，4、废气处理装置。是较大工厂提***率，环保达标的***。

1400℃-1500℃全纤维实验炉 261     

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炉壳采用折边钢板焊接内外双层壳体，外表喷塑，色泽均匀，精致美观。前开口结构，操作简单方便。

1000℃-1200℃马弗炉 578     

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该系列电阻炉用于实验、工矿企业、科研单位进行化学分析、物理鉴定及小型钢件等金属材料的热处理。

1000℃箱式真空气氛炉 487     

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用途：主要用于一些小部件的在气氛、真空环境下的低污染、无污染、还原、无氧化等烧结处理。

1200℃管式实验炉 466     

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采用折边钢板焊接壳体，炉体与控制上下一体，外表喷塑，色泽均匀，精致美观，防腐耐用。

140型回转实验炉 420     

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依据需方使用求开发设计生产。用电阻发热原理，将电能通过加热器转换为热能，加热处理所需物料（含氟化物，强腐蚀性）。

马弗炉 429     

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质量上乘，性能优异，每年都获得数千万新老客户的一致好评。功能卓越与设计美观，加上超值性价比，使我们高温电炉是客户的最终选择，温度和尺寸均可定制。电炉免费保修一年，终身维护，24小时售后服务。

有色金属生产线 413     

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该设备主要用于铝锭、铜锭等有色金属的自动铸造，每小时可达到10吨。主要结构包括：U型钢槽钢焊接钢体、输送机、调速电机、减速机、大小链轮链条、配电系统。

梯形铝锭在线提温加热炉 462     

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该套设备用于梯形铝锭在线提温用，设备额定功率在300kw—500kw，额定频率200—300HZ，在线提温60-250℃，对于截面2350-3000平方毫米铝锭每小时产量5.5T以上，由于设备自动调整输出功率，设备吨耗电量控制在50kW.h/t以内;设备底部设计有直线导轨，可横向移动1.5米，以方便在不需要铝锭加热时将设备移开。

感应熔铜炉 398     

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产品特点：1、温度可控，升温速度快;2、可选择使用石墨坩埚或做炉衬;3、容量范围0.1T-10T;4.可根据客户要求增加熔炼控制系统，精确控制熔炼过程。

感应熔铝炉 416     

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应用：熔炼铝合金的熔铝炉;原材料包括铝锭、废铝铸件、废铝门窗、废电线、废罐等。可配备自动化铝锭生产线进行自动化铸造。配置：熔体、控制柜、(减速机、控制箱)

PECVD带尾气处理装置 284     

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等离子体增强化学气相沉积(PECVD)是一种利用辉光放电(等离子体)反应生成含有气态物质的薄膜的薄膜生长技术。该系统由高功率射频电源、真空系统、管式炉组成，配备喷淋塔、活性炭箱，满足尾气处理的需要。该设备是为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，反应气体在辉光放电等离子体中能受激分解、离解和离化，从而大大提高了反应物的活性

CVD管式炉 466     

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该CVD管式炉适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、材料的气氛烧结等实验。主要用于大学，研究中心和生产企业进行气相沉积相关的实验与生产。

1100度CVD管式炉 288     

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这款CVD管式炉广泛用于样品在真空和气氛条件下的烧结、涂层、纳米管研究、钎焊、退火等实验，适用于高校、研究机构实验室和工矿企业进行CVD工艺的科研和实验。

自动压力控制CVD管式炉 294     

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主要用于稀土制备、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造、金属热处理等工业真空烧结、保护气氛烧结、CVD实验、真空沉积、材料成分测定场合。

三温区CVD管式炉 258     

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该设备适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。主要用于大学，研究中心和生产企业进行气相沉积相关的实验与生产。

LCD触摸屏CVD高温炉 264     

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这款CVD炉可用于碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。

化学气相沉积系统 348     

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适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。

PECVD旋转管式炉 585     

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适用于粉体材料的表面薄膜沉积，在超大规模集成电路、光电器件、MEMS等领域具有广泛的应用。

管式PECVD等离子气相沉积系统 271     

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PECVD等离子气相沉积设备是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜, 该系统主要用于金属粉末镀膜。

两通道CVD系统 293     

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本CVD系统带水冷法兰双路流量计并配有双极旋片泵、水冷机、数字真空计且该CVD系统可抽真空、通气氛，该设备适用于各种CVD实验。

CVD 化学气相沉积系统 467     

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CVD 管式炉系统由：管式炉加热区系统，质子流量计供气系统，真空系统和气体定量系统组成。适用于 CVD 工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基 片导电率测试、ZnO 纳米结构的可控生长、陶瓷电容 (MLCC) 气氛烧结等实验。

六通道PECVD设备 339     

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该pecvd设备是由管式炉真空泵和六通道质量流量计气体流动系统组成的。它可以混合1-6种气体用于PECVD或扩散。